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电化学机械加工对汽车齿轮使用性能和寿命的影响 被引量：2
1
作者 王晓明 周锦进 《汽车工程》 EI CSCD 北大核心 2003年第z1期49-53,共5页
本文分析了齿轮生产现状和存在的主要问题,提出了采用电化学机械加工提高汽车齿轮表面质量的新思路.该项目检测并分析了电化学机械加工后汽车齿轮的表面特性,研究了电化学机械加工对汽车齿轮使用性能和寿命的影响.
关键词 电化学机械 光整加工 表面特性 使用性能和寿命 汽车齿轮
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非传统光整加工技术研究 被引量：19
2
作者 周锦进 王晓明 庞桂兵 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期51-56,共6页
不同工艺方法加工的工件具有不同的表面特征和精度特性.一些非传统光整加工工艺可提高零件表面质量和精度,进而提高零件的使用性能和寿命.非传统光整加工和传统光整加工工艺相比具有独特的优越性.工艺方法的研究与创新将促进先进制造技... 不同工艺方法加工的工件具有不同的表面特征和精度特性.一些非传统光整加工工艺可提高零件表面质量和精度,进而提高零件的使用性能和寿命.非传统光整加工和传统光整加工工艺相比具有独特的优越性.工艺方法的研究与创新将促进先进制造技术进步和发展. 展开更多
关键词 非传统光整加工 轴承 齿轮 电化学机械光整加工 表面质量 加工工艺 使用性能
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齿轮表面质量对其使用性能和寿命影响的研究 被引量：15
3
作者 周锦进 李洪友 王晓明 《机械科学与技术》 CSCD 北大核心 2004年第4期468-470,共3页
提出齿轮的表面质量对其使用性能和寿命有着极为重要的影响 ,并详细论述了脉冲电化学机械齿轮光整工艺 ,及其加工后的齿轮的表面质量特性。实验及应用结果证明 :齿面光整加工后 ,寿命大幅度提高 ,噪音大幅度降低。
关键词 齿轮 表面质量 使用性能 寿命 脉冲电化学机械光整加工
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脉冲电化学及脉冲电化学机械光整加工工艺 被引量：4
4
作者 安军 周锦进 《机械工艺师》 CSCD 北大核心 2001年第4期25-27,共3页
介绍了脉冲电化学光整加工及脉冲电化学机械光整加工原理和工艺特点 ,分析了电化学加工表面和机械加工表面的微观几何形貌对零件的机械性能和使用寿命的影响 ,表明电化学加工表面的优越性 ,并对其精度特性进行了分析。
关键词 脉冲电化学 脉冲电化学机械 光整加工
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不锈钢电化学机械镜面加工电解液研究 被引量：12
5
作者 李邦忠 周锦进 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第11期954-958,共5页
在分析研究电化学机械光整加工机理和工艺特点的基础上 ,结合不锈钢镜面板自动化生产线的系统功能设计目标 ,对悬浮电解液的系统功能进行优化设计。研究了电解液循环系统、主盐及添加剂、磨料等因素对效率、质量、成本、环保及自动化程... 在分析研究电化学机械光整加工机理和工艺特点的基础上 ,结合不锈钢镜面板自动化生产线的系统功能设计目标 ,对悬浮电解液的系统功能进行优化设计。研究了电解液循环系统、主盐及添加剂、磨料等因素对效率、质量、成本、环保及自动化程度的影响关系。经过实验研究 ,开发出了综合性能较优的GD3型悬浮电解液。 展开更多
关键词 电化学机械光整加工 镜面加工 悬浮电解液 不锈钢
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CMP的最新动态 被引量：5
6
作者 翁寿松 《电子工业专用设备》 2005年第1期7-9,共3页
介绍了当前CMP的最新动态,包括CMP设备市场、电化学机械抛光、新型300mm晶圆CMP设备和阻挡层研磨版等。
关键词 化学机械抛光 电化学机械抛光 阻挡层研磨液版
