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HFCVD法制备SiC薄膜工艺 被引量:5
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作者 赵武 王雪文 +1 位作者 邓周虎 张志勇 《西北大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期247-250,共4页
分析研究了热丝化学汽相沉积 (HFCVD)法工艺参数的变化对 Si C薄膜质量的影响。结果表明 ,合理的选取工艺参数 ,可在较低温度 (70 0~ 90 0℃ )下 ,沿 Si(1 1 1 )晶向异质生长出高质量的准晶 Si C薄膜。
关键词 HFCVD SIC薄膜 低温生长 碳化硅薄膜 准晶 热丝化学沉积 制备工艺 半导体材料
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低温异质生长SiC薄膜预处理工艺研究
2
作者 赵武 张志勇 +2 位作者 王雪文 邓周虎 戴琨 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2003年第12期39-41,共3页
讨论了在热丝化学汽相沉积(HFCVD)法沿Si(111)晶面异质生长SiC薄膜的过程中,预处理工艺对SiC成膜的影响.采用硅烷、甲烷作为反应气源,利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微分析(SEM)等分析手段,进行预处理工艺的研究.获得了在低温下700~80... 讨论了在热丝化学汽相沉积(HFCVD)法沿Si(111)晶面异质生长SiC薄膜的过程中,预处理工艺对SiC成膜的影响.采用硅烷、甲烷作为反应气源,利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微分析(SEM)等分析手段,进行预处理工艺的研究.获得了在低温下700~800℃制备高质量SiC薄膜的预处理工艺参数:热丝碳化温度2 000℃;HF酸蚀30 s;H2刻蚀10 min. 展开更多
关键词 碳化硅薄膜 SIC薄膜 预处理工艺 热丝化学沉积 低温异质生长
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离子轰击控制准直碳纳米管生长的研究 被引量:10
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作者 王必本 张兵 +3 位作者 郑坤 郝伟 王万录 廖克俊 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期1255-1259,共5页
用CH4 ,H2 和NH3 作为反应气体 ,利用等离子体增强热丝化学汽相沉积制备出准直碳纳米管 ,并用扫描电子显微镜研究了不同负偏压对准直碳纳米管生长的影响 .结果表明 ,随着负偏压的增大 ,准直碳纳米管的平均直径减小、平均长度增大 .由于... 用CH4 ,H2 和NH3 作为反应气体 ,利用等离子体增强热丝化学汽相沉积制备出准直碳纳米管 ,并用扫描电子显微镜研究了不同负偏压对准直碳纳米管生长的影响 .结果表明 ,随着负偏压的增大 ,准直碳纳米管的平均直径减小、平均长度增大 .由于辉光放电的产生 ,在衬底表面附近形成阴极鞘层 ,并在阴极鞘层内形成大量的离子和在衬底表面附近形成很强的电场 .离子在电场的作用下对衬底表面的强烈轰击将对准直碳纳米管的生长产生影响 .结合有关理论 。 展开更多
关键词 离子轰击 准直碳纳米管 负偏压 等离子体增强热丝化学沉积 生长速率
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金刚石薄膜的红外椭圆偏振光谱研究 被引量:9
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作者 沈沪江 王林军 +4 位作者 方志军 张明龙 杨莹 汪琳 夏义本 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期2009-2013,共5页
采用红外椭圆偏振光谱对微波等离子体化学气相沉积法 (MPCVD)和热丝化学气相沉积法 (HFCVD)制备的金刚石薄膜在红外波长范围 (2 5— 1 2 5 μm )的光学参数进行了测量 .建立了不同的光学模型 ,且在模型中采用Bruggeman有效介质近似方... 采用红外椭圆偏振光谱对微波等离子体化学气相沉积法 (MPCVD)和热丝化学气相沉积法 (HFCVD)制备的金刚石薄膜在红外波长范围 (2 5— 1 2 5 μm )的光学参数进行了测量 .建立了不同的光学模型 ,且在模型中采用Bruggeman有效介质近似方法综合考虑了薄膜表面和界面的椭偏效应 .结果表明 ,MPCVD金刚石膜的椭偏数据在模型引入了厚度为 77 5nm的硅表面氧化层、HFCVD金刚石膜引入 879nm粗糙层之后能得到很好的拟合 .最后对两种模型下金刚石薄膜的折射率和消光系数进行了计算 。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 红外椭圆偏振光谱 光学参数 有效介质近似 微波等离子体化学沉积 热丝化学沉积
