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氮化硅膜层对TFT白点色度均匀性的影响及其改善
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作者 操彬彬 叶成枝 +11 位作者 安晖 马力 刘广东 吕艳明 彭俊林 杨增乾 栗芳芳 陆相晚 黄正峰 刘增利 廖伟经 李恒滨 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2019年第12期1166-1171,共6页
基于相同点位分别测试了TFT白点色度均匀性(WCU)和各层氮化硅(SiNx)膜厚,并分析了二者的关联性,发现TFT WCU与栅极绝缘层(GI)和第二绝缘层(PVX2)两层的相关性较大,而与厚度最薄,折射率最大的第一绝缘层(PVX1)最不相关;提出了降低GI层剩... 基于相同点位分别测试了TFT白点色度均匀性(WCU)和各层氮化硅(SiNx)膜厚,并分析了二者的关联性,发现TFT WCU与栅极绝缘层(GI)和第二绝缘层(PVX2)两层的相关性较大,而与厚度最薄,折射率最大的第一绝缘层(PVX1)最不相关;提出了降低GI层剩余厚度避免低速沉积GI(GL)的残留和降低PVX2膜层厚度以提升面内均一性的改善方案,最终使得产品的TFT WCU均值降低约0.000 7;最大值由改善前的0.007 0降至改善后的0.005 2,满足了最大值≤0.005 5的目标值,改善效果明显。 展开更多
关键词 薄膜晶体管 氮化硅薄膜 白点色度均匀性 折射率
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