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C(膜)/Si(SiO_2)(纳米微粒)/C(膜)热处理的形态及结构分析 被引量:2
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作者 邱晓燕 李建 +4 位作者 赵保刚 刘存业 王跃 刘晓东 林跃强 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2001年第4期439-444,共6页
用直流辉光溅射 +真空镀膜法制备了一种新型结构的硅基纳米发光材料—C(膜 ) /Si(SiO2 ) (纳米微粒 ) /C(膜 )夹层膜 ,并对其进行了退火处理。用TEM、SEM、XRD和XPS对其进行了形态结构分析。TEM观察表明 :Si(SiO2 )纳米微粒基本呈球形 ... 用直流辉光溅射 +真空镀膜法制备了一种新型结构的硅基纳米发光材料—C(膜 ) /Si(SiO2 ) (纳米微粒 ) /C(膜 )夹层膜 ,并对其进行了退火处理。用TEM、SEM、XRD和XPS对其进行了形态结构分析。TEM观察表明 :Si(SiO2 )纳米微粒基本呈球形 ,粒径在 30nm左右。SEM观察表明 :夹层膜样品总厚度约为 5 0 μm ,膜表面比较平整、致密。 4 0 0℃退火后 ,样品表面变得凹凸不平 ,出现孔状结构 ;6 5 0℃退火后 ,样品表面最平整、致密且颗粒均匀。XRD分析表明 :制备出的夹层膜主要由SiO2 和Si组成 ,在C原子的还原作用和氧气的氧化作用的共同作用下 ,SiO2 和Si的含量随加热温度的升高而呈现交替变化 :4 0 0℃时 ,C的还原作用占主导地位 ,SiO2 几乎全部被还原成了Si,此时Si含量最高 ;4 0 0~ 6 5 0℃时 ,氧化作用占主导地位 ,Si又被氧化成SiO2 ,Si含量降低 ,SiO2 含量逐渐上升 ,在 6 5 0℃达到最高。XPS分析表明 :在加热过程中 ,C原子逐渐扩散进入Si(SiO2 )微粒层 ,在 6 5 展开更多
关键词 纳米微粒 夹层膜 // 热处理 基纳米发光材料 形态 结构
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