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相位错动强度叠加光刻法 被引量：1
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作者 喻洪麟 《光子学报》 EI CAS CSCD 1997年第8期707-709,共3页
本文提出一种新的光栅相位错动强度叠加光刻法．研制出了高质量的圆光栅，该方法同样适用于各种计量光栅的研制．
关键词 光栅刻划 相位错动 强度叠加 计量光栅
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