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纳米压痕法研究金刚石薄膜的力学性能 被引量:5
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作者 李学敏 汪家道 +2 位作者 陈大融 刘兵 刘峰斌 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第12期1539-1543,共5页
用热丝化学气相沉积法在硅基体上制备了大面积硼掺杂金刚石薄膜,硼的浓度大约为2×10^(20)/cm3。利用纳米压痕仪及其附件研究了薄膜和纳米划擦有关的力学性能。结果表明:薄膜具有较高的硬度,平均硬度约为30GPa,弹性模量约为419GPa;... 用热丝化学气相沉积法在硅基体上制备了大面积硼掺杂金刚石薄膜,硼的浓度大约为2×10^(20)/cm3。利用纳米压痕仪及其附件研究了薄膜和纳米划擦有关的力学性能。结果表明:薄膜具有较高的硬度,平均硬度约为30GPa,弹性模量约为419GPa;薄膜与基体的结合强度较高,薄膜发生剥落的第一次破坏力大约是4N。比较而言,薄膜中心区域的硬度高于边缘,结合强度则相反。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 纳米压痕 纳米划擦 力学性能 热丝化学沉积
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HFCVD系统中衬底接触热阻的研究 被引量:6
6
作者 李磊 左敦稳 +2 位作者 徐锋 黎向锋 卢文壮 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期27-31,51,共6页
建立了热丝CVD大面积金刚石膜沉积的衬底温度场模型,对影响衬底温度场的接触热阻及其他相关沉积参数进行了模拟计算。根据实验结果,对接触热阻的计算公式进行了修正。当ζ=0.75时,计算结果和实验结果基本上吻合。在仿真条件下,考虑衬底... 建立了热丝CVD大面积金刚石膜沉积的衬底温度场模型,对影响衬底温度场的接触热阻及其他相关沉积参数进行了模拟计算。根据实验结果,对接触热阻的计算公式进行了修正。当ζ=0.75时,计算结果和实验结果基本上吻合。在仿真条件下,考虑衬底三维热传导以及热丝温度的不均匀分布使衬底温度场的均匀性明显优于纯热辐射下的温度场。这些计算结果为制备大面积高质量的金刚石薄膜提供了理论基础。 展开更多
关键词 热丝化学沉积 接触热阻 有限元 温度场 金刚石膜
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热丝CVD法制备金刚石膜 被引量:4
7
作者 梁继然 常明 潘鹏 《天津理工大学学报》 2005年第1期41-42,57,共3页
采用热灯丝CVD、分次连续沉积的办法在硅衬底上制备金刚石膜.用RAMAN光谱、X ray衍射、扫描电子显微镜(SEM)等多种技术对金刚石膜的形貌、成份、晶态等特性进行了分析,证实所获膜质量较好.
关键词 金刚石膜 热丝化学沉积 热灯丝CVD 扫描电子显微镜 RAMAN光谱
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BDD电极对苯酚降解氧化的试验研究
8
作者 邓刘云 邹西壮 +1 位作者 张韬 薛喆 《工业用水与废水》 CAS 2024年第2期19-24,共6页
基于掺硼金刚石(BDD)电极的电化学高级氧化技术是解决难降解有机污染物的有效方法之一。通过热丝化学气相沉积法(Hot Filament CVD,HFCVD)结合动态掺硼工艺,在WC-Co衬底上成功合成了BDD薄膜。在此基础上,利用已制备的WC-Co/BDD电极,以... 基于掺硼金刚石(BDD)电极的电化学高级氧化技术是解决难降解有机污染物的有效方法之一。通过热丝化学气相沉积法(Hot Filament CVD,HFCVD)结合动态掺硼工艺,在WC-Co衬底上成功合成了BDD薄膜。在此基础上,利用已制备的WC-Co/BDD电极,以苯酚为目标污染物,探究了不同电流密度、电解质浓度、pH值、苯酚初始浓度对其降解效率的影响。试验结果显示,在电流密度为0.03 A/cm^(2),电解质为1.5 g/L Na_(2)SO_(4)的条件下,无论是在酸性还是碱性环境中,对于质量浓度为1000 mg/L的苯酚溶液,3 h内COD的去除率均达到95%;对于质量浓度低于500 mg/L的苯酚溶液,其COD去除率在相同时间内均接近100%。基于WC-Co/BDD电极的电化学高级氧化技术对苯酚的矿化效果极为显著。 展开更多