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集成电路芯片制造中电化学机械平整化技术的研究进展 被引量：4
7
作者 翟文杰 梁迎春 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期498-503,共6页
大马士革(Damascene)结构的Cu/低k介质材料互连技术为集成电路芯片制造提出了方向和挑战。电化学机械平整化(ECMP)作为化学机械平整化(CMP)的一种拓展加工手段,可对传统CMP技术进行补偿,可对含有易损多孔电介质材料的新型互连结构进行... 大马士革(Damascene)结构的Cu/低k介质材料互连技术为集成电路芯片制造提出了方向和挑战。电化学机械平整化(ECMP)作为化学机械平整化(CMP)的一种拓展加工手段,可对传统CMP技术进行补偿,可对含有易损多孔电介质材料的新型互连结构进行低压力平整化。比较了ECMP和CMP的特点,对ECMP技术的研究现状和发展趋势进行了综述。指出ECMP过程控制的深层次的技术基础是摩擦电化学理论,只有深入系统地研究ECMP过程中的外加电势、摩擦磨损、化学反应三者间的相互作用,才能揭示ECMP过程中材料的加速去除原理和超光滑无损伤表面的形成机理。 展开更多
关键词 电化学机械平整化(ECMP) 低K介质 Cu大马士革互连 摩擦电化学
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电化学机械加工在碳钢管内孔光整中的应用 被引量：9
8
作者 周锦进 阿达依.谢尔亚孜旦 安晓刚 《农业机械学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第10期145-148,共4页
结合电化学机械加工特点,针对碳钢管内孔原始表面质量现状,基于适度强化机械作用的设想,试验分析了电化学机械加工主要工艺参数对碳钢管内孔光整效果的影响;验证了表面毛化对光整效果及生产率的提高是有益的;并在此基础上实现了碳钢管... 结合电化学机械加工特点,针对碳钢管内孔原始表面质量现状,基于适度强化机械作用的设想,试验分析了电化学机械加工主要工艺参数对碳钢管内孔光整效果的影响;验证了表面毛化对光整效果及生产率的提高是有益的;并在此基础上实现了碳钢管内孔表面的光整,使其表面粗糙度达到0.2μm以内。 展开更多
关键词 碳钢 管材 电化学机械加工 光整 表面质量
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电化学机械光整加工表面形貌研究 被引量：6
9
作者 张明 侯仰海 毛蜀平 《机械工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第7期154-158,共5页
提出了用于圆柱表面精密光整的夹心式电化学机械加工装置核心部件设计方案,探讨了主要工艺参数对表面质量影响规律。对采用这种新型加工方法所产生表面的轮廓高度特性、间距特性、形状特性、轮廓峰分布及表面波纹度进行了试验研究,结果... 提出了用于圆柱表面精密光整的夹心式电化学机械加工装置核心部件设计方案,探讨了主要工艺参数对表面质量影响规律。对采用这种新型加工方法所产生表面的轮廓高度特性、间距特性、形状特性、轮廓峰分布及表面波纹度进行了试验研究,结果表明电化学机械光整表面轮廓以高频小振幅波度为主要成分。 展开更多
关键词 电化学机械加工 光整加工 表面形貌 表面质量 工艺参数
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电化学机械精准光整加工技术研究 被引量：7
10
作者 庞桂兵 徐文骥 周锦进 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第19期2589-2593,2601,共6页
介绍了该研究组近年来在电化学机械精准光整加工技术研究方面的工作进展情况,包括:光整过程中同时完成形状成形的光整与成形复合加工技术;同时改善零件精密度和表面形貌的跨尺度精确成形加工技术;保证精密度条件下改善表面形貌的自由曲... 介绍了该研究组近年来在电化学机械精准光整加工技术研究方面的工作进展情况,包括:光整过程中同时完成形状成形的光整与成形复合加工技术;同时改善零件精密度和表面形貌的跨尺度精确成形加工技术;保证精密度条件下改善表面形貌的自由曲面零件手持式工具光整加工技术。研究工作表明:通过合理优化电化学机械加工工艺系统结构和参数,对于齿轮、轴承等规则表面零件,可以实现同时改善零件精度和表面几何形貌;对于非规则表面零件,可以在保证零件精密度条件下改善零件表面几何形貌。 展开更多
