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常压内联等离子体涂层特制表面
1
作者
M.Ramm
A.Pfuch
+3 位作者
O.Beier
S.Spange
A.Schimanski
张恒頔
《国际纺织导报》
2014年第8期42-44,46,共4页
介绍了常压下用等离子体以APCVD和CCVD法进行的表面涂层处理。鉴于此,可能将在纳米范围内创建新的复合涂层系统。扩大织物可处理基材的范围,不仅开拓了全新的应用领域,也呈现了开发这些技术用于创立新领域的挑战。
关键词
常压等离子体
气相
沉积
技术
燃烧
化学品
气相
沉积
技术
纱线
织物
SiOx涂层
下载PDF
职称材料
题名
常压内联等离子体涂层特制表面
1
作者
M.Ramm
A.Pfuch
O.Beier
S.Spange
A.Schimanski
张恒頔
机构
创新协会技术开发部
出处
《国际纺织导报》
2014年第8期42-44,46,共4页
基金
德国BMBF(项目号03WKBR11Z)
文摘
介绍了常压下用等离子体以APCVD和CCVD法进行的表面涂层处理。鉴于此,可能将在纳米范围内创建新的复合涂层系统。扩大织物可处理基材的范围,不仅开拓了全新的应用领域,也呈现了开发这些技术用于创立新领域的挑战。
关键词
常压等离子体
气相
沉积
技术
燃烧
化学品
气相
沉积
技术
纱线
织物
SiOx涂层
Keywords
atmospheric pressure plasma chemical vapor deposition(APCVD) technology,combustion chemical vapor deposition(CCVD) technology,yarn,fabric,SiOxcoating
分类号
TS195 [轻工技术与工程—纺织化学与染整工程]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
常压内联等离子体涂层特制表面
M.Ramm
A.Pfuch
O.Beier
S.Spange
A.Schimanski
张恒頔
《国际纺织导报》
2014
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