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Al/Al_2O_3多层膜的表面和界面的分析研究 被引量:13
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作者 薛钰芝 Martin A Green 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2002年第1期73-76,共4页
用热蒸发沉积和自然氧化及加热法制备纳米量级的Al/Al2 O3薄膜和多层膜。用X射线光电子谱仪 (XPS)和透射电镜 (TEM)对样品进行检测。XPS实验说明自然氧化的Al2 O3膜层厚在 2~ 5nm。Al/Al2 O3薄膜及多层膜的O与Al的原子浓度比为 1 4 3~... 用热蒸发沉积和自然氧化及加热法制备纳米量级的Al/Al2 O3薄膜和多层膜。用X射线光电子谱仪 (XPS)和透射电镜 (TEM)对样品进行检测。XPS实验说明自然氧化的Al2 O3膜层厚在 2~ 5nm。Al/Al2 O3薄膜及多层膜的O与Al的原子浓度比为 1 4 3~ 1 85。Ar离子刻蚀的XPS实验结果 (刻蚀速率为 0 0 9nm/s)说明 :2个对层的Al/Al2 O3多层膜截面样品具有周期性结构。TEM观察到了 5个对层的Al/Al2 O3多层膜的层状态结构 ,其周期为 4nm。由此说明 ,热蒸发及自然氧化法是制备纳米量级的Al/Al2 展开更多
关键词 Al/Al2O3多层膜 表面分析 显微分析 铝/氧化铝 太阳能电池 蒸发沉积 自然氧化 材料
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热沉积法制备纳米二硫化钼薄膜及其光电特性研究 被引量:7
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作者 何杰 陈康烨 +3 位作者 林拉 张国瑞 顾伟霞 马锡英 《物理实验》 2013年第9期1-5,9,共6页
以MoS2粉末为原料,以氩气为携载气体,在400-600℃温度范围内利用热蒸发方法在硅衬底表面制备了不同厚度的MoS2薄膜.利用X射线衍射和扫描电子显微镜分析了MoSz薄膜的结构和表面形貌,发现Mos2薄膜由多晶MoS2粒子组成,颗粒均匀,平均... 以MoS2粉末为原料,以氩气为携载气体,在400-600℃温度范围内利用热蒸发方法在硅衬底表面制备了不同厚度的MoS2薄膜.利用X射线衍射和扫描电子显微镜分析了MoSz薄膜的结构和表面形貌,发现Mos2薄膜由多晶MoS2粒子组成,颗粒均匀,平均纳米颗粒尺寸约为60nm.利用紫外可见光光谱仪测量了其吸收特性,发现样品在720nm附近有很强的吸收.应用霍尔效应和伏安法研究了Mos2/Si样品的接触特性和电子的运输特性,发现该异质结具有良好的整流特性,即正向电压下电流随电压呈指数增长,而在反向偏压下漏电流很小,电子迁移率可达到6.730×10^2cm2/(V·s).实验结果表明MoS2薄膜具有良好的电学特性,可用来制备晶体管和集成电路等器件. 展开更多
关键词 二硫化钼 纳米薄膜 蒸发沉积
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镀膜技术对金属薄膜性能与制备氢化物薄膜的影响 被引量:3
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作者 万竟平 刘锦华 梁建华 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第11期1114-1118,共5页
分析了热蒸发、溅射和脉冲激光沉积三种镀膜技术镀金属薄膜的性能特点。根据文献报道数据,研究了三种镀膜技术镀金属薄膜的成膜机理、晶格参数、膜力学性能的差别。脉冲激光沉积镀膜易按层与层叠加方式成膜,薄膜应力小,缺陷少,晶格尺寸... 分析了热蒸发、溅射和脉冲激光沉积三种镀膜技术镀金属薄膜的性能特点。根据文献报道数据,研究了三种镀膜技术镀金属薄膜的成膜机理、晶格参数、膜力学性能的差别。脉冲激光沉积镀膜易按层与层叠加方式成膜,薄膜应力小,缺陷少,晶格尺寸大,而热蒸发和溅射镀膜多按三维岛式生长成膜,薄膜应力较大,因应力诱发较多缺陷与位错,晶格尺寸相对要小。脉冲激光沉积粒子能量高,能够实现氢化物一步成膜,薄膜性能更佳。脉冲激光沉积技术更有利于制备聚变应用的金属氢化物薄膜。 展开更多
关键词 蒸发沉积 溅射沉积 脉冲激光沉积 金属薄膜 氢化物薄膜
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Electrical bistable characteristics of poly (phenylene sulfide) thin film deposited by thermal evaporation 被引量:1