关键词 电化学加工 电化学机械加工 光整加工 精密加工
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单晶SiC的化学机械抛光及其增效技术研究进展 被引量：7
11
作者 翟文杰 高博 《哈尔滨工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第7期1-10,共10页
为了解决传统SiC化学机械抛光(CMP)加工效率低的问题,针对单晶SiC表面抛光质量和材料去除率指标,综述了应用传统碱性抛光液、混合磨粒抛光液及含强氧化剂抛光液对单晶SiC进行化学机械抛光的研究现状;为了提高SiC-CMP的化学和机械两方面... 为了解决传统SiC化学机械抛光(CMP)加工效率低的问题,针对单晶SiC表面抛光质量和材料去除率指标,综述了应用传统碱性抛光液、混合磨粒抛光液及含强氧化剂抛光液对单晶SiC进行化学机械抛光的研究现状;为了提高SiC-CMP的化学和机械两方面作用,对SiC-CMP催化辅助增效技术、SiC电化学机械抛光(ECMP)技术、固结磨料抛光、光催化辅助抛光等增效新技术进行了系统综述;对SiC-CMP及其增效技术进行了分析、讨论,指出了当前的研究难点,展望了进一步提高单晶SiC抛光效率的研究方向. 展开更多
关键词 碳化硅(SiC) 化学机械抛光(CMP) 电化学机械抛光(ECMP) 催化辅助 固结磨粒抛光
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滚动轴承电化学机械光整加工 被引量：7
12
作者 周敏 燕阳 +2 位作者 凌颖 周松涛 李继周 《冶金设备》 2003年第6期51-53,共3页
介绍了采用电化学机械复合加工工艺对滚动轴承滚道进行光整加工的原理、实施方案和工艺效果 ,为回转面的光整加工找到了一种有效的工艺方法。
关键词 滚动轴承 电化学机械光整加工 复合加工 表面粗糙度
原文传递
脉冲电化学机械抛光工具设计及其应用 被引量：5
13
作者 赵雪松 杨明 《现代制造工程》 CSCD 2005年第7期47-49,共3页
针对具有复杂曲面模具,设计了几种结构、形状的阴极工具,并利用这些工具,采用脉冲电化学机械抛光的方法,对其中一种模具进行了抛光实验。实验表明,脉冲电化学机械抛光是一种有效的镜面加工方法。本工艺的关键是如何使电化学作用与机械... 针对具有复杂曲面模具,设计了几种结构、形状的阴极工具,并利用这些工具,采用脉冲电化学机械抛光的方法,对其中一种模具进行了抛光实验。实验表明,脉冲电化学机械抛光是一种有效的镜面加工方法。本工艺的关键是如何使电化学作用与机械作用相匹配,以得到最佳去膜效果。 展开更多
关键词 脉冲电流 电化学机械抛光 工具设计 模具型腔
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电化学机械光整加工 被引量：6
14
作者 周锦进 杨连文 +1 位作者 徐中耀 刘翠华 《电加工》 1992年第5期19-23,共5页
介绍了电化学机械光整加工的工艺特点和适用范围。
关键词 电化学机械光整加工 工艺特点
全文增补中
电化学机械复合光整加工技术的研究现状 被引量：5
15
作者 张志金 张明岐 +1 位作者 曹新鹏 程小元 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第13期12-15,共4页
介绍了电化学机械复合光整加工技术的原理、特点以及加工过程中的影响因素。综述了电化学机械复合光整加工技术的国内外研究现状,指出了目前我国电化学机械复合光整加工技术存在的问题,并探讨了电化学机械复合光整加工技术的发展趋势。
关键词 电化学机械复合光整加工 复合加工 电化学
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电化学光整加工技术及在航空制造领域的应用探讨 被引量：4
16
作者 庞桂兵 《航空制造技术》 2018年第3期26-32,共7页
介绍了轴承、齿轮、液压阀门、金属管道、自由曲面等几种典型机械零部件表面的电化学光整加工技术。根据航空飞行器性能要求,分析了电化学光整加工技术在航空飞行器特别是航空发动机方面的应用前景,以及需要解决的关键技术问题。
