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H13钢电弧沉积铝膜及强流脉冲电子束后处理的复合改性研究 被引量：12
1
作者 邹建新 吴爱民 +2 位作者 刘振民 李茂原 董闯 《真空科学与技术》 EI CSCD 北大核心 2003年第2期91-95,共5页
本文介绍电弧沉积与强流脉冲电子束后处理相结合的表面复合处理工艺 ,并应用在H13钢的表面快速合金化。我们首先采用电弧离子镀的方法在H13钢表面沉积了约 10 μm厚的纯铝层 ,然后用强流脉冲电子束对铝膜进行后处理 ,Al在电子束瞬间加... 本文介绍电弧沉积与强流脉冲电子束后处理相结合的表面复合处理工艺 ,并应用在H13钢的表面快速合金化。我们首先采用电弧离子镀的方法在H13钢表面沉积了约 10 μm厚的纯铝层 ,然后用强流脉冲电子束对铝膜进行后处理 ,Al在电子束瞬间加热作用下 ,熔入基体表面中 ,实现了表面快速合金化。对处理前后的样品进行了氧化性能对比测试 ,结果表明 。 展开更多
关键词 电弧沉积 强流脉冲电子束后处理 表面复合处理工艺 H13钢 复合改性 表面合金化 抗氧化性能
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不同制备工艺对MoSi_2涂层抗氧化性能的影响 被引量：5
2
作者 张中伟 王俊山 +1 位作者 许正辉 李承新 《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期58-60,共3页
为解决MoSi2和SiC线膨胀系数差异,在带有SiC外涂层的C/C复合材料表面采用等离子喷涂、电弧沉积和固渗等工艺制备MoSi2涂层。涂层表面形貌分析发现,等离子喷涂MoSi2涂层多孔不致密,电弧沉积MoSi2涂层易开裂剥落;而固渗MoSi2涂层致密均匀... 为解决MoSi2和SiC线膨胀系数差异,在带有SiC外涂层的C/C复合材料表面采用等离子喷涂、电弧沉积和固渗等工艺制备MoSi2涂层。涂层表面形貌分析发现,等离子喷涂MoSi2涂层多孔不致密,电弧沉积MoSi2涂层易开裂剥落;而固渗MoSi2涂层致密均匀,且界面结合力好。氧化试验也表明,固渗MoSi2涂层性能较好。 展开更多
关键词 C/C复合材料 MoSi2涂层 等离子喷涂 电弧沉积 固渗
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真空阴极电弧沉积TiN超硬膜的研究 被引量：5
3
作者 袁镇海 罗广南 +1 位作者 谢致薇 戴达煌 《广东有色金属学报》 1993年第1期44-49,共6页
研究了真空阴极电弧法沉积 TiN 超硬膜的工艺和应用.结果表明,氮气分压强和负偏压对膜层的结构和性能有很大影响,在氮气分压强为1.30Pa,负偏压为—300V 时沉积的膜层表面"钛滴"少,膜层致密,为细柱状晶和粒状晶结构,具有(220)... 研究了真空阴极电弧法沉积 TiN 超硬膜的工艺和应用.结果表明,氮气分压强和负偏压对膜层的结构和性能有很大影响,在氮气分压强为1.30Pa,负偏压为—300V 时沉积的膜层表面"钛滴"少,膜层致密,为细柱状晶和粒状晶结构,具有(220)和(111)织构,硬度可达到 Hv2100以上,涂层钻头寿命达到了未涂覆涂层钻头的6.7倍. 展开更多
关键词 真空阴极 电弧沉积 氮化钛 超硬膜
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Si含量对电弧沉积TiAlSiN薄膜性能的影响 被引量：3
4
作者 秦聪祥 曾鹏 +2 位作者 胡社军 汝强 吴键 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 2006年第6期15-17,共3页
利用等离子体辅助电弧沉积技术制备了不同成分的TiAlSiN多元薄膜,并研究了Si含量对薄膜组织结构、显微硬度和耐磨性的影响。XRD物相分析表明:薄膜主要由AlN和TiN组成。随着膜层中Si含量的增加,薄膜的结构由明显的柱状晶转变为致密的玻... 利用等离子体辅助电弧沉积技术制备了不同成分的TiAlSiN多元薄膜,并研究了Si含量对薄膜组织结构、显微硬度和耐磨性的影响。XRD物相分析表明:薄膜主要由AlN和TiN组成。随着膜层中Si含量的增加,薄膜的结构由明显的柱状晶转变为致密的玻璃态结构,显微硬度逐渐提高,耐磨性能得到明显改善。 展开更多
