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磁控溅射不同厚度银膜的微结构及其光学常数 被引量:17
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作者 孙喜莲 洪瑞金 +2 位作者 齐红基 范正修 邵建达 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第9期4923-4927,共5页
用直流溅射法在室温K9玻璃基底上制备了8.2nm—107.2nm范围内不同厚度的Ag薄膜,并用X射线衍射及计算机辅助优化程序对薄膜的微结构和光学常数进行了测试分析.结构分析表明制备的Ag薄膜均呈多晶状态,晶体结构均呈面心立方;随着膜厚的增加... 用直流溅射法在室温K9玻璃基底上制备了8.2nm—107.2nm范围内不同厚度的Ag薄膜,并用X射线衍射及计算机辅助优化程序对薄膜的微结构和光学常数进行了测试分析.结构分析表明制备的Ag薄膜均呈多晶状态,晶体结构均呈面心立方;随着膜厚的增加,薄膜的平均晶粒尺寸逐渐增大,晶面间距逐渐减小.计算机辅助优化编程计算的薄膜光学常数分析表明在波长550nm处,当膜厚小于17.5nm时,随着膜厚的增加,折射率n快速减小,消光系数k则快速增大;当膜厚大于17.5nm时,n和k逐渐趋于稳定. 展开更多
关键词 直流溅射镀膜 银膜 微结构 光学常数
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