关键词 航空 电化学加工 电化学机械加工 光整加工 机械零部件
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电子电镀中若干新工艺和新技术 被引量：5
17
作者 郁祖湛 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 2006年第9期4-7,共4页
介绍了电子电镀中的若干新工艺新技术,如芯片电镀、电化学机械研磨、微机电系统电镀、不溶性阳极电镀铜、镀铂铌电极以及无铅无镉中磷光亮化学镀镍、碱性蚀刻液再生和铜回收系统等。
关键词 电子电镀 芯片电镀 电化学机械研磨 微机电系统电镀 不溶性阳极 镀铂铌电极 无铅无镉化学镀镍 碱性蚀刻液再生 铜回收
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电化学机械复合抛光不锈钢板 被引量：4
18
作者 王军 《机床与液压》 北大核心 2003年第4期289-290,243,共3页
设计了电化学机械复合抛光装置、工具 ,研究了加工电压、磨轮压力与加工速度的关系 ,加工电压对表面粗糙度的影响。
关键词 电化学机械复合抛光 不锈钢板 抛光装置 加工电压 磨轮压力 加工速度 表面粗糙度
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轴承滚子电化学机械光整加工表面质量预测与加工参数选择 被引量：5
19
作者 徐文骥 魏泽飞 +3 位作者 孙晶 李强 余自远 庞桂兵 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期525-530,共6页
针对现有方法加工轴承滚子时存在的问题,将电化学机械光整(electrochemical mechanicalfinishing,ECMF)加工应用于轴承滚子的光整加工中。ECMF加工效果受很多因素影响,为预测加工质量及选择加工参数,建立了带有径向基函数的基于LS-SVM... 针对现有方法加工轴承滚子时存在的问题,将电化学机械光整(electrochemical mechanicalfinishing,ECMF)加工应用于轴承滚子的光整加工中。ECMF加工效果受很多因素影响,为预测加工质量及选择加工参数,建立了带有径向基函数的基于LS-SVM的轴承滚子ECMF加工预测模型,对正交试验样本进行训练学习,采用网格搜索法确定模型参数。实验及预测结果表明:ECMF适合于轴承滚子的加工,经ECMF加工后的轴承滚子表面质量明显提高;通过LS-SVM模型选择的加工参数及预测的表面质量误差,均在可接受的范围内。 展开更多
关键词 轴承滚子 电化学机械光整 最小二乘支持向量机 径向基函数 预测
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碳化硅晶体电化学机械抛光工艺研究 被引量：4
20
作者 王磊 吴润泽 +2 位作者 牛林 安志博 金洙吉 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2022年第4期504-510,共7页
针对碳化硅晶体抛光效率低的问题,研究碳化硅晶体的电化学机械抛光工艺,对比NaOH、NaNO_(3)、H_(3)PO_(4)3种电解液电化学氧化碳化硅晶体的效果。选用0.6 mol/L的NaNO_(3)作为电化学机械抛光过程的电解液,使用金刚石–氧化铝混合磨粒,... 针对碳化硅晶体抛光效率低的问题,研究碳化硅晶体的电化学机械抛光工艺,对比NaOH、NaNO_(3)、H_(3)PO_(4)3种电解液电化学氧化碳化硅晶体的效果。选用0.6 mol/L的NaNO_(3)作为电化学机械抛光过程的电解液,使用金刚石–氧化铝混合磨粒,通过正交试验研究载荷、转速、电压、磨粒粒径对电化学机械抛光碳化硅晶体的表面质量和材料去除率的影响。采用优选的试验参数进行抛光试验,结果表明:在粗抛阶段可实现20.259μm/h的高效材料去除,在精密抛光阶段可获得碳化硅表面粗糙度Sa为0.408 nm的光滑表面。 展开更多
关键词 碳化硅 电化学机械抛光 电化学氧化 混合磨粒 材料去除率
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