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磁控溅射法制备NiZnCo铁氧体磁性薄膜的后退火处理研究
1
作者 徐小玉 《真空》 CAS 2013年第1期28-30,共3页
研究了后退火处理对磁控溅射法制备NiZnCo铁氧体磁性薄膜的成分、组织及性能影响。用EPMA、XRD和AFM分别表征后退火处理前后薄膜的成分、物相和微观结构,用VSM测试后退火处理前后的薄膜磁性能。结果表明经后退火处理后,薄膜中氧含量增加... 研究了后退火处理对磁控溅射法制备NiZnCo铁氧体磁性薄膜的成分、组织及性能影响。用EPMA、XRD和AFM分别表征后退火处理前后薄膜的成分、物相和微观结构,用VSM测试后退火处理前后的薄膜磁性能。结果表明经后退火处理后,薄膜中氧含量增加,结构更为稳定,薄膜由非晶态彻底转变为晶态;晶粒尺寸细小,排列均匀致密;磁滞回线更为狭长,饱和磁化强度明显增大。 展开更多
关键词 后退火处理 磁性铁氧体薄膜 晶态转变
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