摇摆式圆盘研磨机研磨轨迹型态的研究 被引量：8

1

作者 郑文 《重型机械科技》 2005年第2期1-3,共3页

研磨是使用研具和游离磨料进行微量加工的工艺方法,研磨运动轨迹是保证工件表面被均匀地切削,获得良好加工质量的决定性因素。本文介绍了摇摆式圆盘研磨机研磨轨迹模型和实验仿真情况,实验结果表明:当转速比越不规则或越接近除不尽时,... 研磨是使用研具和游离磨料进行微量加工的工艺方法,研磨运动轨迹是保证工件表面被均匀地切削,获得良好加工质量的决定性因素。本文介绍了摇摆式圆盘研磨机研磨轨迹模型和实验仿真情况,实验结果表明:当转速比越不规则或越接近除不尽时,研磨轨迹的分布越致密;且轨迹在加工面中心呈集中的趋势,使工件加工面中心处有凹陷的现象。 展开更多

关键词 研磨 研磨轨迹 实验仿真

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精密球超精密加工技术的研究进展 被引量：11

2

作者 周芬芬 袁巨龙 +2 位作者 姚蔚峰 吕冰海 阮德南 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第13期1528-1539,共12页

掌握精密球超精密加工过程中的球面研磨轨迹分布特性以及各工艺参数对加工结果的影响,对提高精密球加工精度与效率十分重要。对精密球超精密加工技术的发展及研磨均匀性的评价进行回顾,并根据精密球超精密加工技术的发展脉络,阐述当前... 掌握精密球超精密加工过程中的球面研磨轨迹分布特性以及各工艺参数对加工结果的影响,对提高精密球加工精度与效率十分重要。对精密球超精密加工技术的发展及研磨均匀性的评价进行回顾,并根据精密球超精密加工技术的发展脉络,阐述当前主要精密球超精密加工技术的加工原理及加工实例。从材料去除率、加工精度、批一致性等方面对几种精密球超精密加工技术进行比较,并以提高加工精度及加工效率为目标,对精密球超精密加工技术的发展趋势进行预测。 展开更多

关键词 精密球 超精密加工 研磨均匀性 研磨轨迹 批一致性

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用图形变换法研究行星机构双面研磨轨迹 被引量：8

3

作者 刘建河 杨建东 《长春理工大学学报（自然科学版）》 2002年第2期40-42,共3页

本文首先以行星机构双面研磨轨迹方程的建立过程为例 ,论述了如何运用图形变换的方法来建立行星机构双面研磨的轨迹方程 ;而后又利用计算机对轨迹的形状和分布进行了模拟。结果证明 ,行星机构双面研磨的研磨轨迹是一簇摆线 ,摆线的分布... 本文首先以行星机构双面研磨轨迹方程的建立过程为例 ,论述了如何运用图形变换的方法来建立行星机构双面研磨的轨迹方程 ;而后又利用计算机对轨迹的形状和分布进行了模拟。结果证明 ,行星机构双面研磨的研磨轨迹是一簇摆线 ,摆线的分布范围及分布状态与磨盘半径的大小有着直接的关系 。 展开更多

关键词 行星机构 研磨轨迹 图形变换 齐次坐标 双面研磨

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研磨机研磨运动轨迹分析 被引量：10

4

作者 杨昌明 朱利 张冒 《机床与液压》 北大核心 2012年第15期7-9,共3页

研磨是一种利用磨具通过磨料作用于工件表面,进行微量加工的工艺方法。针对某端面研磨机的设计,提出两自由度差动轮系机构的主传动方案,分析工件与研具之间的相对运动。采用Matlab软件进行运动轨迹仿真,结果表明:研磨机中行星齿轮公转... 研磨是一种利用磨具通过磨料作用于工件表面,进行微量加工的工艺方法。针对某端面研磨机的设计,提出两自由度差动轮系机构的主传动方案,分析工件与研具之间的相对运动。采用Matlab软件进行运动轨迹仿真,结果表明:研磨机中行星齿轮公转转速与自转转速的比值与研磨运动轨迹及研磨质量密切相关,从而为研磨机的产品设计及工况选择提供了理论依据。 展开更多