关键词 WC-Co/BDD电极 热丝化学沉积 苯酚 电流效率 电流密度 电解质浓度 pH值
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热丝化学气相沉积法制备单晶金刚石的试验研究
9
作者 张川 刘栋栋 +1 位作者 陆明 孙方宏 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2024年第3期279-285,F0003,共8页
热丝化学气相沉积法沉积区域可达12英寸(30.48 cm),其具备大批量生产单晶金刚石的潜力。采用尺寸为3 mm×3 mm×1 mm,(100)取向的单晶金刚石为基体,利用热丝化学气相沉积法以甲烷和氢气为前驱体,同时通入少量氮气进行同质外延... 热丝化学气相沉积法沉积区域可达12英寸(30.48 cm),其具备大批量生产单晶金刚石的潜力。采用尺寸为3 mm×3 mm×1 mm,(100)取向的单晶金刚石为基体,利用热丝化学气相沉积法以甲烷和氢气为前驱体,同时通入少量氮气进行同质外延生长。结果表明,在热丝温度为2200℃、碳源浓度为4%、腔体气压为4 kPa的条件下,单晶金刚石以3.41μm/h的速度生长,表面无多晶、破口、孔洞等缺陷;外延层X射线衍射光谱在(400)面处峰值的半高宽为0.11°,低于基体的半高宽0.16°,证明外延层具有较高的晶体质量;氮气的引入可以提升单晶金刚石的生长速度,同时降低外延层的晶体质量,较高的氮气浓度还会使得单晶金刚石的生长模式转为岛状生长。 展开更多
关键词 热丝化学沉积 单晶金刚石 工艺参数优化 氮气掺杂
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硬质合金基体金刚石涂层沉积工艺研究 被引量:4
10
作者 户海峰 徐锋 +1 位作者 左敦稳 赵云 《机械制造与自动化》 2013年第5期44-47,共4页
CVD金刚石涂层具有高硬度、高耐磨性、低摩擦系数和高化学稳定性等优点,是作为刀具超硬涂层的理想材料。文中以CH4和H2为气源,采用热丝化学气相沉积法,在YG6硬质合金基体上沉积了金刚石薄膜。研究了CH4浓度、沉积温度和反应室气压对金... CVD金刚石涂层具有高硬度、高耐磨性、低摩擦系数和高化学稳定性等优点,是作为刀具超硬涂层的理想材料。文中以CH4和H2为气源,采用热丝化学气相沉积法,在YG6硬质合金基体上沉积了金刚石薄膜。研究了CH4浓度、沉积温度和反应室气压对金刚石薄膜品质的影响。利用扫描电镜、拉曼光谱和压痕实验对其结构和附着性能进行表征,分析了各参数对金刚石薄膜品质的影响规律,发现降低CH4浓度、提高沉积温度、适当提高反应气压,可改善薄膜晶体品质并提高涂层与基底的附着能力。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 沉积工艺 热丝化学沉积 硬质合金
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金刚石薄膜红外椭圆偏振参量的计算与拟合 被引量:4
11
作者 方志军 夏义本 +3 位作者 王林军 张伟丽 张明龙 马哲国 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第12期1507-1512,共6页
用红外椭圆偏振仪对热丝化学气相沉积法制备的金刚石薄膜的光学参量进行了测量。由于表面状态和界面特性的差异 ,分别对镜面抛光硅片和粗糙氧化铝基片上的金刚石薄膜建立了不同的模型 ,并在此基础上进行了测试结果的计算拟合。为了综合... 用红外椭圆偏振仪对热丝化学气相沉积法制备的金刚石薄膜的光学参量进行了测量。由于表面状态和界面特性的差异 ,分别对镜面抛光硅片和粗糙氧化铝基片上的金刚石薄膜建立了不同的模型 ,并在此基础上进行了测试结果的计算拟合。为了综合反应诸如表面粗糙度等表面界面因素对测试结果的影响 ,根据衬底特性将表面层和界面层分离出来 ,并采用Bruggeman有效介质方法对它们的影响进行了近似处理。结果表明 ,硅衬底上金刚石薄膜的椭偏数据在模型引入了厚度为 879nm的表面粗糙层之后能得到很好的拟合。而对于氧化铝衬底上的金刚石薄膜而言 ,除了在薄膜表面引入了粗糙层之外 ,还必须在衬底和金刚石界面处加入一层由体积分数为 0 641的氧化铝、体积分数为 0 2 3 3 4的金刚石和体积分数为 0 12 53的空隙组成的复合过渡层 (厚度 995nm ) ,才能使计算值与实验参量很好地吻合。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 红外椭圆偏振仪 光学参量 热丝化学沉积 有效介质近似 体积分数
