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基于一种新微细加工技术的亚波长光栅的研制 被引量:12
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作者 李以贵 陈迪 +2 位作者 朱军 杨春生 金森义明 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第8期1008-1010,共3页
描述了一种新的亚波长光栅的微细加工技术 ,即电子束 (EB)扫描曝光得到相应的亚微米级的线宽图形 ,再利用快速原子束刻蚀设备获得了高深宽比的立体结构。用此加工技术获得了 10 0nm以下的刻蚀精度 ,并研制成功亚波长光栅。该亚微米线宽... 描述了一种新的亚波长光栅的微细加工技术 ,即电子束 (EB)扫描曝光得到相应的亚微米级的线宽图形 ,再利用快速原子束刻蚀设备获得了高深宽比的立体结构。用此加工技术获得了 10 0nm以下的刻蚀精度 ,并研制成功亚波长光栅。该亚微米线宽微细加工技术可用于布拉格光栅、半导体激光器、无反射表面等需要亚微米结构的器件中。 展开更多
关键词 微细加工技术 研制 电子束扫描曝光 快速原子刻蚀 亚波长光栅
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