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单晶硅表面沉积Ni-Co-P镀层的显微结构和性能 被引量：4
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作者 张含卓 钟耀东 许程 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第3期722-726,共5页
采用化学镀工艺在P型（100）单晶硅表面制备了2种Ni—Co—P镀层，对比分析其显微结构和性能。结果表明：Ni48C046P6镀层为非晶和纳米晶混合结构，表面均匀分布着直径0．2～3．5gm的球状团簇。而Ni22Co74P4镀层为单相密排六方结构，含有... 采用化学镀工艺在P型（100）单晶硅表面制备了2种Ni—Co—P镀层，对比分析其显微结构和性能。结果表明：Ni48C046P6镀层为非晶和纳米晶混合结构，表面均匀分布着直径0．2～3．5gm的球状团簇。而Ni22Co74P4镀层为单相密排六方结构，含有强烈的（0002）晶面择优取向，表面由纳米级梭状团簇和微米级苞状团簇混合而成。在3．5％NaCl溶液中，2种镀层均表现出活化一钝化一过钝化的腐蚀行为，其中Ni48C046P6镀层的耐蚀性能较好。而在1．0％H2SO4溶液中，2种镀层的耐蚀性能均大幅下降。与Ni48C046P。镀层相比，Ni22C074P4镀层的室温电阻率略有降低，饱和磁化强度和矫顽力显著升高。 展开更多
关键词 Ni—Co—P合金 化学镀 显微结构 腐蚀行为 电磁性能中图法
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