基于系统回归模型的真空镀膜设备液冷加热盘设计方法研究

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作者 李翔 姜小蛟 +3 位作者 战春鸣 刘昂 孙宁 李加平 《真空》 CAS 2024年第4期6-11,共6页

晶圆加热盘的设计有两大核心性能指标:工作面温度均匀性和控温能力,晶圆加热盘在设计定型前需要经过多次仿真迭代与测试验证,以确定产品性能满足设计需求。本研究基于有限元计算与系统回归模型,精准预测加热器实际所需长度、功率密度以... 晶圆加热盘的设计有两大核心性能指标:工作面温度均匀性和控温能力,晶圆加热盘在设计定型前需要经过多次仿真迭代与测试验证,以确定产品性能满足设计需求。本研究基于有限元计算与系统回归模型,精准预测加热器实际所需长度、功率密度以及对应排布方案,以温度均匀性为优化目标,获取最优设计方案。经不同方案验证,该模型的精度在98%以上,可显著提升加热盘设计效率,为人工智能在加热盘设计领域的应用提供可能性。此外,基于传热学理论,提出了一种加热盘控温能力的设计方法,通过一维计算的方式,为加热盘控温能力的优化设计起到了指导作用。 展开更多

关键词 半导体 真空镀膜设备 晶圆加热盘 水冷 回归模型 控温能力

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基于PLC的真空镀膜设备自动控制系统设计 被引量：5

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作者 陈德聪 《机电工程技术》 2019年第6期138-141,共4页

可编程序控制器(PLC)是综合了计算机技术和自动控制技术发展而来的一种新型工业控制装置。触摸屏是一种新型的可接收触头等输入讯号的感应式液晶显示装置。利用可编程控制器和触摸屏改造、设计了一套真空镀膜设备的自动控制系统,实现了... 可编程序控制器(PLC)是综合了计算机技术和自动控制技术发展而来的一种新型工业控制装置。触摸屏是一种新型的可接收触头等输入讯号的感应式液晶显示装置。利用可编程控制器和触摸屏改造、设计了一套真空镀膜设备的自动控制系统,实现了真空镀膜设备的自动控制。根据真空镀膜设备的控制要求,详细阐述了整个系统软硬件设计的过程。 展开更多

关键词 真空镀膜设备 PLC 触摸屏 程序设计

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基于ANSYS Workbench的真空镀膜设备真空室体有限元分析 被引量：3

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作者 华海宇 罗阳 《机械》 2015年第3期43-46,共4页

以真空镀膜设备真空室体为研究对象,利用Inventor建立三维模型,导入ANSYS Workbench中进行有限元分析。通过对ANSYS Workbench后处理数据进行分析得出真空室体在标准大气压作用下的总变形量、等效应力、等效应变分布规律,根据分析结果... 以真空镀膜设备真空室体为研究对象,利用Inventor建立三维模型,导入ANSYS Workbench中进行有限元分析。通过对ANSYS Workbench后处理数据进行分析得出真空室体在标准大气压作用下的总变形量、等效应力、等效应变分布规律,根据分析结果结合技术要求对真空室体结构进行优化设计。 展开更多

关键词 真空镀膜设备 真空室体 ANSYS WORKBENCH

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电子束卷绕真空镀膜技术概况 被引量：1

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作者 高德铨 《包装前沿》 2018年第1期98-100,共3页

本文主要介绍了电子束卷绕真空镀膜的工作原理、电子束卷绕真空镀膜设备的主要部件及应用领域。

关键词 真空镀膜技术 电子束 卷绕 真空镀膜设备 工作原理 主要部件

原文传递

国内外真空镀膜技术及设备的基本现状及国内真空镀膜设备发展的几点建议 被引量：1

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作者 靳毅 《四川真空》 2003年第1期1-8,共8页

本文着重在光学应用领域、半导体器件、大规模集成电路制造的应用领域、电容器、包装和装饰金属膜材应用领域，介绍国内外真空镀膜技术及设备的现状，及国内真空镀膜设备厂家的优势与差距和发展方向。