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作者 GUO XiaoChun DONG GuiFang QIU Yong 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 2007年第6期732-735,共4页
Poly(phenylene sulfide) (PPS) is a well-known organic insulator. However, the PPS thin film, deposited by thermal evaporation in vacuum, showed electrical bistable characteristics. The structure of the PPS thin-film d... Poly(phenylene sulfide) (PPS) is a well-known organic insulator. However, the PPS thin film, deposited by thermal evaporation in vacuum, showed electrical bistable characteristics. The structure of the PPS thin-film device was glass/ITO/PPS (300 nm)/Au. The thin film can be converted to a high conductance state by applying a pulse of 80 V (5 s), and brought back to a low conductance state by applying a pulse of 100 V (5 s). This kind of thin film is potential for active layer of a memory device. The critical voltage of the device is about 40 V, while the read-out voltage is 5 V. We tentatively ascribe the bistable phe-nomenon to the charge transfer from S to C atoms in the PPS molecule chains. 展开更多
关键词 蒸发沉积 聚苯硫醚薄膜 电子双稳态性质 存储器件
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硒化钨薄膜的制备与光电特性研究 被引量:1
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作者 朱静怡 丁馨 +1 位作者 张晓渝 马锡英 《苏州科技大学学报(自然科学版)》 CAS 2021年第1期47-51,共5页
采用热蒸发法在硅片上沉积了不同微结构的硒化钨(WSe2)薄膜,研究了薄膜的晶体结构和光电特性。发现WSe2薄膜在(004)晶面择优生长,表面呈现垂直柱状纳米线。同时,WSe2薄膜在406 nm处出现较强的蓝光发射,这是由于量子尺寸效应导致的WSe2... 采用热蒸发法在硅片上沉积了不同微结构的硒化钨(WSe2)薄膜,研究了薄膜的晶体结构和光电特性。发现WSe2薄膜在(004)晶面择优生长,表面呈现垂直柱状纳米线。同时,WSe2薄膜在406 nm处出现较强的蓝光发射,这是由于量子尺寸效应导致的WSe2导带与价带形成的分离能级产生的短波长发射,使其可用于制备蓝光发光器件。另外,发现该WSe2薄膜对光照和温度非常敏感。随温度升高薄膜的电阻率显著减小,使其可用于制备温度传感器;随光照射强度增加由0增加到25 mW·cm^(-2),WSe2薄膜的I-V曲线由整流特性逐步变成线性;相同偏压下光电流几乎增加了3倍,表现出较很高的灵敏度,使其在敏感光电探测器中有良好的应用前景。 展开更多
关键词 硒化钨 蒸发沉积 表面和结构特性 光电特性
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氧化锌纳米结构的热蒸发沉积合成及生长机理
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作者 田蜜 侯丽珍 +4 位作者 喻博闻 宋春蕊 苏耿 王世良 贺跃辉 《粉末冶金材料科学与工程》 EI 北大核心 2016年第1期18-24,共7页