关键词 TiAlSiN 电弧沉积 显微硬度 耐磨性
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氮化钛—金(Tin-Au)双镀层在笔类金属零件上的应用
5
作者 王荣泉 《中国制笔》 1994年第3期12-17,共6页
Tin-Au 双镀层工艺是八十年代末期发展起来的一种表面装饰高新技术.我厂于1990年初引进美国VAC-Tec公司的ATC-400设备,初期仅作仿金Tin加工,应用于一般产品,产值及经济效益不高.但经过近几年来的反复试验,不断摸索,已成功地做TiN-Au双... Tin-Au 双镀层工艺是八十年代末期发展起来的一种表面装饰高新技术.我厂于1990年初引进美国VAC-Tec公司的ATC-400设备,初期仅作仿金Tin加工,应用于一般产品,产值及经济效益不高.但经过近几年来的反复试验,不断摸索,已成功地做TiN-Au双镀层加工,并应用于我厂高档产品的不锈钢基体的镀镍。 展开更多
关键词 真空室 金属零件 电弧沉积 氮化钛 电弧触发 辉光放电 溅射沉积 真空镀膜 供给装置 靶材
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碳氮膜的沉积工艺及其结构研究
6
作者 付志强 顾子平 +4 位作者 袁镇海 邓其森 林松盛 郑健红 戴达煌 《广东有色金属学报》 2001年第2期134-137,共4页
以氨气为反应气体 ,用真空阴极电弧沉积法制备了 CNx 膜 ,研究了工艺参数对膜层的沉积速率、化学成分的影响及膜层结合状态 .结果表明 :沉积速率随着氨气分压的提高而下降 ,当氨气分压达到 6 .7Pa时将没有膜的沉积 ;CNx 膜主要由碳和氮... 以氨气为反应气体 ,用真空阴极电弧沉积法制备了 CNx 膜 ,研究了工艺参数对膜层的沉积速率、化学成分的影响及膜层结合状态 .结果表明 :沉积速率随着氨气分压的提高而下降 ,当氨气分压达到 6 .7Pa时将没有膜的沉积 ;CNx 膜主要由碳和氮组成 ,降低真空系统的抽速、将反应气体导至靶面附近、提高氨气分压可以提高膜层中氮含量 ;氮是以化合态存在于膜层中 . 展开更多
关键词 电弧沉积 VCAD 氨气 增氮膜
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提高氮化钛—金(TiN—Au)双镀层质量合格率的关键
7
作者 张萍 《中国制笔》 1999年第1期34-38,共5页
我厂于1990年引进美国VAC—Tec公司的ATC—400两用离子镀膜设备,应用于我厂高档产品铜合金基体电镀镍铬层的笔夹、笔套、笔杆、螺丝、圈等各种形状笔上零件的氮化钛—金(TiN—Au)双镀层表面装饰处理,以使产品产生较高的经济效益和社会效... 我厂于1990年引进美国VAC—Tec公司的ATC—400两用离子镀膜设备,应用于我厂高档产品铜合金基体电镀镍铬层的笔夹、笔套、笔杆、螺丝、圈等各种形状笔上零件的氮化钛—金(TiN—Au)双镀层表面装饰处理,以使产品产生较高的经济效益和社会效益,在调试和一段时间的试生产过程中,TiN—Au双镀层产品合格率低,质量不稳定,时好时坏,在质量较差时合格率只达到40～50%.为充分发挥双镀层表面处理新技术的优势,经过几年的生产摸索和工艺试验,解决了一些影响双镀层质量合格率的技术性和科学管理问题,对TiN—Au双镀层加工形成了一套较完整的工艺流程和工艺操作规程,确保双镀层的质量,使合格率达到了95%,实现了TiN—Au双镀层的经济效益和社会效益. 展开更多
关键词 光亮剂 氮化钛 镀层质量 质量合格率 电镀镍 铜合金 结合力 电弧沉积 工艺流程 镀镍层
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W-C-S-Mo复合薄膜的制备及力学和摩擦学性能
8