关键词 真空镀膜技术 真空镀膜设备 半导体器件 集成电路 电容器 包装 装饰金属膜材

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电子束蒸发挖坑效应膜厚均匀性的计算新方法 被引量：2

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作者 付学成 张洪波 +2 位作者 权雪玲 王凤丹 李进喜 《实验室研究与探索》 CAS 北大核心 2018年第3期30-32,41,共4页

环形锥面蒸发源模型对沉积膜厚均匀性计算有局限性。针对电子束蒸发镀膜挖坑效应设计一种新的小圆锥体蒸发模型,提出一种新的公式计算沉积膜厚均匀性。采用相同工艺条件,不同时间蒸镀二氧化硅薄膜,验证了小圆锥体模型计算电子束蒸发挖... 环形锥面蒸发源模型对沉积膜厚均匀性计算有局限性。针对电子束蒸发镀膜挖坑效应设计一种新的小圆锥体蒸发模型,提出一种新的公式计算沉积膜厚均匀性。采用相同工艺条件,不同时间蒸镀二氧化硅薄膜,验证了小圆锥体模型计算电子束蒸发挖坑膜厚均匀性准确可靠,并成功解释了随着蒸发时间的延长,均匀性变差的原因。该方法可以用于实验教学,真空镀膜工艺以及真空镀膜设备生产领域。 展开更多

关键词 电子束蒸发 挖坑效应 真空镀膜设备 膜厚

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真空镀膜设备用磁流体密封组件设计使用中的若干问题探讨 被引量：2

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作者 张振厚 《真空》 CAS 北大核心 2004年第1期41-45,共5页

就真空镀膜设备中应用磁流体密封技术的若干问题进行了探讨

关键词 真空镀膜设备 磁流体密封技术 真空度 永久磁铁 水冷槽

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镀膜设备真空系统主泵的配置 被引量：1

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作者 陈素君 杨静 《真空》 CAS 北大核心 2010年第1期7-10,共4页

真空系统是真空镀膜设备的主要组成部分,其主泵的选择对真空性能影响很大,真空镀膜设备的发展要求真空性能清洁无油,动态抽速大.传统的以油扩散泵为主泵的设备不能满足要求,本文叙述了油扩散泵、分子泵及低温泵的特点及北京北仪创新真... 真空系统是真空镀膜设备的主要组成部分,其主泵的选择对真空性能影响很大,真空镀膜设备的发展要求真空性能清洁无油,动态抽速大.传统的以油扩散泵为主泵的设备不能满足要求,本文叙述了油扩散泵、分子泵及低温泵的特点及北京北仪创新真空技术有限责任公司开发以分子泵及低温泵为真空系统主泵的镀膜设备情况. 展开更多

关键词 真空镀膜设备 真空系统 主泵 油扩散泵 分子泵 低温泵

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会员介绍

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《城市燃气》 2018年第4期50-52,共3页

承德博冠实业集团有限公司 承德博冠实业集团有限公司成立于2009年3月，员工2700多人，注册资本6653万元，至2016年年底资产总额88413万元；主要产品有智能燃气表、配电柜、自动化控制设备、电器元件产品、矿山机械、真空镀膜设备等。

关键词 自动化控制设备 会员 真空镀膜设备 智能燃气表 资产总额 电器元件 矿山机械 配电柜

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航天军转民数据库

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《军民两用技术与产品》 2015年第3期44-45,共2页

兰州空间技术物理研究所以真空低温技术为核心，依托表面工程技术国防科技重点实验室的研究成果开发形成了蒸发型、磁控型、离子型、溅射型、多弧型等各种源型的高端真空镀膜设备，主要产品包括高真空磁控溅射镀膜机、高真空卷绕镀膜机... 兰州空间技术物理研究所以真空低温技术为核心，依托表面工程技术国防科技重点实验室的研究成果开发形成了蒸发型、磁控型、离子型、溅射型、多弧型等各种源型的高端真空镀膜设备，主要产品包括高真空磁控溅射镀膜机、高真空卷绕镀膜机、高真空蒸发镀膜机等，可为电子材料与电子信息行业、航空、航天、武器装备、材料表面处理行业等领域提供相应的服务。 展开更多

关键词 航天 数据库 军转民 真空镀膜设备 电子信息行业 表面工程技术 材料表面处理 磁控溅射

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基于Lab Windows/CVI的真空镀膜设备的控制系统开发

