-
题名离子镀硬质膜技术的最新进展和展望
被引量：59
- 1
-
-
作者
闻立时
黄荣芳
-
机构
中国科学院金属研究所
香港城市大学
-
出处
《真空》
CAS
北大核心
2000年第1期1-11,共11页
-
文摘
电弧离子镀至今仍是硬质膜的主流技术 ,但是 ,其内容与 80年代比已大为丰富。首先 ,镀层材料由单一氮化钛 ,发展到氮化钛与碳氮化钛、氮化钛铝、氮化铬等多种材料并用。然后 ,又进一步发展为多层复合镀层。远离平衡态过程的低温沉积技术日趋成熟 ,使各种机械零件的需磨损耐腐蚀镀层逐步走向实用化 ,促进了机械工业水平全面提高。低温沉积技术大幅度降低镀层内应力 ,使镀层的厚度能够达到数十 ,甚至上百微米 ,满足了发展高性能特种镀层的需要 ,如 Ti B2 抗空蚀镀层、Ti(C,N)抗冲蚀镀层 ,电弧离子镀制备 MCr Al Y镀层 ,现已进入产业化。与此同时 ,Ti N复合膜作为耐磨耐蚀镀层也取得了成功。展望 2 1世纪 ,复合多层膜将得到更加广泛的应用 ,并向纳米复合膜发展。镀膜机内渗氮镀膜连续二重工艺可望成功 ,并在提高耐磨耐蚀性上取得显著效果。远离平衡态镀膜技术水平将进一步提高 ,成本大幅度降低 ,并在合成新型镀层材料、制备厚镀层。
-
关键词
硬质新材料
低温沉积
硬质膜技术
离子镀
-
Keywords
titanium nitride
arc ion plating
low temperature deposition
refractory compound
protective coating
-
分类号
TB43
[一般工业技术]
O484
[理学—固体物理]
-