作者 杨旭红 周晖 +3 位作者 杨拉毛草 郑军 万志华 张延帅 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2015年第12期71-78,共8页
利用磁控溅射与磁过滤阴极真空电弧(MS/FCVA)复合沉积法,在不同偏压下在单晶Si基体上制备W-CS-Mo四元复合薄膜;分析沉积偏压对薄膜纳米硬度、弹性模量和膜基结合力等力学性能的影响;在潮湿大气、真空环境下研究偏压对薄膜摩擦学性能的... 利用磁控溅射与磁过滤阴极真空电弧(MS/FCVA)复合沉积法,在不同偏压下在单晶Si基体上制备W-CS-Mo四元复合薄膜;分析沉积偏压对薄膜纳米硬度、弹性模量和膜基结合力等力学性能的影响;在潮湿大气、真空环境下研究偏压对薄膜摩擦学性能的影响。结果表明,薄膜硬度、弹性模量和附着力随着沉积负偏压的增大呈现先增大后减小的趋势,在偏压-100 V时薄膜力学性能最好;负偏压-100 V下制备的W-C-S-Mo四元复合薄膜样品在潮湿大气和真空环境下均具有较好的摩擦学性能,拉曼测试发现,W-C-S-Mo复合薄膜在潮湿大气环境中的润滑作用主要由DLC提供,而在真空环境中薄膜中的软质相Mo S2晶粒起润滑作用。 展开更多
关键词 磁控溅射 电弧沉积 复合薄膜 力学性能 摩擦学性能
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脉冲偏压对真空电弧沉积TiN薄膜组织与性能的影响 被引量：12
9
作者 曾鹏 胡社军 +2 位作者 谢光荣 黄拿灿 吴起白 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期62-66,共5页
研究了脉冲偏压对真空电弧沉积TiN薄膜组织与性能的影响。结果表明脉冲偏压幅值在50 0～ 1 70 0V ,脉宽比在 1 2 5～ 2 5的范围内 ,沉积温度低于 2 50℃时膜层组织主要由Ti2 N和TiN相构成 ,随脉冲偏压幅值和脉宽比的增大 ,晶面的择尤... 研究了脉冲偏压对真空电弧沉积TiN薄膜组织与性能的影响。结果表明脉冲偏压幅值在50 0～ 1 70 0V ,脉宽比在 1 2 5～ 2 5的范围内 ,沉积温度低于 2 50℃时膜层组织主要由Ti2 N和TiN相构成 ,随脉冲偏压幅值和脉宽比的增大 ,晶面的择尤沉积由Ti2 N( 2 0 0 )向 ( 0 0 2 )转变 ,柱状晶生长程度减弱。膜层具有较高的显微硬度和耐磨性 ,但在过高的脉冲偏压和脉宽比的沉积条件下 ,膜层的性能有下降的趋势。 展开更多
关键词 脉冲偏压 真空电弧沉积 TIN薄膜 组织性能
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高速钢表面真空电弧沉积ZrN薄膜的组织与性能研究 被引量：9
10
作者 刘丽红 胡社军 +1 位作者 曾鹏 谢光荣 《工具技术》 北大核心 2004年第10期22-24,共3页
通过试验研究了在高速钢表面真空电弧沉积ZrN薄膜的组织与性能 。
关键词 组织与性能 高速钢 真空电弧沉积 表面 显微结构 薄膜 真空度 研究
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真空阴极电弧沉积(Ti,Al)N薄膜的应用研究 被引量：12
11
作者 付志强 蔡育平 +1 位作者 袁镇海 林松盛 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2001年第8期25-26,42,共3页
为了提高TiN涂层刀具的耐磨性 ,采用钛铝合金靶 ,以真空阴极电弧沉积法制备了(Ti,Al)N涂层。对膜层形貌成分、组织结构及硬度进行了测试及研究 ,并试验了 (Ti,Al)N涂层高速钢钻头及YG6硬质合金刀具的使用寿命。结果表明 :(Ti ,Al)N涂层... 为了提高TiN涂层刀具的耐磨性 ,采用钛铝合金靶 ,以真空阴极电弧沉积法制备了(Ti,Al)N涂层。对膜层形貌成分、组织结构及硬度进行了测试及研究 ,并试验了 (Ti,Al)N涂层高速钢钻头及YG6硬质合金刀具的使用寿命。结果表明 :(Ti ,Al)N涂层硬度高达HV0 .1,15370 0 ,(Ti,Al)N涂层使高速钢钻头及YG6硬质合金刀具的使用寿命显著提高。 展开更多