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作者 康豪 宋一凡 +1 位作者 宣科 刘功发 《真空》 CAS 2017年第1期1-4,共4页

真空镀膜技术是目前具有良好发展前景的一项技术,在工业领域具有重要的作用。本文以安徽纯源真空镀膜科技有限公司生产的真空镀膜设备PIS-212的控制系统为例,介绍了一种基于Lab Windows/CVI开发平台的控制系统解决方案,该方案具有开发... 真空镀膜技术是目前具有良好发展前景的一项技术,在工业领域具有重要的作用。本文以安徽纯源真空镀膜科技有限公司生产的真空镀膜设备PIS-212的控制系统为例,介绍了一种基于Lab Windows/CVI开发平台的控制系统解决方案,该方案具有开发快速高效、人机界面友好、"一键式"操作方式和功能丰富齐全的特点。 展开更多

关键词 LAB WINDOWS/CVI 真空镀膜设备 控制系统

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ITO真空镀膜设备结构设计分析

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作者 郑光文 《机械设计与制造》 北大核心 2000年第3期68-69,共2页

简单阐述了ITO镀膜工艺流程 ,并重点分析了真空镀膜设备结构设计特点。

关键词 耗座 主轴 旋转阀 真空镀膜设备 ITO 结构设计

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真空镀膜设备的氦质谱仪检漏

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作者 关奎之 《真空》 CAS 北大核心 1990年第1期44-48,共5页

真空镀膜技术，目前在国内已经广泛地应用，但是，真空镀膜设备存在着气密性差 的问题。本文论述了真空镀膜设备气密性的特点、氦质谱仪检漏特点及其检漏系统，说 明氦质谱仪检漏是检查真空镀膜设备漏气的最有效的方法。文中还介绍了一... 真空镀膜技术，目前在国内已经广泛地应用，但是，真空镀膜设备存在着气密性差 的问题。本文论述了真空镀膜设备气密性的特点、氦质谱仪检漏特点及其检漏系统，说 明氦质谱仪检漏是检查真空镀膜设备漏气的最有效的方法。文中还介绍了一检漏实例。 展开更多

关键词 真空镀膜设备 氦质谱仪 气密性 检漏

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新型真空镀膜设备数据库管理

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作者 胡晓辉 《西北师范大学学报（自然科学版）》 CAS 1999年第2期15-18,共4页

新型真空镀膜设备计算机控制系统（ＺＤＣＣＳ）上位管理机中，数据库的设计是通过基于ＶｉｓｕａｌＣ＋＋所支持的开放数据库互连（ＯＤＢＣ）来实现的．ＯＤＢＣ是实现异构环境数据库访问的接口，利用ＯＤＢＣ，应用程序开发人员可... 新型真空镀膜设备计算机控制系统（ＺＤＣＣＳ）上位管理机中，数据库的设计是通过基于ＶｉｓｕａｌＣ＋＋所支持的开放数据库互连（ＯＤＢＣ）来实现的．ＯＤＢＣ是实现异构环境数据库访问的接口，利用ＯＤＢＣ，应用程序开发人员可对多种不同数据库中的数据进行存取、修改和查询．ＶｉｓｕａｌＣ＋＋１５以上版本的ＭＦＣ（微软基本类库）提供了一些数据库类支持ＯＤＢＣ．这些类和ＶｉｓｕａｌＣ＋＋面向对象的特性，简化了编写Ｗｉｎｄｏｗｓ环境下访问各种数据库应用程序的工作． 展开更多

关键词 真空镀膜设备 计算机控制系统 数据库管理

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省级先进企业 国家二级企业——广东华达企业(集团)有限公司

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《广东社会科学》 CSSCI 1990年第1期2-3,共2页

广东华达企业(集团)有限公司,是中国机械电子工业部、中国农业部、中国有色金属工业总公司、广东省机械工业厅的重点企业.公司属下有:广东华达机器研究所、广东华达机器厂、广东华达铝材厂、广东省饲料机械设备总厂、广东华达坚尼毛织... 广东华达企业(集团)有限公司,是中国机械电子工业部、中国农业部、中国有色金属工业总公司、广东省机械工业厅的重点企业.公司属下有:广东华达机器研究所、广东华达机器厂、广东华达铝材厂、广东省饲料机械设备总厂、广东华达坚尼毛织厂、广东华达装饰工程部、广东华达实业拓展部. 展开更多

