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基于一种新微细加工技术的亚波长光栅的研制
被引量:
12
1
作者
李以贵
陈迪
+2 位作者
朱军
杨春生
金森义明
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第8期1008-1010,共3页
描述了一种新的亚波长光栅的微细加工技术 ,即电子束 (EB)扫描曝光得到相应的亚微米级的线宽图形 ,再利用快速原子束刻蚀设备获得了高深宽比的立体结构。用此加工技术获得了 10 0nm以下的刻蚀精度 ,并研制成功亚波长光栅。该亚微米线宽...
描述了一种新的亚波长光栅的微细加工技术 ,即电子束 (EB)扫描曝光得到相应的亚微米级的线宽图形 ,再利用快速原子束刻蚀设备获得了高深宽比的立体结构。用此加工技术获得了 10 0nm以下的刻蚀精度 ,并研制成功亚波长光栅。该亚微米线宽微细加工技术可用于布拉格光栅、半导体激光器、无反射表面等需要亚微米结构的器件中。
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关键词
微细加工技术
研制
电子束
扫描
曝光
快速原子
束
刻蚀
亚波长光栅
原文传递
题名
基于一种新微细加工技术的亚波长光栅的研制
被引量:
12
1
作者
李以贵
陈迪
朱军
杨春生
金森义明
机构
上海交通大学微纳米科学技术研究院
日本东北大学机械电子系
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第8期1008-1010,共3页
文摘
描述了一种新的亚波长光栅的微细加工技术 ,即电子束 (EB)扫描曝光得到相应的亚微米级的线宽图形 ,再利用快速原子束刻蚀设备获得了高深宽比的立体结构。用此加工技术获得了 10 0nm以下的刻蚀精度 ,并研制成功亚波长光栅。该亚微米线宽微细加工技术可用于布拉格光栅、半导体激光器、无反射表面等需要亚微米结构的器件中。
关键词
微细加工技术
研制
电子束
扫描
曝光
快速原子
束
刻蚀
亚波长光栅
Keywords
Atomic force microscopy
Etching
Fabrication
Scanning electron microscopy
分类号
TN205 [电子电信—物理电子学]
TN25
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于一种新微细加工技术的亚波长光栅的研制
李以贵
陈迪
朱军
杨春生
金森义明
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
12
原文传递
已选择
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条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
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