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基于PLC的真空镀膜装置控制系统设计 被引量：1
1
作者 余键 《机械工程与自动化》 2022年第6期176-177,180,共3页
在对真空镀膜装置工作原理分析的基础上,设计了基于PLC的真空镀膜装置控制系统,并完成了控制系统关键器件的选型。该控制系统有效提升了真空镀膜装置的自动化控制能力,镀膜的精确性和效率得到了提高。
关键词 PLC 真空镀膜装置 控制系统
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RIBLL大面积真空镀膜装置
2
作者 王猛 陈志强 +10 位作者 詹文龙 郭忠言 肖国青 王金川 王全进 李加兴 宁振江 王建松 王建峰 王贵文 周嗣信 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第1期51-55,共5页
描述了一台大面积双叠层阳极在 X、Y方向分条读出气体电离室而发展的大面积真空镀膜装置。镀膜腔体内体积为 990 mm× 780 mm× 780 mm。可镀膜面积最大为 960 mm× 750 mm。用该装置为RIBLL电离室镀阴极、X阳极、Y阳极和... 描述了一台大面积双叠层阳极在 X、Y方向分条读出气体电离室而发展的大面积真空镀膜装置。镀膜腔体内体积为 990 mm× 780 mm× 780 mm。可镀膜面积最大为 960 mm× 750 mm。用该装置为RIBLL电离室镀阴极、X阳极、Y阳极和窗 ,镀膜面积 4 4 0 mm× 160 mm,Mylar膜厚 3.2 6μm,镀银 97.2 7nm,镀银厚度不均匀度为 18.91%。用它制作的 RIBLL电离室的阳极、阴极 ,当电离室工作气压2 5k Pa P10气体 ,阳极电压 2 2 0 V,阴极电压 - 160 0 V时 ,对 5.15Me Vα源测量能量分辨率为 4 .2 %。 展开更多
关键词 双叠层阳极电离室 分条阳极 厚度不均匀度 真空镀膜装置 兰州放射性离子束流线
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