关键词 研磨机 研磨轨迹 仿真分析

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精密球体研磨技术的现状与发展方向 被引量：5

5

作者 周兆忠 赵萍 +1 位作者 陈苗青 袁巨龙 《新技术新工艺》 2005年第5期25-28,共4页

精密球是圆度仪、陀螺、轴承和精密测量中的重要元件,并常作为精密测量的基准,在精密设备和精密加工中具有十分重要的地位,在精密球体的制造工艺中,关键技术是最后的精密研磨。介绍了国内外精密球体研磨技术的现状,分析了现有研磨技术... 精密球是圆度仪、陀螺、轴承和精密测量中的重要元件,并常作为精密测量的基准,在精密设备和精密加工中具有十分重要的地位,在精密球体的制造工艺中,关键技术是最后的精密研磨。介绍了国内外精密球体研磨技术的现状,分析了现有研磨技术的局限性,指出了今后对精密球成球机理系统性研究的一些关键问题。 展开更多

关键词 精密球 研磨技术 研磨轨迹

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Si_(3)N_(4)陶瓷球研磨轨迹分析及其对表面质量的影响机制 被引量：3

6

作者 孙健 陈伟 +2 位作者 姚金梅 李颂华 田军兴 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第1期253-265,共13页

目的明确在相同的研磨液配比、磨料类型,不同的研磨盘转速、研磨装置施加的载荷、磨粒粒径下,陶瓷球研磨轨迹对陶瓷球表面质量的影响,确定锥形研磨法加工的氮化硅陶瓷球的最优研磨参数,提高陶瓷球的表面质量。方法首先建立研磨盘和氮化... 目的明确在相同的研磨液配比、磨料类型,不同的研磨盘转速、研磨装置施加的载荷、磨粒粒径下,陶瓷球研磨轨迹对陶瓷球表面质量的影响,确定锥形研磨法加工的氮化硅陶瓷球的最优研磨参数,提高陶瓷球的表面质量。方法首先建立研磨盘和氮化硅陶瓷球的相对运动模型,利用MATLAB模拟不同研磨参数的下氮化硅陶瓷球的研磨轨迹,分析得到研磨参数和研磨轨迹的变化关系;再利用锥形研磨装置进行单因素实验验证,参与实验的3个变量设定为磨粒型号(粒径)、研磨盘转速和研磨装置施加载荷,将实验结果取样,通过粗糙度仪测量球体的表面粗糙度,用扫描电镜和超景深三维显微镜检测研磨后的陶瓷球表面形貌,结合仿真分析和实验结果探究研磨参数对加工后表面质量的影响。结果将不同仿真轨迹下得到的研磨参数变化规律与实验结果相结合,得到了最佳的研磨参数,即研磨盘转速为50 r/min,施加的载荷为1.30 N,磨粒类型为W7。在此条件下得到的陶瓷球表面的粗糙度为0.0096μm,基本能达到实际生产中对G3级精度全陶瓷球的质量要求。结论陶瓷球的表面质量受到研磨盘转速、研磨装置施加载荷及磨粒粒径的影响较大,由仿真分析和实验结合可知,在研磨过程中随着磨粒粒径的减小,以及研磨盘转速和载荷的下降,陶瓷球的研磨轨迹趋于稀疏,表面粗糙度Ra呈下降趋势。研磨氮化硅陶瓷球时取粒径较小的磨粒,以较低的研磨盘转速和较小的研磨装置施加载荷有利于提高其表面质量。此研究成果对提高陶瓷球的表面质量具有重要的指导意义。 展开更多

关键词 氮化硅陶瓷球 锥形研磨法 研磨参数 研磨轨迹 单因素实验 表面质量

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空间弯管内表面磁粒研磨位姿轨迹优化试验研究

7

作者 王硕 陈松 +2 位作者 程海东 袁鲁 解志文 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第14期146-156,共11页

目的利用机械手对末端研磨装置姿态的灵活可控性,设计一种可变换研磨姿态的加工方式,以高效去除紫铜弯管内表面的材料缺陷,并解决其在常规加工方式下材料去除不均匀的问题。方法利用ADAMS和EDEM软件分别仿真模拟出磁轭以单一研磨姿态和... 目的利用机械手对末端研磨装置姿态的灵活可控性,设计一种可变换研磨姿态的加工方式,以高效去除紫铜弯管内表面的材料缺陷,并解决其在常规加工方式下材料去除不均匀的问题。方法利用ADAMS和EDEM软件分别仿真模拟出磁轭以单一研磨姿态和变换研磨姿态驱动下磁性磨粒群在弯管内表面的运动轨迹和切、法向累计能量,并以此作为材料去除均匀性和研磨效率的评价指标。最后搭建试验平台对2种研磨方式进行试验验证。结果通过磁轭单一研磨姿态与变换研磨姿态(15°起始研磨偏角)2种加工方式对紫铜弯管内表面研磨50 min后的表面形貌可知,前者在加工区域内的研磨痕迹深浅不一、且分布差异性较大。测得表面粗糙度为0.3μm。后者在原始表面缺陷完全去除的前提下,仅留下了较浅的研磨痕迹,表面平整度较高。测得表面粗糙度为0.189μm。结论在相同的加工条件下,通过在合理范围内增大磁轭的起始研磨姿态偏角,可提高变换研磨姿态驱动下磁性磨粒运动轨迹线的覆盖率、结构致密程度、交错频率,有利于提高弯管内表面的研磨均匀性。同时在研磨过程中会增大磁场梯度的变化幅度,进而增强磁性磨粒群的流动性,对其切削刃替换及使用寿命方面有着积极的影响。研磨后弯管内表面所受的累计能量也会随之增加,最终实现了研磨效率的提高。 展开更多