以ZnO粉末为原料,用N2作为载气,采用无催化辅助的热蒸发法沉积制备ZnO纳米结构,分别用X线衍射仪、扫描电镜和透射电镜对ZnO的物相、形貌和结构进行表征,并结合晶体生长理论和实验条件,对ZnO产物的形貌变化和纳米带生长方向进行研究。结... 以ZnO粉末为原料,用N2作为载气,采用无催化辅助的热蒸发法沉积制备ZnO纳米结构,分别用X线衍射仪、扫描电镜和透射电镜对ZnO的物相、形貌和结构进行表征,并结合晶体生长理论和实验条件,对ZnO产物的形貌变化和纳米带生长方向进行研究。结果表明:离气源较近的位置到离出口较近的位置,ZnO纳米结构的形貌由连续颗粒膜逐渐向纳米带、直径大于100 nm和直径小于100 nm的纳米线变化。特别是发现ZnO纳米带除了常见的[001]生长方向外,还有[101]和[203]两种极为罕见的生长方向,这些纳米带都具有上下表面均由(±010)晶面组成的特点。ZnO产物的形貌变化是其生长过程由动力学控制为主转向热力学控制为主的结果,纳米带生长方向不同,可能与其晶核形成过程中的竞争生长有关。 展开更多
关键词 ZNO 纳米结构 蒸发沉积 纳米带 纳米线 生长方向
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Ag-MgF_2纳米金属陶瓷薄膜的光吸收特性 被引量:7
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作者 徐志元 孙兆奇 +1 位作者 李爱侠 孙大明 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2001年第5期412-415,共4页
测量了真空热蒸发沉积法制备的Ag MgF2 纳米金属陶瓷薄膜在近紫外到可见光区的吸收光谱、光学常数和介电函数 ,观察到在 42 7nm处有明显的表面等离子激元共振吸收峰。消光系数与介电函数的虚部谱形类似。
关键词 Ag-MgF2金属陶瓷薄膜 金属微粒 光吸收 纳米薄膜 氟化镁 真空蒸发沉积 光学性能
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近红外激光薄膜滤光片的研制 被引量:7
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作者 李候俊 徐均琪 +2 位作者 王建 李绵 苏俊宏 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第9期231-236,共6页
以双抛Si片为基底,采用离子束辅助热蒸发沉积技术研制了1.2~3μm波段激光薄膜滤光片.采用长波通滤光片与减反射膜相结合的薄膜样品设计方法,高、低折射率材料分别选用ZnS和MgF 2,综合考虑光谱特性和电场强度分布,使用TFCale膜系软件设计... 以双抛Si片为基底,采用离子束辅助热蒸发沉积技术研制了1.2~3μm波段激光薄膜滤光片.采用长波通滤光片与减反射膜相结合的薄膜样品设计方法,高、低折射率材料分别选用ZnS和MgF 2,综合考虑光谱特性和电场强度分布,使用TFCale膜系软件设计出1.064μm高反、1.2~3μm波段增透的长波通滤光片.长波通膜系膜系结构为G|4H2L1.5H2L2H1.5L2H4L|A,减反射膜膜系结构为G|3.5 H3.5L|A.最终实现1.2~3μm波段峰值透过率达98.48%,平均透过率为92.35%,1.064μm处透过率为5.09%的光谱特性.对薄膜样品分别采用离子束处理和退火处理,发现适当的工艺参数,有助于提高薄膜激光损伤阈值,当退火温度为250℃时,其激光损伤阈值可达6.3 J/cm^2.本文研究可为近红外薄膜滤光片设计和制备提供参考. 展开更多
关键词 近红外薄膜 离子束辅助蒸发沉积 激光损伤阈值 电场强度 后续处理
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热蒸发沉积法制备硫化锌纳米材料的研究进展
9
作者 林佳纯 熊宸玮 +3 位作者 陶克文 马德才 林少鹏 王彪 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2024年第2期37-42,共6页
硫化锌作为Ⅱ—Ⅵ族直接跃迁的宽带隙半导体发光材料,具有较大的禁带宽度、丰富的发光色彩和优异的红外透过性,广泛应用于光电器件、太阳能电池、红外窗和光催化降解,在光电传感、核辐射探测和医疗影像等领域有广阔的应用前景。热蒸发... 硫化锌作为Ⅱ—Ⅵ族直接跃迁的宽带隙半导体发光材料,具有较大的禁带宽度、丰富的发光色彩和优异的红外透过性,广泛应用于光电器件、太阳能电池、红外窗和光催化降解,在光电传感、核辐射探测和医疗影像等领域有广阔的应用前景。热蒸发沉积法是一种重要的制备纳米材料的方法,其灵活多样的实验条件为制备优良性能的纳米硫化锌提供了可能。对热蒸发沉积法制备硫化锌纳米材料的研究进行梳理和总结,主要介绍热蒸发沉积法的反应和生长机制,阐述了原料、衬底和催化剂种类,以及载气类型和流速等重要实验条件对硫化锌纳米材料结构和光学性能的影响。最后,对当前热蒸发法制备硫化锌纳米材料存在的问题及其发展方向进行展望,以期为硫化锌材料制备和研究提供参考。 展开更多
