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灰阶掩模实现光学邻近校正及计算模拟研究 被引量：8
1
作者 杜惊雷 黄奇忠 +4 位作者 姚军 粟敬钦 郭永康 崔铮 沈锋 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第5期698-702,共5页
从光学邻近效应产生机理出发，提出用带灰阶衬线的灰阶掩模实现光学邻近效应精细校正的新方法，并指出掩模图形振幅信息的优化，即合理分布掩模图形的空间频谱，可以改善空间像的光强分布并获得高质量的光刻图样。计算表明，校正后的成... 从光学邻近效应产生机理出发，提出用带灰阶衬线的灰阶掩模实现光学邻近效应精细校正的新方法，并指出掩模图形振幅信息的优化，即合理分布掩模图形的空间频谱，可以改善空间像的光强分布并获得高质量的光刻图样。计算表明，校正后的成像图样与理想像的偏差小于０．９％。 展开更多
关键词 光学邻近校正 灰阶掩模 灰阶衬线 光刻 模拟
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折射型微透镜列阵制作的一种新途径
2
作者 李学民 卢国纬 周礼书 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期294-296,共3页
介绍了一种制作折射型微透镜列阵的新方法，其主要思想参考了灰阶掩模法。所用掩模板用激光直写制作，通过一次曝光即可在光刻胶上形成折射型微透镜的轮廓，并给出了微透镜轮廓的测试图样。
关键词 微透镜列阵 灰阶掩模 激光直写 微光学
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灰阶编码掩模制作微光学元件 被引量：5
3
作者 粟敬钦 姚军 +4 位作者 杜惊雷 张怡霄 高福华 郭永康 崔铮 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期97-100,共4页
提出一种基于改变灰阶编码掩模的单元形状和位置的掩模设计新方法 ,并根据成像过程中的非线性因素 ,用这种方法对掩模图形进行了预畸变校正。根据部分相干光成像理论和抗蚀剂曝光显影模型 ,模拟计算了这种灰阶编码掩模产生的空间光强分... 提出一种基于改变灰阶编码掩模的单元形状和位置的掩模设计新方法 ,并根据成像过程中的非线性因素 ,用这种方法对掩模图形进行了预畸变校正。根据部分相干光成像理论和抗蚀剂曝光显影模型 ,模拟计算了这种灰阶编码掩模产生的空间光强分布和光刻胶上的浮雕结构。采用电子束曝光系统制作了这种掩模 。 展开更多
关键词 编码灰阶掩模 光刻 微光学元件 光电器件
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编码灰阶掩模酶蚀明胶法制作折射微透镜阵列 被引量：2
4
作者 姚军 粟敬钦 +5 位作者 高福华 高峰 郭永康 杜春雷 曾红军 丘传凯 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第7期633-636,共4页
提出一种以重铬酸铵明胶作为记录材料 ,用编码灰阶掩模曝光 ,蛋白酶溶液作为显影剂制作折射型微透镜阵列的新方法。
关键词 微光学元件 折射微透镜 编码灰阶掩模 重铬酸盐明胶 蛋白酶溶液
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HBES玻璃制作菲涅尔透镜灰度掩模的研究
5
作者 王丽 董连和 +1 位作者 季振强 陈哲 《技术与市场》 2013年第12期150-150,共1页
从HEBS玻璃能量作用机理和曝光量与透过率关系着手,研究利用电子束直写曝光的方法,在HEBS玻璃上制作8阶菲涅尔透镜变灰阶掩模,得到掩模最大透过率为44.8%,最小透过率为8.7%。利用该掩模制得菲涅尔透镜衍射效率高达91%,证实利用HEBS玻璃... 从HEBS玻璃能量作用机理和曝光量与透过率关系着手,研究利用电子束直写曝光的方法,在HEBS玻璃上制作8阶菲涅尔透镜变灰阶掩模,得到掩模最大透过率为44.8%,最小透过率为8.7%。利用该掩模制得菲涅尔透镜衍射效率高达91%,证实利用HEBS玻璃制作灰阶掩模的可行性及实用性。 展开更多
关键词 HEBS玻璃 灰阶掩模 电子束直写 菲涅尔透镜
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微细加工技术与设备
6
《中国光学》 EI CAS 2001年第1期96-96,共1页
TN305.7 2001010649用灰阶编码掩模实现邻近效应精细校正的研究=Finecorrection of optical proximity effect by usinggray-tone coding mask[刊,中]/杜惊雷,粟敬钦,张怡霄,郭永康(四川大学物理系.四川,成都(610064)),罗克俭,崔铮(内... TN305.7 2001010649用灰阶编码掩模实现邻近效应精细校正的研究=Finecorrection of optical proximity effect by usinggray-tone coding mask[刊,中]/杜惊雷,粟敬钦,张怡霄,郭永康(四川大学物理系.四川,成都(610064)),罗克俭,崔铮(内江教育学院.内江(6141002))∥光学学报.-2000,20(4).-518-524提出了用灰阶编码的二元掩模代替灰阶掩模实现邻近效应精细校正的新方法,并阐述了新方法的特点。讨论了灰阶编码与灰阶掩模的等效关系,给出了灰阶编码掩模实现光学邻近效应校正的模拟结果。 展开更多