关键词 研磨均匀性 累计能量 研磨轨迹 研磨效率 磁粒研磨 机械手

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基于自转一阶非连续式微球双平盘研磨的运动学分析与实验研究

8

作者 吕迅 李媛媛 +3 位作者 欧阳洋 焦荣辉 王君 杨雨泽 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第8期133-144,共12页

目的分析不同研磨压力、下研磨盘转速、保持架偏心距和固着磨料粒度对微球精度的影响,确定自转一阶非连续式双平面研磨方式在加工GCr15轴承钢球时的最优研磨参数,提高微球的形状精度和表面质量。方法首先对自转一阶非连续式双平盘研磨... 目的分析不同研磨压力、下研磨盘转速、保持架偏心距和固着磨料粒度对微球精度的影响,确定自转一阶非连续式双平面研磨方式在加工GCr15轴承钢球时的最优研磨参数,提高微球的形状精度和表面质量。方法首先对自转一阶非连续式双平盘研磨方式微球进行运动学分析,引入滑动比衡量微球在不同摩擦因数区域的运动状态,建立自转一阶非连续式双平盘研磨方式下的微球轨迹仿真模型,利用MATLAB对研磨轨迹进行仿真,分析滑动比对研磨轨迹包络情况的影响。搭建自转一阶非连续式微球双平面研磨方式的实验平台,采用单因素实验分析主要研磨参数对微球精度的影响,得到考虑圆度和表面粗糙度的最优参数组合。结果实验结果表明,在研磨压力为0.10 N、下研磨盘转速为20 r/min、保持架偏心距为90 mm、固着磨料粒度为3000目时,微球圆度由研磨前的1.14μm下降至0.25μm,表面粗糙度由0.1291μm下降至0.0290μm。结论在自转一阶非连续式微球双平盘研磨方式下,微球自转轴方位角发生突变,使研磨轨迹全覆盖在球坯表面。随着研磨压力、下研磨盘转速、保持架偏心距的增大,微球圆度和表面粗糙度呈现先降低后升高的趋势。随着研磨压力与下研磨盘转速的增大,材料去除速率不断增大,随着保持架偏心距的增大,材料去除速率降低。随着固着磨料粒度的减小,微球的圆度和表面粗糙度降低,材料去除速率降低。 展开更多

关键词 自转一阶非连续 双平盘研磨 微球 运动学分析 研磨轨迹 研磨参数

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行星式双面研磨轨迹均匀性研究 被引量：6

9

作者 杨金双 朱祥龙 《机械研究与应用》 2015年第6期41-43,共3页

蓝宝石(α-Al_2O_3)是一种机光电性能优良的功能晶体材料,在半导体和光电子等行业得到了广泛的应用。行星式双面研磨是蓝宝石基片平面加工的重要手段,加工过程中磨粒轨迹的均匀性对工件的加工精度和表面质量有着重要的影响。通过运动学... 蓝宝石(α-Al_2O_3)是一种机光电性能优良的功能晶体材料,在半导体和光电子等行业得到了广泛的应用。行星式双面研磨是蓝宝石基片平面加工的重要手段,加工过程中磨粒轨迹的均匀性对工件的加工精度和表面质量有着重要的影响。通过运动学分析建立了双面研磨磨粒轨迹方程和速度方程,提出一种基于Matlab离散统计的磨粒轨迹均匀性定量评价方法,并求取设定参数下双面研磨轨迹分布均匀性的方差值。 展开更多