关键词 硫化锌纳米材料 蒸发沉积 光电特性 研究进展
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导流型热蒸发沉积制备微球表面聚酰胺酸涂层 被引量:3
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作者 黄勇 张占文 +3 位作者 刘一扬 李波 陈淑芬 漆小波 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期1527-1532,共6页
在自行研制的导流型热蒸发沉积装置上开展了微球表面聚酰胺酸(PAA)涂层制备工艺研究。探讨了单体原料处理和改变升温过程对沉积速率的影响。两种单体分别采用两个相互独立的蒸发源加热蒸发,使用两个晶振膜厚测量探头,通过对膜厚探头、... 在自行研制的导流型热蒸发沉积装置上开展了微球表面聚酰胺酸(PAA)涂层制备工艺研究。探讨了单体原料处理和改变升温过程对沉积速率的影响。两种单体分别采用两个相互独立的蒸发源加热蒸发,使用两个晶振膜厚测量探头,通过对膜厚探头、样品盘和导流管端头三者的空间位置和对称关系的调整和实验标定,实现了两种单体近似等化学计量比的沉积。采用间歇性压电振动或敲击配合样品盘的旋转作为微球运动的激励方式,在聚-α-甲基苯乙烯(PAMS)微球上制备出均匀的表面质量好的PAA涂层。 展开更多
关键词 聚酰亚胺 聚酰胺酸 导流型蒸发沉积 沉积速率 涂层
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氧分压对ZnO纳米结构的形貌及光学性能的影响(英文) 被引量:1
11
作者 王英华 王新昌 +3 位作者 李光明 张兵临 田永涛 姚宁 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期184-189,共6页
利用未采用催化剂的真空热蒸发法合成了不同形貌的硅基ZnO纳米结构,研究了氧分压对纳米ZnO结构及光学性能的影响。研究结果表明氧分压对ZnO纳米结构的形貌及光学性能具有明显的影响,在氧分压为25%、10%和5%时制得的纳米ZnO结构分别为纳... 利用未采用催化剂的真空热蒸发法合成了不同形貌的硅基ZnO纳米结构,研究了氧分压对纳米ZnO结构及光学性能的影响。研究结果表明氧分压对ZnO纳米结构的形貌及光学性能具有明显的影响,在氧分压为25%、10%和5%时制得的纳米ZnO结构分别为纳米线、纳米带和纳米梳。X射线衍射测试表明制得的不同ZnO纳米材料均为六方纤锌矿结构,并具有明显的c轴择优取向性。采用PL谱对制备纳米结构的光学性能进行了测试。 展开更多
关键词 蒸发沉积 ZNO纳米结构 氧分压 形貌 光学性能
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二维六方氮化硼薄膜的制备及光电特性研究
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作者 丁馨 徐铖 +1 位作者 许珂 马锡英 《苏州科技大学学报(自然科学版)》 CAS 2020年第1期41-45,共5页
以六方氮化硼(h-BN)粉末为原料,氩气为携载气体,利用热蒸发沉积法在硅衬底上制备了h-BN二维薄膜。应用原子力显微镜观察了薄膜的表面形貌,发现该方法生长的膜均匀而光滑,其厚度为4 nm,对应十几层的h-BN。利用X射线衍射分析了h-BN薄膜的... 以六方氮化硼(h-BN)粉末为原料,氩气为携载气体,利用热蒸发沉积法在硅衬底上制备了h-BN二维薄膜。应用原子力显微镜观察了薄膜的表面形貌,发现该方法生长的膜均匀而光滑,其厚度为4 nm,对应十几层的h-BN。利用X射线衍射分析了h-BN薄膜的结构,发现h-BN薄膜主要由(002)晶面排列构成,说明其生长方式为典型的层状生长模式。利用紫外可见光光谱仪测量了其吸收特性,发现该样品在209 nm附近有很强的吸收。最后,研究了h-BN/Si异质结的接触特性和电子输运特性,发现该异质结具有良好的整流特性,在光照下该异质结的光电流显著增大,表明h-BN薄膜具有良好的光电学特性,可用来制备超薄光电子器件。 展开更多
关键词 六方氮化硼 蒸发沉积 纳米薄膜
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Enhanced Property of Thin Cuprous Oxide Film Prepared through Green Synthetic Route 被引量:2
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作者 Ling-nan Wu Zhen-yu Tian 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 2019年第3期365-372,I0002,共9页