关键词 真空阴极电弧沉积 涂层刀具 氮化铝 氮化钛
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TiN/Ti复合膜与多层膜对Ti811合金高温摩擦性能及微动疲劳抗力的影响 被引量：10
12
作者 张晓化 刘道新 +1 位作者 王小锋 唐宾 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期311-318,共8页
在Ti811钛合金表面分别利用真空阴极电弧沉积技术和磁控溅射技术制备了TiN/Ti复合膜,利用磁控溅射技术制备了TiN/Ti多层膜,测试了膜层的剖面成分分布、膜基结合强度、膜层显微硬度和韧性,对比研究了不同结构膜层对钛合金基材摩擦学性能... 在Ti811钛合金表面分别利用真空阴极电弧沉积技术和磁控溅射技术制备了TiN/Ti复合膜,利用磁控溅射技术制备了TiN/Ti多层膜,测试了膜层的剖面成分分布、膜基结合强度、膜层显微硬度和韧性,对比研究了不同结构膜层对钛合金基材摩擦学性能和高温微动疲劳抗力的影响.结果表明:TiN/Ti复合膜和多层膜均有效提高了钛合金表面的硬度和耐磨性能;电弧沉积TiN/Ti膜层对钛合金高温微动疲劳抗力的改善程度高于磁控溅射TiN/Ti膜层,原因归于电弧沉积TiN/Ti膜层强韧性好、结合强度高,且膜层中的钛颗粒有良好的减摩润滑作用;磁控溅射TiN/Ti多层膜对钛合金高温微动疲劳抗力的改善程度高于磁控溅射TiN/Ti复合膜层,原因是前者韧性高、减摩润滑作用显著. 展开更多
关键词 微动疲劳 摩擦磨损 TiN/Ti复合膜 多层膜 真空阴极电弧沉积 磁控溅射 钛合金 高温
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过滤电弧沉积的TiN/TiCrN/CrN/CrTiN多层膜 被引量：8
13
作者 李成明 张勇 +2 位作者 李桂英 曹尔妍 吕反修 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期167-171,共5页
用过滤电弧技术在高速钢表面沉积了TiN/TiCrN/CrN/CrTiN多层膜 ,用扫描电镜 (SEM )观察了截面和断口形貌及划痕后的形貌。使用俄歇电子谱仪进行剥层成分分析 ,用纳米压痕仪测试了多层膜和单层膜的显微硬度和弹性模量。结果表明 ,在调制... 用过滤电弧技术在高速钢表面沉积了TiN/TiCrN/CrN/CrTiN多层膜 ,用扫描电镜 (SEM )观察了截面和断口形貌及划痕后的形貌。使用俄歇电子谱仪进行剥层成分分析 ,用纳米压痕仪测试了多层膜和单层膜的显微硬度和弹性模量。结果表明 ,在调制周期大于 10 0nm时 ,多层膜的显微硬度符合Hall Petch关系 ,在 80nm时 ,则脱离线性关系。划痕法测试多层膜的结合力达到 80N。 展开更多
关键词 过滤电弧沉积 显微硬度 结合力 多层膜
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亚微米氮化钛膜的纳米压痕和划痕测定 被引量：9
14
作者 张泰华 郇勇 王秀兰 《力学学报》 EI CSCD 北大核心 2003年第4期498-502,共5页
采用等离子电弧沉积的方法,分别在GT35和40CrNiMo钢上沉积厚约为0.5μm的氮化钛(TiN)膜。为了筛选基材,采用纳米压痕和划痕技术,评价膜基界面结合和固体润滑效果。纳米压痕结果,GT35,40CrNiMo和TiN的纳米硬度/弹性模量的典型值分别约为1... 采用等离子电弧沉积的方法,分别在GT35和40CrNiMo钢上沉积厚约为0.5μm的氮化钛(TiN)膜。为了筛选基材,采用纳米压痕和划痕技术,评价膜基界面结合和固体润滑效果。纳米压痕结果,GT35,40CrNiMo和TiN的纳米硬度/弹性模量的典型值分别约为11.5GPa/330GPa,6.0GPa/210GPa,30GPa/450GPa。纳米划痕结果,GT35有较理想的膜基结合能力;GT35,40CrNiMo,TiN及其有机膜的摩擦系数分别约为0.25,0.45,0.15,0.10。同40CrNiMo相比,GT35是较为理想的基体材料。纳米压痕和划痕技术能提供丰富的近表面的弹塑性变形、断裂和摩擦等的信息,是评价亚微米薄膜力学性能的有效手段。 展开更多