关键词 蓝宝石 双面研磨 研磨轨迹 轨迹均匀性 统计分析

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陶瓷球研磨成型机理的研究 被引量：4

10

作者 常敏 吕冰海 +2 位作者 王志伟 楼飞燕 袁巨龙 《机械工程师》 2003年第9期47-50,共4页

讨论了陶瓷球的成球机理,分析了一种新的研磨加工方法,即采用三块能够独立选择的研磨盘,通过控制研磨盘的转速,调整自旋转角的大小,可在较大的范围内取值,同时对计算机仿真和实验的结果进行了对比。结果表明:该方法结合化学机械抛光(CMP... 讨论了陶瓷球的成球机理,分析了一种新的研磨加工方法,即采用三块能够独立选择的研磨盘,通过控制研磨盘的转速,调整自旋转角的大小,可在较大的范围内取值,同时对计算机仿真和实验的结果进行了对比。结果表明:该方法结合化学机械抛光(CMP)等先进的抛光工艺,能够有效地提高陶瓷球的加工效率和质量。 展开更多

关键词 陶瓷球 成球机理 去除效率 研磨轨迹

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平面磁力研磨轨迹的研究与分析 被引量：6

11

作者 焦安源 邹艳华 《制造技术与机床》 CSCD 北大核心 2011年第10期90-93,共4页

利用自行设计的试验装置,改善了磁力刷的研磨轨迹。结果表明:改善磁力刷研磨轨迹后,不仅可以减小表面粗糙度值、提高平面精度,还改善了研磨截面微观形状均匀性。另外,可通过采取理论分析的方法对研磨效果进行预测。

关键词 磁力研磨 研磨轨迹 表面粗糙度 材料去除

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平面研磨抛光轨迹研究 被引量：4

12

作者 赵萍 陶黎 +1 位作者 王志伟 袁巨龙 《航空精密制造技术》 2009年第2期1-6,共6页

介绍了平面研磨抛光轨迹均匀性的研究方法,详细阐述了双轴式(包括定偏心式和不定偏心式)、直线式、摇摆式、计算机控制小工具式单面研磨抛光轨迹和行星式双面研磨抛光轨迹的数学函数及其轨迹均匀性,指出了当前轨迹研究中存在的不足。

关键词 平面研磨 平面抛光 研磨轨迹 轨迹均匀性

原文传递

模具数字化磁力研磨加工中研磨运动轨迹的研究 被引量：5

13

作者 张鹏 鲁红梅 +2 位作者 黄伟九 李晖 许洪斌 《模具工业》 北大核心 2005年第6期52-56,共5页

介绍了模具制造过程中,模具表面数字化磁力研磨加工的原理和特点,分析了曲面磁力研磨加工轨迹对研磨质量的影响,提出了相应的解决办法。

关键词 数字化 磁力研磨 模具曲面 研磨轨迹

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四轴球体研磨机研磨轨迹的研究 被引量：4

14

作者 程相文 王凌霄 《制造业自动化》 北大核心 2013年第20期98-100,107,共4页

四轴球体研磨机是精密球体加工的有效手段。本文首先介绍四轴球体研磨机的机构和成球条件,并对其进行运动学分析。其次运用坐标转换法对研具的运动轨迹进行分析研究,并用matlab对轨迹进行仿真,结果表明轨迹均匀的布满整个球体。最后提... 四轴球体研磨机是精密球体加工的有效手段。本文首先介绍四轴球体研磨机的机构和成球条件,并对其进行运动学分析。其次运用坐标转换法对研具的运动轨迹进行分析研究,并用matlab对轨迹进行仿真,结果表明轨迹均匀的布满整个球体。最后提出轨迹均匀性的评价方法,研究结果表明随着研磨的进行轨迹均匀度呈现变好的趋势。 展开更多

关键词 研磨轨迹 仿真 均匀性 轨迹评价

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研磨驱动方式和转速比对磨粒运动轨迹的影响研究 被引量：4

