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大面积CVD金刚石膜的热铁板抛光 被引量：8
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作者 刘敬明 蒋政 +2 位作者 张恒大 吕反修 唐伟忠 《北京科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期42-44,共3页
研制成功国内第１台大面积ＣＶＤ金刚石膜热铁板抛光机．它可以在１０^（－Ｐａ）真空条件下，加热到 １１００℃；抛光台可以在０－１０ｒ／ｍｉｎ间实现无级调速，一次完成３片φ１１０ｍｍ的金刚石膜的抛光．金刚石膜在９８０℃，２... 研制成功国内第１台大面积ＣＶＤ金刚石膜热铁板抛光机．它可以在１０^（－Ｐａ）真空条件下，加热到 １１００℃；抛光台可以在０－１０ｒ／ｍｉｎ间实现无级调速，一次完成３片φ１１０ｍｍ的金刚石膜的抛光．金刚石膜在９８０℃，２ｈ抛光的结果表明该装置有良好的抛光效果．金刚石膜在９８０℃抛光不同时间的Ｒａｍａｎ谱表明，金刚石热铁板抛光是金刚石石墨化和Ｃ原子不断扩散的过程． 展开更多
关键词 CVD金刚石膜 热铁板抛光 化学气相沉积法 石墨化 碳原子扩散 抛光速率 化学抛光
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