用Van der Pauw法研究了熔体外延(ME)法生长的截止波长为12μm的InAs0.04Sb0.96单晶电学性质,测量了其电学性质随温度的变化,结果为:300 K时,n=2.3×1016cm-3,μ=6×104cm2/Vs;200K时,n=1×1015cm-3,μ=1×105cm2/Vs。...用Van der Pauw法研究了熔体外延(ME)法生长的截止波长为12μm的InAs0.04Sb0.96单晶电学性质,测量了其电学性质随温度的变化,结果为:300 K时,n=2.3×1016cm-3,μ=6×104cm2/Vs;200K时,n=1×1015cm-3,μ=1×105cm2/Vs。分析了石墨舟和石英舟中生长的外延材料不同的电学特性及其散射机理。结果表明,电离杂质散射控制所有样品在低温时的电子输运过程,而高温时材料的电子迁移率主要由极性光学声子的散射过程决定;C的沾污对石墨舟中生长的InAs0.04Sb0.96单晶在200 K以下的电子迁移率有明显的影响。展开更多
文摘用Van der Pauw法研究了熔体外延(ME)法生长的截止波长为12μm的InAs0.04Sb0.96单晶电学性质,测量了其电学性质随温度的变化,结果为:300 K时,n=2.3×1016cm-3,μ=6×104cm2/Vs;200K时,n=1×1015cm-3,μ=1×105cm2/Vs。分析了石墨舟和石英舟中生长的外延材料不同的电学特性及其散射机理。结果表明,电离杂质散射控制所有样品在低温时的电子输运过程,而高温时材料的电子迁移率主要由极性光学声子的散射过程决定;C的沾污对石墨舟中生长的InAs0.04Sb0.96单晶在200 K以下的电子迁移率有明显的影响。