15

作者 杨杰 洪滔 +3 位作者 文东辉 陈珍珍 张丽慧 姬孟托 《机电工程》 CAS 北大核心 2018年第5期453-458,共6页

针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹重复性较高、研磨抛光均匀性不足的问题,引入了无理转速比概念,以进一步提升研磨加工均匀性。建立了定偏心主驱动式和直线摆动驱动式下的轨迹数学模型,通过Matlab进行了运动学仿真,对两种驱动方式和... 针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹重复性较高、研磨抛光均匀性不足的问题,引入了无理转速比概念,以进一步提升研磨加工均匀性。建立了定偏心主驱动式和直线摆动驱动式下的轨迹数学模型,通过Matlab进行了运动学仿真,对两种驱动方式和不同转速比下的单颗与多颗磨粒运动轨迹进行了对比研究,最后用离散系数对两种驱动方式在不同转速比下的研磨轨迹均匀性进行了分析。研究结果表明:当转速比为有理数时,研磨轨迹重复,转速比大小与驱动方式对轨迹均匀性影响较大;而当转速比为无理数时,研磨轨迹开放不闭合,其轨迹均匀性优于有理数的,且转速比大小与驱动方式对轨迹均匀性影响较小;该研究为选择合理的驱动方式与转速比提供了理论依据,有利于工件被加工表面质量的提高。 展开更多

关键词 研磨轨迹 驱动方式 无理数转速比 轨迹均匀性

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基于廓形识别的弯管内表面精密磨削试验研究 被引量：3

16

作者 程淼 陈松 +3 位作者 徐进文 张霄烽 陈燕 韩冰 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第11期372-382,共11页

目的解决弯管内表面磁粒研磨工艺中手动采点所产生的随机误差大、研磨间隙无法保证以及位姿不准确等问题。方法结合工业机器人与工业相机,设计并实现了弯管廓形中线的快速获取及研磨位姿计算的工艺方法。首先,分析了弯管内表面磁粒研磨... 目的解决弯管内表面磁粒研磨工艺中手动采点所产生的随机误差大、研磨间隙无法保证以及位姿不准确等问题。方法结合工业机器人与工业相机,设计并实现了弯管廓形中线的快速获取及研磨位姿计算的工艺方法。首先,分析了弯管内表面磁粒研磨工艺的基本原理,根据研磨过程中单颗磨粒的受力状态以及对研磨区域的磁场模拟,得出影响研磨压力的主要工艺参数;其次,利用工业相机获取弯管图像,通过图像处理算法,得到弯管的廓形中线;最后,将中线上的坐标点进行坐标转换、拟合、离散,并结合磁粒研磨工艺特点,计算出研磨过程中机器人的运动位姿,同时与手动采点法的试验结果进行对比分析,以检验该方法的可行性。结果廓形识别法提取出的研磨轨迹较为平滑,用时少,能够保持稳定的研磨间隙且更贴近实际弯管中线。在相同试验条件下,对具有180°转角的铜弯管进行研磨,经廓形识别方法研磨60 min后,表面粗糙度Ra由原始的0.854μm降至0.236μm,达到最佳。表面划痕细致且均匀,无过磨、深度划痕等缺陷,平均研磨速率比手动采点法提高了约35.8%,粗糙度的下降率提高了约3.8%。结论在弯管内表面磁粒研磨过程中,廓形识别法能快速准确地获取弯管廓形中线并计算机器人研磨位姿,在保持正确研磨位姿的同时,能够维持稳定的研磨间隙,可有效提高弯管内表面磁粒研磨效率及表面质量。 展开更多

关键词 磁粒研磨 弯管 廓形中线 研磨轨迹 受力状态 研磨效率

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模具曲面数字化磁力研磨加工中研磨量的控制方法 被引量：2

17

作者 张鹏 陈元芳 刘春 《工具技术》 北大核心 2005年第7期33-36,共4页

介绍了模具曲面数字化磁力研磨加工的原理和特点,针对曲面磁力研磨加工中各部分研磨量不均匀的问题,分析了影响曲面研磨量的主要因素,提出了从磁粒选择、磁极形状和研磨轨迹等方面控制研磨量的方法。

关键词 曲面数字化 研磨加工 研磨量 控制方法 磁力 模具 研磨轨迹 磁极形状 不均匀

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基于Hilbert曲线磁粒研磨轨迹均匀性实验研究 被引量：2

18

作者 张志鹏 陈燕 +2 位作者 潘明诗 吴炫炫 高慧敏 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第8期408-417,共10页