关键词 光学邻近效应校正 灰阶编码掩模 灰阶掩模 大学物理 校正机理 新方法 衰减相移掩模 四川 二元掩模 教育学院
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用灰阶编码掩模实现邻近效应精细校正的研究 被引量：5
7
作者 杜惊雷 粟敬钦 +4 位作者 罗克俭 张怡霄 郭永康 崔铮 周崇喜 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期518-524,共7页
提出了用灰阶编码的二元掩模代替灰阶掩模实现邻近效应精细校正的新方法 ,并阐述了新方法的特点。讨论了灰阶编码掩模与灰阶掩模的等效关系 ,给出了灰阶编码掩模实现光学邻近效应校正的模拟结果 ,校正后的综合面积偏差比校正前减少了 1... 提出了用灰阶编码的二元掩模代替灰阶掩模实现邻近效应精细校正的新方法 ,并阐述了新方法的特点。讨论了灰阶编码掩模与灰阶掩模的等效关系 ,给出了灰阶编码掩模实现光学邻近效应校正的模拟结果 ,校正后的综合面积偏差比校正前减少了 10 %。 展开更多
关键词 光学邻近校正 灰阶编码掩模 光刻
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一种制作凹形聚二甲基硅氧烷微透镜阵列的方法 被引量：4
8
作者 钟可君 高益庆 +1 位作者 李凤 张志敏 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第3期205-209,共5页
提出一种制作凹形聚二甲基硅氧烷(PDMS)微透镜阵列的方法。用数字微镜器件(DMD)代替物理掩模,建立数字灰阶无掩模光刻系统,在光刻胶上制作正方形基底凸形微透镜阵列,以此阵列为母板,采用复制方法,制作了高填充因子的正方形基底凹形PDMS... 提出一种制作凹形聚二甲基硅氧烷(PDMS)微透镜阵列的方法。用数字微镜器件(DMD)代替物理掩模,建立数字灰阶无掩模光刻系统,在光刻胶上制作正方形基底凸形微透镜阵列,以此阵列为母板,采用复制方法,制作了高填充因子的正方形基底凹形PDMS微透镜阵列。实验和测试结果表明:数字灰阶无掩模光刻系统制作的微透镜阵列表面光滑,形貌良好;复制的PDMS微透镜阵列边缘清晰,表面光滑,焦面光斑光强均匀。为制作凹形微透镜阵列提供了一条制作简单、效率高、成本低、可大规模制作的新途径。 展开更多
关键词 光学器件 微光学元件 凹形微透镜阵列 数字灰阶无掩模光刻 模型复制技术 聚二甲基硅氧烷
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用灰阶编码掩模进行邻近效应校正的实验研究
9
作者 杜惊雷 粟敬钦 +2 位作者 张怡霄 郭永康 崔铮 《微细加工技术》 EI 2000年第2期39-44,共6页
利用灰阶编码掩模实现光学邻近效应精细校正是改善光刻图形质量的有效方法 ,设计并利用电子束直写系统加工了用于实现邻近效应校正的灰阶编码掩模 ,首次在投影光刻系统上用这一方法实现了光学邻近效应校正 ,获得了满意的实验结果 ,在可... 利用灰阶编码掩模实现光学邻近效应精细校正是改善光刻图形质量的有效方法 ,设计并利用电子束直写系统加工了用于实现邻近效应校正的灰阶编码掩模 ,首次在投影光刻系统上用这一方法实现了光学邻近效应校正 ,获得了满意的实验结果 ,在可加工 0 7微米的I线曝光装置上获得了经邻近效应校正的 0 5微米光刻线条。 展开更多
关键词 灰阶编码掩模 光学邻近效应校正 光学光刻
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误差扩散法编码设计制作微光学元件 被引量：1
10
作者 刘倩 张怡霄 +3 位作者 郭永康 刘波 温圣林 唐雄贵 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期106-110,共5页
以发展微光学元件制作新方法为目标,提出利用误差扩散编码方法设计灰阶编码掩模制作微光学元件。此方法同其他编码方法相比,具有量化效果好、衍射效率高、制作文件小、计算速度快、通用性好等优点。用此方法对制作微透镜的掩模进行了设... 以发展微光学元件制作新方法为目标,提出利用误差扩散编码方法设计灰阶编码掩模制作微光学元件。此方法同其他编码方法相比,具有量化效果好、衍射效率高、制作文件小、计算速度快、通用性好等优点。用此方法对制作微透镜的掩模进行了设计,利用预校正法和边缘增强法相结合的方法对掩模进行了优化,并对曝光、显影过程进行了模拟,得到了满意的结果。 展开更多
关键词 微光学 灰阶编码掩模 误差扩散法 边缘增强法 微透镜
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