-
题名片子步进机发展趋势
- 1
-
-
-
出处
《电子工业专用设备》
1997年第2期1-4,11,共5页
-
文摘
片子步进机发展趋势本刊编辑部光刻既是晶片加工的主要成本因素（约占晶片全部加工成本的３５％），又是增加电路功能特性的驱动技术，同时，也是半导体工业进步的决定性技术。因此，在技术规划和投资中，光刻一直占踞着十分显要的位置。用于ＩＣ图形转印的光刻技术，一直...
-
关键词
光刻
片子步进机
晶片加工
半导体
-
分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
-
-
题名VLSI制造中片子步进机镜头的选择
- 2
-
-
作者
Dieter Burggraaf
童志义
-
出处
《电子工业专用设备》
1989年第2期51-57,35,共8页
-
文摘
目前,在VLSI圆片加工的光刻工艺中,离开步进投影曝光机就无法对镜头进行完整的评价。由投影镜头的光学成像特性,步进机照明系统,机器调整以及系统和工艺特性引起的圆片上半导体电路图形尺寸和位置的变化,均会影响到图形的套刻和关键尺寸的控制。 显然,对用于VLSI制造中片子步进机镜头的评价,必需在一个较广阔的范围内进行。它包括了系统的对准和套准;镜头之间和机器之间的匹配;一组中间掩模版的套准精度;可达到的实际视埸尺寸;与关键尺寸结果有关的光致抗蚀剂工艺等。在文献1和文献2的报导中,已经强调了这些参数因素结合的重要性。
-
关键词
VLSI
片子步进机
镜头
-
分类号
TN470.5
[电子电信—微电子学与固体电子学]
-
-
题名用于0．35微米生产的宽视场远紫外片子步进机
- 3
-
-
作者
童志义
-
出处
《电子工业专用设备》
1996年第2期38-47,共10页
-
文摘
目前，器件生产厂家和光刻设备制造厂家正在准备进行０．３５μｍ电路的生产。很明显，光学片子步进机仍然是主要的生产设备，但对ｉ线和远紫外片子步进机的选择至今还存在着争议。本文介绍了在开发生产远紫外片子步进机中取得的一些进展。作为１９９０年在ＳＰＩＥ会议上讨论过的采用ＴＴＬ对准系统及自动准分子激光波长控制的早期远紫外片子步进机的替代产品，一种新型的远紫外步进机最近已开发成功。该机采用一种新型的２４８ｎｍ波长的镜头，其像场直径为ф２９．７ｍｍ，数值孔径为０．５。该机主体类似于本公司１９９１年开始生产的宽视场ｉ线步进机，其关键的设计参数和结果本文将给以介绍。其中包括在正性和负性抗蚀剂中０．２５μｍ以下的成像性能和基于ＴＴＬ对准系统原理的高精度套刻，同时给出了与ｉ线步进机混合曝光的匹配性能。
-
关键词
光刻
光学投影系统
片子步进机
-
分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
TH74
[机械工程—光学工程]
-