目的改善传统平面磁粒研磨中轨迹均匀性较差、材料去除不均匀等问题。方法首先,基于Hilbert分形曲线加工平面,对Hilbert分形曲线进行几何特征的修改,进一步改善研磨轨迹的均匀分布;其次,传统磁粒研磨平面时采用圆柱磁极,其半径方向线速... 目的改善传统平面磁粒研磨中轨迹均匀性较差、材料去除不均匀等问题。方法首先,基于Hilbert分形曲线加工平面,对Hilbert分形曲线进行几何特征的修改,进一步改善研磨轨迹的均匀分布;其次,传统磁粒研磨平面时采用圆柱磁极,其半径方向线速度的差异会导致材料出现去除量不一致等问题,使用环形磁极进行研磨,对不同长径比环形磁极进行三维静磁场模拟仿真,对比不同长径比的磁感应强度和1 mm处的磁场强度曲线,选取最佳的长径比进行研磨,在一定程度上保证材料的均匀去除;最后,利用ADAMS软件进行单个磨粒运动轨迹的仿真,建立笛卡尔坐标网格划分,利用离散系数C_(v)进行轨迹密度的数值分析,对研磨轨迹均匀性进行评价。结果长径比为3∶4的环形磁极的磁感应强度最大,可达300 mT左右。在相同条件下,分别沿传统直线往复式路径、Hilbert曲线和改进的Hilbert曲线进行仿真,经离散系数C_(v)的评定,沿改进Hilbert曲线的研磨轨迹均匀性显著提高,离散系数C_(v)为0.407,较传统往复式的离散系数提高了约43.2%,较Hilbert曲线路径的离散系数提高了约10.7%。沿改进的Hilbert曲线的9个检测点的表面粗糙度降幅基本一致,降幅曲线平缓。原始表面的加工纹理、缺陷被完全去除,研磨后表面形貌均匀平坦。结论沿改进的Hilbert加工路径进行研磨,研磨轨迹复杂多样,且分布相对均匀,确保了表面材料去除量的均一性,表面质量较好。 展开更多

关键词 磁粒研磨 研磨轨迹 Hilbert分形曲线 轨迹均匀性 磁场仿真 表面形貌

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精密球体立式研球机的创新设计

19

作者 薛会民 薛应芳 +1 位作者 常建彬 赵凯茜 《机械设计与制造》 北大核心 2023年第10期46-49,共4页

为提高精密球体的加工精度与加工效率,针对传统立式研球机的机械结构及加工特点,面向批量加工,设计了一种新型料盘外置式立式研球机。通过分析球体加工的运动原理,采用组合创新的方法,确定了新型研球机的总体机械结构,实现了总体方案的... 为提高精密球体的加工精度与加工效率,针对传统立式研球机的机械结构及加工特点,面向批量加工,设计了一种新型料盘外置式立式研球机。通过分析球体加工的运动原理,采用组合创新的方法,确定了新型研球机的总体机械结构,实现了总体方案的创新;根据新型研球机的总体结构方案,对其关键零部件进行了分析与设计;基于对球体几何运动的分析,采用数值仿真技术,对球面加工轨迹进行了仿真分析,结果显示,采用新型研球机研磨板对球体进行研磨加工,可以使球体表面研磨迹线的分布更加均匀。通过对机床总体结构方案及关键零部件的设计与分析,实现了研球机的创新设计。 展开更多

关键词 精密球体 研球机 总体结构 创新设计 数值仿真 研磨轨迹

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变位自转式双平面研磨方法仿真研究及加工实验 被引量：3

20

作者 闫雯 黄玉美 +1 位作者 高峰 穆卫谊 《机械科学与技术》 CSCD 北大核心 2014年第10期1500-1504,共5页

针对传统平面研磨方法中,工件中心研磨轨迹重复率高,研磨速度径向分布不均的缺点,基于固着磨料研磨技术提出一种变位自转式双平面研磨加工方法。工件在研具的运动中获得变化的研磨力,在隔离盘内实现变位自转的研磨运动形式。从研磨原理... 针对传统平面研磨方法中,工件中心研磨轨迹重复率高,研磨速度径向分布不均的缺点,基于固着磨料研磨技术提出一种变位自转式双平面研磨加工方法。工件在研具的运动中获得变化的研磨力,在隔离盘内实现变位自转的研磨运动形式。从研磨原理上改变了传统研磨加工中工件的运动模式,增加了工件的自由度,实现了工件在自转的同时其回转中心与研具中心存在时变的相对运动,即工件回转中心相对于研具的运动轨迹是具有时变性的曲线。不同的研磨运动形式从根本上克服了传统方法的缺点,并依此原理研制了新型数控研磨机床。通过对变位自转研磨加工轨迹曲线的仿真分析,证明了这种研磨方法有利于改善研磨相对速度分布均匀性、研磨轨迹时变性,获得更好的研磨加工质量,加工实验证明在相同加工参数下,该研磨方法相对于行星轮式的研磨方法获得了更低的表面粗糙度。 展开更多

关键词 固着磨料 变位自转 研磨轨迹 速度分布

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