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两步退火法对硫化铅薄膜光电性能的影响
1
作者 范良朝 黄智 +3 位作者 吕全江 刘桂武 乔冠军 刘军林 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第10期278-284,共7页
采用先低温O2气氛退火,后高温N2气氛退火的两步退火法工艺,探究了两步退火法对化学浴沉积(CBD)制备的多晶硫化铅(PbS)薄膜光电性能的影响。结果表明,相比于一步退火法,两步退火法所得的PbS薄膜具有较大的晶粒尺寸、较少的晶界和良好的... 采用先低温O2气氛退火,后高温N2气氛退火的两步退火法工艺,探究了两步退火法对化学浴沉积(CBD)制备的多晶硫化铅(PbS)薄膜光电性能的影响。结果表明,相比于一步退火法,两步退火法所得的PbS薄膜具有较大的晶粒尺寸、较少的晶界和良好的光电性能。在两步退火法中,当第二步退火时间为80 min时,PbS薄膜的响应度为2.33 A·W^(-1),比探测率为1.18×10^(10)cm·H1/2·W^(-1),与一步退火法相比分别提高了259%和236%,即两步退火法可以在传统一步退火法的基础上进一步提高PbS红外光电探测器的性能。 展开更多
关键词 薄膜 硫化铅薄膜 退火 化学浴沉积 响应度 比探测率
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浸没型硫化铅探测器的可替代性 被引量：2
2
作者 刘晞贤 苏小会 +2 位作者 邹红军 范诚 张薇 《电子工艺技术》 2016年第3期163-165,共3页
为了解决浸没型硫化铅红外探测器在颠簸环境中使用其机械可靠性不高的问题,提出将硫化铅薄膜直接沉淀在钛酸锶单晶透镜的平面,代替先在石英基板上沉淀硫化铅薄膜然后浸没于透镜上,再装配形成探测器,有效地解决了以上问题,同时其光电性... 为了解决浸没型硫化铅红外探测器在颠簸环境中使用其机械可靠性不高的问题,提出将硫化铅薄膜直接沉淀在钛酸锶单晶透镜的平面,代替先在石英基板上沉淀硫化铅薄膜然后浸没于透镜上,再装配形成探测器,有效地解决了以上问题,同时其光电性能优于浸没型器件。由于硫化铅薄膜直接沉淀在透镜的平面上,较之于采用介质粘合的浸没型探测器,结构更简单,机械可靠性更高。 展开更多
关键词 硫化铅薄膜 透镜 浸没 直接沉淀 可靠性
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模糊自整定PID控制算法在薄膜型硫化铅红外传感器制作中的应用
3
作者 贾涛 冯刚 +1 位作者 焦慧 高飞 《物联网技术》 2014年第11期35-36,38,共3页
为了更好地解决薄膜型硫化铅红外传感器在化学沉淀法制膜过程中的温度的控制问题,采用模糊自整定PID控制算法设计了一个化学沉淀温度自动控制系统,控温精度达到±1.5℃以内,达到了薄膜型硫化铅红外传感器化学制膜过程的温度控制要求。
关键词 模糊自整定PID控制 89C55WD单片机 硫化铅薄膜 红外传感器
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利用化学溶液法制备硫化铅薄膜及其特性研究
4
作者 兰慧琴 《机电技术》 2021年第6期55-58,89,共5页
通过化学溶液法在玻璃基片上沉积硫化铅(PbS)薄膜,利用原子力显微镜(AFM)分析薄膜的表面形貌,采用X射线衍射(XRD)技术分析薄膜的结晶性能,利用透射光谱分析薄膜的光学性质。研究了退火对PbS薄膜性能的影响。结果表明:经过250℃退火处理... 通过化学溶液法在玻璃基片上沉积硫化铅(PbS)薄膜,利用原子力显微镜(AFM)分析薄膜的表面形貌,采用X射线衍射(XRD)技术分析薄膜的结晶性能,利用透射光谱分析薄膜的光学性质。研究了退火对PbS薄膜性能的影响。结果表明:经过250℃退火处理,减小了PbS薄膜表面颗粒的平均高度,细化了PbS薄膜的晶粒大小,并改善了PbS薄膜表面形貌的均匀性;退火不改变PbS薄膜的晶体结构,其晶体结构依然是立方晶型;但退火后PbS薄膜的透过率明显降低。 展开更多
关键词 硫化铅薄膜 化学浴沉积法 退火
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反应脉冲激光淀积硫化铅膜的SEM和XPS研究
5
作者 席明霞 武四新 +4 位作者 郑隽 吴正亮 李缙 赵国珍 曹基文 《量子电子学报》 CAS CSCD 1997年第5期475-480,共6页
以扫描电镜（SEM）和X射线光电子能谱（XPS）等多种测试手段研究分析了用反应脉冲激光淀积技术制备的PbS薄膜。分析结果表明，利用该淀积方法可以得到附着力好、符合化学计量比的硫化铅薄膜。在环境气压p＝1．33×103Pa，靶与基片间... 以扫描电镜（SEM）和X射线光电子能谱（XPS）等多种测试手段研究分析了用反应脉冲激光淀积技术制备的PbS薄膜。分析结果表明，利用该淀积方法可以得到附着力好、符合化学计量比的硫化铅薄膜。在环境气压p＝1．33×103Pa，靶与基片间距d＝20mm，基片温度t＝100℃时淀积膜的质量较好。另外，本文对其淀积机制也作了较为详细的阐述。 展开更多
关键词 反应淀积 激光淀积 硫化铅薄膜
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