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均热板扩散烧结成型质量控制
1
作者
潘国向
《机械工程师》
2024年第3期106-108,共3页
1~3 mm厚度均热板产品在试产过程中均出现过形变、砂眼、裂纹、粘连等质量缺陷问题。剖析成因与高温环境中铜片的延展性能相关,与石墨盘盘洁净度和尺寸精度相关,与烧结后铜片的脱模效果相关。为解决均热板在扩散烧结过程中产生的质量问...
1~3 mm厚度均热板产品在试产过程中均出现过形变、砂眼、裂纹、粘连等质量缺陷问题。剖析成因与高温环境中铜片的延展性能相关,与石墨盘盘洁净度和尺寸精度相关,与烧结后铜片的脱模效果相关。为解决均热板在扩散烧结过程中产生的质量问题,文中进行了铜片高温延展性能的试验,测试石墨盘盘接触面平整度,对扩散烧结参数进行优化,采用氮化硼脱模方法等,保证了均热板在扩散烧结工艺的产品质量。
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关键词
均热板
扩散焊接
氮化硼
粘连
石墨
盘
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职称材料
真空烤盘炉研制及石墨盘清洁效果检测方法
2
作者
马昊鹏
张革
+3 位作者
邓蕊
杜程
陈世斌
谢力
《半导体技术》
CAS
北大核心
2023年第4期353-357,共5页
在金属有机化学气相沉积(MOCVD)外延生长过程中作为衬底片承载器的石墨盘表面不可避免地会附着GaN、AlN等残留沉积物,其会导致外延生长异常甚至失败,因此石墨盘表面清洁十分重要。介绍了所研制真空烤盘炉的结构、功能以及烤盘工艺,并提...
在金属有机化学气相沉积(MOCVD)外延生长过程中作为衬底片承载器的石墨盘表面不可避免地会附着GaN、AlN等残留沉积物,其会导致外延生长异常甚至失败,因此石墨盘表面清洁十分重要。介绍了所研制真空烤盘炉的结构、功能以及烤盘工艺,并提出一种利用X射线荧光(XRF)光谱分析法量化盘面清洁效果的方法。以单片6英寸(1英寸≈2.54 cm)衬底片的石墨盘为例,利用XRF光谱分析方法对石墨盘清洁前后的盘面元素组成进行测试,结果显示XRF光谱分析法可准确且稳定地表征石墨盘清洁效果,并且该真空烤盘炉可几乎完全清除石墨盘表面Ga的化合物,为石墨烤盘工艺和行业制定石墨盘清洁的合格标准提供参考。
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关键词
真空烤
盘
炉
石墨
盘
清洁效果
X射线荧光(XRF)光谱分析法
GaN
ALN
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职称材料
反应离子刻蚀制备石墨烯纳米盘阵列
3
作者
李浩
付志兵
+3 位作者
王红斌
易勇
黄维
张继成
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第1期94-97,104,共5页
采用化学气相沉积法以乙醇为碳源在铜箔生长的单层高质量的石墨烯并将其转移到SiO_2/Si基底上。然后在通过自组装的方法在石墨烯表面覆盖一层单层的PS微球阵列。采用反应离子刻蚀的方法在一定的刻蚀条件下对其进行刻蚀,随着刻蚀的时间增...