关键词 国家二级企业 先进企业 广东省 机器厂 饲料机械 中国农业部 机械电子工业 装饰工程 重点企业 真空镀膜设备

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离子束辅助沉积大口径光学薄膜 被引量：9

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作者 艾万君 熊胜明 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2015年第B12期183-188,共6页

利用国内最大箱式高真空镀膜设备ZZS3600,开展了双离子束辅助反应蒸发技术及光学薄膜厚度均匀性研究。借助MarkⅡ离子源辅助反应蒸发技术,对Ta_2O_5、SiO_2常见的高、低折射率光学薄膜进行了制备与特性分析。结果表明:在蒸发源与沉积基... 利用国内最大箱式高真空镀膜设备ZZS3600,开展了双离子束辅助反应蒸发技术及光学薄膜厚度均匀性研究。借助MarkⅡ离子源辅助反应蒸发技术,对Ta_2O_5、SiO_2常见的高、低折射率光学薄膜进行了制备与特性分析。结果表明:在蒸发源与沉积基底距离较大的镀膜环境下,具有低能、高束流密度离子源有利于薄膜结构的致密化,薄膜性能的改善。根据大口径光学元件尺寸,结合真空室空间几何配置,开展了行星及单轴转动方式下镀膜膜厚均匀性的研究。行星转动方式下,分析了直径140 cm行星盘工件膜厚均匀性,无修正挡板运行时膜厚不均匀性优于0.4%。单轴转动方式下,分析了200 cm光学元件膜厚均匀性,并通过设计修正挡板将膜厚不均匀性控制在0.6%以内。采用双离子束辅助反应蒸发技术有利于实现高性能大口径光学薄膜的制备。 展开更多

关键词 离子辅助沉积 高真空镀膜设备 大口径光学薄膜 光学特性 膜厚均匀性

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《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行

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《真空》 CAS 2013年第1期40-40,共1页

由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书：《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容：薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、

关键词 真空镀膜设备 真空镀膜技术 出版发行 真空蒸发镀膜 冶金工业 工程技术 东北大学 基础理论

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《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行

18

《真空》 CAS 2013年第4期71-71,共1页

由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书：《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容：薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相... 由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书：《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容：薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积（CVD）、离子注入与离子辅助沉积技术、ITO导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、薄膜与表面分析检测技术。书中还系统地介绍了反应溅射镀膜、非平衡磁控溅射和中频交流溅射镀膜技术。《真空镀膜设备》详细介绍了真空镀膜设备的设计方法与镀膜机各机构元件的设计计算、设计参数的选择，其中还重点系统地介绍了磁控溅射靶的设计计算和膜厚均匀性设计。 展开更多

关键词 真空镀膜设备 真空镀膜技术 出版发行 ITO导电玻璃 非平衡磁控溅射 真空蒸发镀膜 溅射镀膜 化学气相沉积

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深圳市振恒昌实业有限公司

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《中国材料科技与设备》 2012年第5期45-45,共1页

深圳市振恒昌实业有限公司20年来一直专注于真空镀膜设备、真空冶金设备（真空炉）研发、制造及镀膜工艺的改进创新，集膜层研究、真空镀膜设备、真空冶金设备研发、制造、销售、服务于一体。

关键词 深圳市 真空镀膜设备 冶金设备 镀膜工艺 真空炉 研发 制造

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《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行

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《真空》 CAS 2013年第2期13-13,共1页

由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书：《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容：薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相... 由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书：《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容：薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积（CVD）、离子注入与离子辅助沉积技术、ITO导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、薄膜与表面分析检测技术。书中还系统地介绍了反应溅射镀膜、非平衡磁控溅射和中频交流溅射镀膜技术。 展开更多

关键词 真空镀膜设备 真空镀膜技术 出版发行 ITO导电玻璃 非平衡磁控溅射 真空蒸发镀膜 溅射镀膜 化学气相沉积

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