关键词 纳米压痕 纳米划痕 力学性能 摩擦性能 亚微米氮化钛膜 等离子电弧沉积 弹塑性变形 断裂 测定
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电弧沉积制造TC4钛合金的组织和力学性能研究 被引量：9
15
作者 刘奋成 贺立华 +2 位作者 林鑫 黄春平 卜文德 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2014年第10期1-5,共5页
利用钨极氩弧沉积制造技术制备了TC4钛合金试样,研究了电弧沉积制造TC4钛合金的显微组织和力学性能。分析表明:电弧沉积制造TC4钛合金组织宏观上呈以基材为基底的外延连续生长的粗大柱状晶特点,由α相和β相组成,但α相随位置的不同形... 利用钨极氩弧沉积制造技术制备了TC4钛合金试样,研究了电弧沉积制造TC4钛合金的显微组织和力学性能。分析表明:电弧沉积制造TC4钛合金组织宏观上呈以基材为基底的外延连续生长的粗大柱状晶特点,由α相和β相组成,但α相随位置的不同形貌有差别,在上部位置呈粗大针状魏氏体组织,在中部呈粗化了的层片状网篮组织,在下部呈针状+层片状混合组织。显微硬度测试表明:沉积成形件硬度较高,且越靠近试样表面硬度越大。室温拉伸测试显示,沉积态试样具有明显的各向异性特点,沿焊接水平方向拉伸强度较高,沿沉积高度方向拉伸塑性较好,且所有测试试样均具有超过锻造TC4合金的强度和塑性指标。 展开更多
关键词 电弧沉积制造 钛合金 TC4
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真空阴极电弧沉积法沉积类金刚石膜的研究 被引量：8
16
作者 袁镇海 谢致薇 +4 位作者 罗广南 邓其森 郑健红 戴达煌 付志强 《广东有色金属学报》 1997年第2期131-136,共6页
克服了真空石墨电弧沉积过程中的一些难点,成功地利用真空阴极电弧沉积法制备了类金刚石膜,并对其表面形貌、硬度及结合强度、结构进行了分析,结果表明,真空阴极电弧沉积法是制备综合性能良好的光亮类金刚石膜的有效方法．类金刚石膜为... 克服了真空石墨电弧沉积过程中的一些难点,成功地利用真空阴极电弧沉积法制备了类金刚石膜,并对其表面形貌、硬度及结合强度、结构进行了分析,结果表明,真空阴极电弧沉积法是制备综合性能良好的光亮类金刚石膜的有效方法．类金刚石膜为非晶结构,具有明显的sp3结构特征． 展开更多
关键词 真空阴极电弧沉积 类金刚石膜
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不同技术制备DLC膜的激光损伤特性研究 被引量：9
17
作者 徐均琪 苏俊宏 +1 位作者 谢松林 梁海锋 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期181-184,共4页
随着高能量大功率激光器的发展和激光元件的广泛应用,用于红外窗口表面增透保护的类金刚石薄膜(DLC)的抗激光损伤特性成为评价薄膜质量优劣的一个重要指标。然而,不同的制备方法和技术沉积的DLC薄膜具有各异的微观结构,从而具有不同的... 随着高能量大功率激光器的发展和激光元件的广泛应用,用于红外窗口表面增透保护的类金刚石薄膜(DLC)的抗激光损伤特性成为评价薄膜质量优劣的一个重要指标。然而,不同的制备方法和技术沉积的DLC薄膜具有各异的微观结构,从而具有不同的抗激光损伤特性。本文采用脉冲真空电弧(PVAD)和非平衡磁控溅射(UBMS)技术沉积了DLC膜,对两种DLC膜抗激光损伤特性进行了研究,测试结果表明,两种技术沉积的DLC薄膜激光损伤阈值分别0.6 J/cm2和0.3 J/cm2,PVAD技术比UBMS技术沉积的DLC薄膜具有更高的抗激光损伤阈值。基于实验研究了薄膜光学常数和表面形态,分析了两种技术制备DLC膜激光损伤特性差异的主要原因。结果表明,采用UBMS技术沉积的DLC膜具有较小的折射率和较大的消光系数,薄膜表面存在较多的疵病和缺陷,这些是其激光损伤阈值较低的主要原因。 展开更多