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多片式衬底HFCVD系统沉积金刚石颗粒物理场的仿真优化
12
作者 杨海霞 伏明将 +1 位作者 罗健 张韬 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2023年第6期735-742,共8页
探索热丝化学气相沉积(hot filament chemical vapor deposition,HFCVD)合成高效优质的金刚石已成为研究热点。采用可提高金刚石颗粒单次沉积产量的新型多片式栅状衬底,应用FLUENT流体仿真软件,在原有单个出气口数量及进气总流量保持不... 探索热丝化学气相沉积(hot filament chemical vapor deposition,HFCVD)合成高效优质的金刚石已成为研究热点。采用可提高金刚石颗粒单次沉积产量的新型多片式栅状衬底,应用FLUENT流体仿真软件,在原有单个出气口数量及进气总流量保持不变的情况下,优化传统模型,将单个进气口拆分成5个大小相等的进气口,对影响金刚石单晶颗粒均匀性的进气口数量和排布方式工艺参数进行仿真,对比分析HFCVD系统内气体的物理场。结果显示:4组优化模型均提高了衬底温度及流速的均匀性,有利于金刚石单晶颗粒的均匀生长,但对其沉积速率影响不显著;进一步分析优化模型的温度场,发现5个进气口及单个出气口分别位于反应腔体顶部和底部的中间位置时系统的温度差最低,最满足金刚石单晶颗粒在多片式硅衬底上均匀生长的条件。HFCVD金刚石单晶颗粒沉积试验验证了仿真结果的正确性。 展开更多
关键词 热丝化学沉积 FLUENT仿真软件 优化模型 金刚石颗粒均匀生长
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氩气对金刚石膜碳价键、粒径和表面形貌的影响 被引量:3
13
作者 严尚飞 于翔 张静 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2019年第8期68-73,共6页
为调整微钻表面金刚石薄膜的晶粒尺寸和粗糙度以满足PCB板钻孔的工况要求,调节氩气和氢气流量比,采用热丝化学气相沉积法,以甲烷、氢气及氩气为气源在硅基体上沉积出一系列金刚石薄膜。利用拉曼光谱仪、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微... 为调整微钻表面金刚石薄膜的晶粒尺寸和粗糙度以满足PCB板钻孔的工况要求,调节氩气和氢气流量比,采用热丝化学气相沉积法,以甲烷、氢气及氩气为气源在硅基体上沉积出一系列金刚石薄膜。利用拉曼光谱仪、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及原子力显微镜(AFM),分别表征不同氩气流量下制备的金刚石薄膜的碳价键结构、晶面取向、晶粒尺寸和表面粗糙度。结果表明:随着氩气流量增大,金刚石薄膜中的石墨含量呈升高趋势,薄膜趋向(111)晶面择优生长,晶粒尺寸从微米级(1. 27μm)细化至纳米级,薄膜粗糙度先升高后降低,最低为65 nm。研究表明,存在最优的氩气流量使得制备的薄膜具有适宜的结构特点,如碳价键含量高、(111)晶面取向度高、晶粒尺寸小和粗糙度低,可满足PCB板超细钻孔的要求。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 热丝化学沉积 晶面取向 晶粒尺寸 表面粗糙度 氩气
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加工氧化锆陶瓷的金刚石涂层刀具的制备及切削试验研究 被引量:3
14
作者 王海旺 王亮 +2 位作者 雷学林 沈彬 孙方宏 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 2014年第1期1-5,共5页
使用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在硬质合金片以及球头铣刀表面沉积了微米金刚石薄膜(MCD),纳米金刚石薄膜(NCD)以及微米纳米复合金刚石薄膜(MNCD),通过扫描电子显微镜和拉曼光谱对其进行表征,结果呈现出典型的金刚石薄膜的性质,沉积质... 使用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在硬质合金片以及球头铣刀表面沉积了微米金刚石薄膜(MCD),纳米金刚石薄膜(NCD)以及微米纳米复合金刚石薄膜(MNCD),通过扫描电子显微镜和拉曼光谱对其进行表征,结果呈现出典型的金刚石薄膜的性质,沉积质量高。金刚石薄膜与氧化锆陶瓷的摩擦磨损实验表明:金刚石薄膜能有效地降低对磨时的摩擦系数以及磨损率。使用三种金刚石薄膜涂层铣刀对氧化锆陶瓷进行铣削加工试验,结果显示:金刚石涂层刀具磨损率大幅度降低,刀具寿命显著增强。 展开更多