采用化学气相沉积法以乙醇为碳源在铜箔生长的单层高质量的石墨烯并将其转移到SiO_2/Si基底上。然后在通过自组装的方法在石墨烯表面覆盖一层单层的PS微球阵列。采用反应离子刻蚀的方法在一定的刻蚀条件下对其进行刻蚀,随着刻蚀的时间增加,PS微球的会被逐渐刻蚀掉,石墨烯也会在这个过程中随着被刻蚀。将残留的PS微球杂质去掉后,会在SiO_2/Si基底上呈现出排列规整的石墨烯纳米盘阵列。通过场发射扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱对石墨烯纳米盘及其形成过程进行表征和分析,为后续制备高质量石墨烯纳米带、石墨烯纳米点、石墨烯纳米盘提供参考。
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关键词
石墨
烯
化学气相沉积
PS微球
反应离子刻蚀
石墨
烯纳米
盘
阵列
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职称材料
题名
均热板扩散烧结成型质量控制
1
作者
潘国向
机构
唐山钢铁集团微尔自动化有限公司
出处
《机械工程师》
2024年第3期106-108,共3页
文摘
1~3 mm厚度均热板产品在试产过程中均出现过形变、砂眼、裂纹、粘连等质量缺陷问题。剖析成因与高温环境中铜片的延展性能相关,与石墨盘盘洁净度和尺寸精度相关,与烧结后铜片的脱模效果相关。为解决均热板在扩散烧结过程中产生的质量问题,文中进行了铜片高温延展性能的试验,测试石墨盘盘接触面平整度,对扩散烧结参数进行优化,采用氮化硼脱模方法等,保证了均热板在扩散烧结工艺的产品质量。
关键词
均热板
扩散焊接
氮化硼
粘连
石墨
盘
Keywords
vapor chamber
diffusion welding
boron nitride
adhesion
graphite disk
分类号
TF124.5 [冶金工程—粉末冶金]
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职称材料
题名
真空烤盘炉研制及石墨盘清洁效果检测方法
2
作者
马昊鹏
张革
邓蕊
杜程
陈世斌
谢力
机构
北京北方华创真空技术有限公司
出处
《半导体技术》
CAS
北大核心
2023年第4期353-357,共5页
文摘
在金属有机化学气相沉积(MOCVD)外延生长过程中作为衬底片承载器的石墨盘表面不可避免地会附着GaN、AlN等残留沉积物,其会导致外延生长异常甚至失败,因此石墨盘表面清洁十分重要。介绍了所研制真空烤盘炉的结构、功能以及烤盘工艺,并提出一种利用X射线荧光(XRF)光谱分析法量化盘面清洁效果的方法。以单片6英寸(1英寸≈2.54 cm)衬底片的石墨盘为例,利用XRF光谱分析方法对石墨盘清洁前后的盘面元素组成进行测试,结果显示XRF光谱分析法可准确且稳定地表征石墨盘清洁效果,并且该真空烤盘炉可几乎完全清除石墨盘表面Ga的化合物,为石墨烤盘工艺和行业制定石墨盘清洁的合格标准提供参考。
关键词
真空烤
盘
炉
石墨
盘
清洁效果
X射线荧光(XRF)光谱分析法
GaN
ALN
Keywords
vacuum baking furnace
graphite plate
cleaning effect
X-ray fluorescence(XRF)spectrometry
GaN
AlN
分类号
TN304.054 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
反应离子刻蚀制备石墨烯纳米盘阵列
3
作者
李浩
付志兵
王红斌
易勇
黄维
张继成
机构
西南科技大学无机非金属材料国家重点实验室
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
出处
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第1期94-97,104,共5页
基金
国家自然科学基金(11404304)
国家重点科学仪器和设备开发项目(2014YQ090709)
中国工程物理研究院科学技术发展基金(2015B0302003)
文摘
采用化学气相沉积法以乙醇为碳源在铜箔生长的单层高质量的石墨烯并将其转移到SiO_2/Si基底上。然后在通过自组装的方法在石墨烯表面覆盖一层单层的PS微球阵列。采用反应离子刻蚀的方法在一定的刻蚀条件下对其进行刻蚀,随着刻蚀的时间增加,PS微球的会被逐渐刻蚀掉,石墨烯也会在这个过程中随着被刻蚀。将残留的PS微球杂质去掉后,会在SiO_2/Si基底上呈现出排列规整的石墨烯纳米盘阵列。通过场发射扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱对石墨烯纳米盘及其形成过程进行表征和分析,为后续制备高质量石墨烯纳米带、石墨烯纳米点、石墨烯纳米盘提供参考。
关键词
石墨
烯
化学气相沉积
PS微球
反应离子刻蚀
石墨
烯纳米
盘
阵列
Keywords
graphene
CVD
PS microsphere
reactive ion etching
graphene nanodisk arry
分类号
TM242 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
均热板扩散烧结成型质量控制
潘国向
《机械工程师》
2024
0
下载PDF
职称材料
2
真空烤盘炉研制及石墨盘清洁效果检测方法
马昊鹏
张革
邓蕊
杜程
陈世斌
谢力
《半导体技术》
CAS
北大核心
2023
0
下载PDF
职称材料
3
反应离子刻蚀制备石墨烯纳米盘阵列
李浩
付志兵
王红斌
易勇
黄维
张继成
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017
0
下载PDF
职称材料
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