Thin cuprous oxide films have been prepared by chemical vapor deposition(pulsed spray evaporation-chemical vapor deposition)method without post-treatment.The synthesis of cuprous oxide was produced by applying a water... Thin cuprous oxide films have been prepared by chemical vapor deposition(pulsed spray evaporation-chemical vapor deposition)method without post-treatment.The synthesis of cuprous oxide was produced by applying a water strategy effect.Then,the effect of water on the morphology,topology,structure,optical properties and surface composition of the obtained films has been comprehensively investigated.The results reveal that a pure phase of Cu2O was obtained.The introduction of a small quantity of water in the liquid feedstock lowers the band gap energy from 2.16 eV to 2.04 eV.This finding was mainly related to the decrease of crystallite size due to the effect of water.The topology analyses,by using atomic force microscope,also revealed that surface roughness decreases with water addition,namely more uniform covered surface.Moreover,theoretical calculations based on density functional theory method were performed to understand the adsorption and reaction behaviors of water and ethanol on the Cu2O thin film surface.Formation mechanism of the Cu2O thin film was also suggested and discussed. 展开更多
关键词 Cuprous oxide thin films Pulsed spray evaporation-chemical vapor deposition method Green synthetic route Optical and topology property Band gap Density functional theory calculation
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采用化学气相沉积方法制备纯净的氧化亚铜 被引量:2
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作者 潘冠福 《当代化工》 CAS 2019年第8期1704-1706,1710,共4页
采用自行搭建的脉冲热蒸发化学气相沉积(PSE-CVD)系统,制备了薄膜状的氧化亚铜样品。通过使用XRD、SEM和XPS三种检测手段分别从晶相鉴别、微观特征和元素构成的方面对沉积的样品迚行了表征。结果证实脉冲热蒸发化学气相沉积法能够制备... 采用自行搭建的脉冲热蒸发化学气相沉积(PSE-CVD)系统,制备了薄膜状的氧化亚铜样品。通过使用XRD、SEM和XPS三种检测手段分别从晶相鉴别、微观特征和元素构成的方面对沉积的样品迚行了表征。结果证实脉冲热蒸发化学气相沉积法能够制备出高纯度的氧化亚铜。 展开更多
关键词 氧化亚铜 脉冲蒸发化学气相沉积(PSE-CVD) XRD SEM XPS
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