关键词 氧化锆陶瓷 热丝化学沉积 金刚石薄膜涂层刀具 摩擦学性能 切削性能
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基于刀具底部散热方式的HFCVD法沉积金刚石涂层刀具温度场的仿真优化 被引量:3
15
作者 潜艺筝 张韬 +2 位作者 汪舒 陈大奎 黄国栋 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2020年第3期40-45,共6页
用热丝化学气相沉积法(hot filament chemical vapor deposition,HFCVD)制备金刚石涂层刀具时,衬底温度对金刚石涂层分布的均匀性有重要影响。利用仿真软件ANSYS中的FLUENT模块,对GAMBIT中建立的三维HFCVD批量刀具反应模型进行分析,并... 用热丝化学气相沉积法(hot filament chemical vapor deposition,HFCVD)制备金刚石涂层刀具时,衬底温度对金刚石涂层分布的均匀性有重要影响。利用仿真软件ANSYS中的FLUENT模块,对GAMBIT中建立的三维HFCVD批量刀具反应模型进行分析,并运用耦合热传导、热对流、热辐射等3大传热方式对该模型衬底温度分布情况进行仿真预测,对影响涂层分布均匀性的刀具底部支撑台材料散热方式进行分析、优化。仿真结果显示:相较于传统的铜质支撑台和石墨支撑台,热导率小的陶瓷材料支撑台的刀体平均温差最小,为37.82℃,比采用铜材料为支撑台时的刀体平均温差降低了45℃,更有利于制备膜厚、质量均匀的CVD金刚石涂层刀具。 展开更多
关键词 热丝化学沉积 金刚石涂层刀具 仿真 衬底温度 支撑台材料
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金刚石涂层刀具的制备及其切削性能研究 被引量:3
16
作者 王世伟 罗年高 +1 位作者 陈战锋 李恒 《河南冶金》 2019年第3期14-16,共3页
利用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在硬质合金立铣刀上沉积金刚石薄膜,通过扫描电子显微镜和拉曼光谱仪对制备的薄膜进行表征,并利用制备的涂层铣刀和未涂层的硬质合金铣刀进行切削实验以对比两种刀具的切削性能。结果表明:涂层刀具上的金... 利用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在硬质合金立铣刀上沉积金刚石薄膜,通过扫描电子显微镜和拉曼光谱仪对制备的薄膜进行表征,并利用制备的涂层铣刀和未涂层的硬质合金铣刀进行切削实验以对比两种刀具的切削性能。结果表明:涂层刀具上的金刚石薄膜连续均匀,结构致密,无明显缺陷;切削实验中,涂层刀具的耐磨性好于硬质合金刀具,使用寿命有了明显地提高。 展开更多
关键词 热丝化学沉积 硬质合金铣刀 金刚石薄膜 切削实验
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热丝化学气相沉积法制备优质微米亚微米级单晶金刚石的研究 被引量:1
17
作者 张韬 沈彬 +1 位作者 孙方宏 张志明 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2011年第6期7-11,共5页
利用热丝化学气相沉积法(HFCVD),在硅片衬底上进行微米级(>1μm)及亚微米级(<1μm)单晶金刚石的沉积研究。微米级金刚石是以高温高压法(HPHT)制备的1μm金刚石颗粒为籽晶,通过甩胶布晶的方法,在衬底上均匀分布晶种,并通过合理控... 利用热丝化学气相沉积法(HFCVD),在硅片衬底上进行微米级(>1μm)及亚微米级(<1μm)单晶金刚石的沉积研究。微米级金刚石是以高温高压法(HPHT)制备的1μm金刚石颗粒为籽晶,通过甩胶布晶的方法,在衬底上均匀分布晶种,并通过合理控制沉积工艺参数,在衬底上形成晶形完好的单晶金刚石。在沉积2 h后,可消除原HPHT籽晶缺陷,沉积6 h后,生长出晶形良好的立方八面体金刚石颗粒(约4μm);对于亚微米级单晶金刚石,是直接在衬底上进行合成,通过调控沉积参数(如衬底预处理方法,偏流大小,沉积时间)对单晶金刚石的分布密度和颗粒度进行控制,经过2 h的沉积,最终获得了0.7μm的二十面体单晶金刚石。 展开更多
关键词 热丝化学沉积 微米级单晶金刚石沉积参数
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热丝CVD法制备金刚石管 被引量:1
18
作者 谢鹏 汪建华 +1 位作者 王传新 熊军 《武汉工程大学学报》 CAS 2008年第1期73-75,共3页
以钨丝作为基体,用氢气和丙酮作为反应气体,在热丝化学气相沉积装置中制备出了金刚石管,其生长速度达到了4μm/h.扫描电镜和激光拉曼光谱的测试结果表明制备出的金刚石管质量较好.