关键词 类金刚石膜(DLC) 脉冲真空电弧沉积(PVAD) 非平衡磁控溅射(UBMS) 激光损伤阈值(LIDT)
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CoPt(FePt)-C纳米复合膜的结构与磁性 被引量：6
18
作者 王浩 杨辅军 +4 位作者 薛双喜 曹歆 王君安 顾豪爽 赵子强 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期1415-1419,共5页
用磁过滤脉冲真空电弧沉积方法制备了CoPt(FePt) C纳米复合薄膜 ,并在不同温度下进行了退火处理 ,研究了薄膜中碳的含量以及退火温度对薄膜结构与磁性能的影响 .制备态薄膜经过足够高的温度退火后 ,x射线衍射和磁力显微镜分析发现 ,在... 用磁过滤脉冲真空电弧沉积方法制备了CoPt(FePt) C纳米复合薄膜 ,并在不同温度下进行了退火处理 ,研究了薄膜中碳的含量以及退火温度对薄膜结构与磁性能的影响 .制备态薄膜经过足够高的温度退火后 ,x射线衍射和磁力显微镜分析发现 ,在碳基质中生成了面心四方相的CoPt(FePt)纳米颗粒 .对于特定组分为Co2 4 Pt31 C4 5和Fe4 3Pt35C2 2的薄膜 ,矫顽力以及颗粒尺寸都随退火温度的升高而增大 ,当退火温度为 70 0℃时 ,Co2 4 Pt31 C4 5薄膜的矫顽力为 2 1× 10 5A m ,晶粒尺寸为 17nm ;当退火温度为 6 5 0℃时 ,Fe4 3Pt35C2 2 相应值分别为 2 8× 10 5A m和 10 5nm . 展开更多
关键词 退火温度 纳米复合膜 磁性能 纳米复合薄膜 真空电弧沉积 薄膜结构 x射线衍射 矫顽力 磁力显微镜 四方相
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阴极电弧沉积TiN薄膜研究 被引量：5
19
作者 谢致薇 罗广南 +1 位作者 袁镇海 戴达煌 《真空科学与技术》 CSCD 1992年第5期403-407,共5页
对真空阴极电弧沉积TiN装饰膜的沉积工艺和膜层性能的关系进行了研究。结果表明:适当选择N_2分压和负偏压对于改善基体表面离子轰击清洗效果、减少液滴分布、保证膜层颜色和提高膜层耐蚀性至关重要。另外,X射线织构分析表明:(220)织构... 对真空阴极电弧沉积TiN装饰膜的沉积工艺和膜层性能的关系进行了研究。结果表明:适当选择N_2分压和负偏压对于改善基体表面离子轰击清洗效果、减少液滴分布、保证膜层颜色和提高膜层耐蚀性至关重要。另外,X射线织构分析表明:(220)织构随负偏压加大而增加,而(111)织构则随N_2分压增大而增加,这可由离子轰击诱导织构效应解释。 展开更多
关键词 薄膜 氮化钛 阴极电弧沉积 真空
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类金刚石薄膜的激光损伤特性测试与分析 被引量：7
20
作者 谢松林 苏俊宏 徐均琪 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期533-536,共4页
使用脉宽12 ns,波长1064 nm调Q Nd:YAG激光器对真空阴极电弧沉积(VCAD)法制备的类金刚石薄膜进行抗激光损伤测试,结果表明,VCAD法镀制的薄膜抗激光损伤阈值为0.6 J/cm2。通过对热冲击效应的数值计算,得到了光斑中心的温度场和薄膜表面... 使用脉宽12 ns,波长1064 nm调Q Nd:YAG激光器对真空阴极电弧沉积(VCAD)法制备的类金刚石薄膜进行抗激光损伤测试,结果表明,VCAD法镀制的薄膜抗激光损伤阈值为0.6 J/cm2。通过对热冲击效应的数值计算,得到了光斑中心的温度场和薄膜表面的应力场分布。研究表明,热应力在类金刚石薄膜的破坏过程中起主导作用,脉冲电弧沉积的DLC薄膜的激光损伤主要源于应力破坏。 展开更多
关键词 类金刚石膜 真空阴极电弧沉积 激光损伤
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