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溅射气压对Ge_2Sb_2Te_5薄膜光学常数的影响
1
作者 谢泉 侯立松 +3 位作者 干福熹 阮昊 李晶 李进延 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期313-316,共4页
实验研究了氩气气压对溅射制备的Ge2 Sb2 Te5 薄膜的光学常数随波长变化的影响 ,结果表明 :随薄膜制备时氩气气压的增加 ,Ge2 Sb2 Te5 薄膜的折射率n先增大后减小 ,而消光系数k先减小后增大。二者都随波长的变化而变化 ,且在长波长范围... 实验研究了氩气气压对溅射制备的Ge2 Sb2 Te5 薄膜的光学常数随波长变化的影响 ,结果表明 :随薄膜制备时氩气气压的增加 ,Ge2 Sb2 Te5 薄膜的折射率n先增大后减小 ,而消光系数k先减小后增大。二者都随波长的变化而变化 ,且在长波长范围变化较大 ,短波长范围变化较小 ,解释了溅射气压对Ge2 Sb2 Te5 展开更多
关键词 氩气气压 光学常数 GE2SB2TE5薄膜 溅射气压 碲锑锗薄膜
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