关键词 金刚石薄膜 金刚石管 热丝化学沉积
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自支撑金刚石厚膜片的HFCVD法制备及摩擦学特性 被引量:1
19
作者 冯伟 杨斌 卢文壮 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第11期97-102,共6页
探讨了自支撑金刚石厚膜片的晶体生长模型,并依据模型通过热丝化学气相沉积(HFCVD)法制备了厚度为0.6 mm的自支撑金刚石厚膜片.采用球-盘式摩擦磨损试验机进行摩擦学实验,借助扫描电镜、拉曼光谱仪等研究了自支撑金刚石厚膜片分别与钢... 探讨了自支撑金刚石厚膜片的晶体生长模型,并依据模型通过热丝化学气相沉积(HFCVD)法制备了厚度为0.6 mm的自支撑金刚石厚膜片.采用球-盘式摩擦磨损试验机进行摩擦学实验,借助扫描电镜、拉曼光谱仪等研究了自支撑金刚石厚膜片分别与钢球、陶瓷球以及铝球组成对偶副时的摩擦学特性.结果表明:铝球做对偶球时平均摩擦系数最大,在对磨初始阶段很快出现了金属转移层;陶瓷球做对偶球时摩擦系数最小,球表面物质的微观形貌呈微细碎屑状分布;对磨后自支撑金刚石厚膜片的磨损量非常小,是良好的耐磨材料. 展开更多
关键词 热丝化学沉积 自支撑金刚石厚膜 摩擦系数 磨损
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Amorphous SiO_2 interlayers for deposition of adherent diamond films onto WC-Co inserts 被引量:1
20
作者 崔雨潇 赵天奇 +1 位作者 孙方宏 沈彬 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第9期3012-3022,共11页
Amorphous Si O2(a-Si O2) films were synthesized on WC-Co substrates with H2 and tetraethoxysilane(TEOS) via pyrolysis of molecular precursor.X-ray diffraction(XRD) pattern shows that silicon-cobalt compounds for... Amorphous Si O2(a-Si O2) films were synthesized on WC-Co substrates with H2 and tetraethoxysilane(TEOS) via pyrolysis of molecular precursor.X-ray diffraction(XRD) pattern shows that silicon-cobalt compounds form at the interface between a-Si O2 films and WC-Co substrates.Moreover,it is observed by transmission electron microscope(TEM) that the a-Si O2 films are composed of hollow mirco-spheroid a-Si O2 particles.Subsequently,the a-Si O2 films are used as intermediate films and chemical vapor deposition(CVD) diamond films are deposited on them.Indentation tests were performed to evaluate the adhesion of bi-layer(a-Si O2 + diamond) films on cemented carbide substrates.And the cutting performance of bi-layer(a-Si O2 + diamond) coated inserts was evaluated by machining the glass fiber reinforced plastic(GFRP).The results show that a-Si O2 interlayers can greatly improve the adhesive strength of diamond films on cemented carbide inserts;furthermore,thickness of the a-Si O2 interlayers plays a significant role in their effectiveness on adhesion enhancement of diamond films. 展开更多
关键词 hot filament chemical vapor deposition(HFCVD) diamond film WC-Co substrate INTERLAYER ADHESION
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