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基于氧化铝模板表面上的钴反点阵薄膜的制备、表征及模拟
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作者 洪羽 毛忠泉 陈弟虎 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A03期1044-1047,共4页
采用铝阳极氧化方法结合底部开孔处理的方法制备了孔分布有序排列、孔径均匀、孔间距分别为60，100，150nm的3种阳极氧化铝（AAO）模板．采用磁控溅射方法在其表面上溅射Co薄膜．利用扫描电镜对材料进行了表征．采用MPMS测量了孔间距为1... 采用铝阳极氧化方法结合底部开孔处理的方法制备了孔分布有序排列、孔径均匀、孔间距分别为60，100，150nm的3种阳极氧化铝（AAO）模板．采用磁控溅射方法在其表面上溅射Co薄膜．利用扫描电镜对材料进行了表征．采用MPMS测量了孔间距为150nm磁性反点阵的磁滞回线，并利用微磁学计算软件OOMMF模拟反点阵的磁化反转并与实验结果相比较。模拟结果表明磁化反转过程受到孔的影响。实测磁滞回线与模拟有偏差，最后给出了产生差别的可能原因． 展开更多
关键词 氧化铝模板 磁性反点阵 磁滞回线 微磁学模拟
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