浅电子陷阱掺杂AgCl微晶的光作用特性研究 被引量：3

1

作者 代秀红 李晓苇 +5 位作者 董国义 张荣香 张继县 李红莲 韩理 傅广生 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期550-553,595,共5页

利用微波吸收介电谱检测技术,同步检测均匀掺杂K4Fe(CN)6盐的立方体AgCl微晶在室温条件下的自由和浅束缚光电子的衰减时间分辨谱。对比未掺杂样品发现,掺杂引入的浅电子陷阱使样品中的自由光电子衰减时间延长了338ns,衰减过程中出现一... 利用微波吸收介电谱检测技术,同步检测均匀掺杂K4Fe(CN)6盐的立方体AgCl微晶在室温条件下的自由和浅束缚光电子的衰减时间分辨谱。对比未掺杂样品发现,掺杂引入的浅电子陷阱使样品中的自由光电子衰减时间延长了338ns,衰减过程中出现一个明显的一级指数快衰减区;较高浓度掺杂情况下,测量了光作用产物对光电子衰减的影响,分析表明,光作用产物是具有深电子陷阱作用的银簇。光作用产物的出现,使得晶体中发生了浅电子陷阱到深电子陷阱效应的转变,可见掺杂使得晶体内部结构和光作用特性发生了变化。 展开更多

关键词 微波吸收介电谱 掺杂 激光曝光 光电子衰减 浅电子陷阱

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衍射光学元件灰度掩模板激光制作系统研究 被引量：1

2

作者 漆新民 谌廷政 +3 位作者 朱小进 高益庆 罗宁宁 王铮 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2004年第10期21-23,27,共4页

根据灰度掩模的制作理论,提出了由PP8000胶片输出仪、远心成像透镜组、平行准直He-Cd激光器构成的精缩投影曝光灰度掩模制作系统.通过灰度掩模平面不同位置处提供可变的透过率,经一次光刻后得到所需的衍射光学元件.该系统不仅可采用黑... 根据灰度掩模的制作理论,提出了由PP8000胶片输出仪、远心成像透镜组、平行准直He-Cd激光器构成的精缩投影曝光灰度掩模制作系统.通过灰度掩模平面不同位置处提供可变的透过率,经一次光刻后得到所需的衍射光学元件.该系统不仅可采用黑白胶片制作高分辨率灰度掩模板,还可根据彩色灰度等效理论,利用彩色等效胶片实现256灰度级的扩展细分,以进一步提高灰度掩模板制作的分辨率.对于16台阶灰度掩模,其分辨率可以从0～255扩展到0～1280灰度级.利用该系统给出了二元光栅精缩后的感光图片. 展开更多

关键词 衍射光学元件 灰度掩模 激光曝光 激光光刻系统

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硫增感AgBrCl立方体微晶中光电子衰减行为的研究 被引量：1

3

作者 李晓苇 刘荣鹃 +4 位作者 江晓利 陆晓东 赖伟东 杨少鹏 傅广生 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期784-787,共4页

利用微波吸收相敏检测技术并结合短脉冲激光曝光,测量了硫增感条件下AgBrCl立方体微晶感光材料的光电子时间衰减谱。分析了光电子一级衰减区域与增感温度的关系,确定了硫增感的陷阱效应对光电子衰减时间和光电子不同一级衰减区域的影响... 利用微波吸收相敏检测技术并结合短脉冲激光曝光,测量了硫增感条件下AgBrCl立方体微晶感光材料的光电子时间衰减谱。分析了光电子一级衰减区域与增感温度的关系,确定了硫增感的陷阱效应对光电子衰减时间和光电子不同一级衰减区域的影响,并获得了增感过程中生成浅电子陷阱效果的最佳增感条件。 展开更多

关键词 微波吸收相敏检测技术 短脉冲激光曝光 硫增感 卤化银微晶 感光材料 光电子时间衰减谱 电子陷阱

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LLK3激光光学录音机的结构与应用

4

作者 励和平 《影视技术》 2003年第1期27-29,共3页

关键词 驱动控制单元 激光曝光单元 LLK3激光光学录音机 结构 应用

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富士Frontier 350/370全新数码激光冲印设备

5

作者 汪永明 《影像材料》 2001年第4期21-21,23,共2页

关键词 富士Frontier 350/370数码冲印设备 激光曝光系统 功能

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用紫激光曝光的第一手资料

6

作者 徐世垣 《印刷杂志》 2001年第9期58-59,共2页

关键词 印刷 CTP 直接制版 紫激光曝光

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激光双曝光全息干涉技术在测取射流密度场中的应用 被引量：4

7

作者 陈志敏 王海龙 殷木良 《应用激光》 CSCD 北大核心 2007年第3期201-204,200,共5页

准确预测射流流场密度对引信电机的研制有着重要的作用。本文介绍一种采用双曝光全息干涉法测取射流流场密度的基本原理及实验过程。给出了射流空场和射流绕模型情况下不同速度的密度场分布及变化规律,为射流流场密度分布的定量测量提... 准确预测射流流场密度对引信电机的研制有着重要的作用。本文介绍一种采用双曝光全息干涉法测取射流流场密度的基本原理及实验过程。给出了射流空场和射流绕模型情况下不同速度的密度场分布及变化规律,为射流流场密度分布的定量测量提供了一种新的方法。 展开更多

关键词 全息干涉 射流流场 密度场 激光双曝光

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激光双曝光全息干涉技术在测取柴油机压缩温度场中的应用 被引量：4

8

作者 林其钊 《应用激光》 CSCD 北大核心 1999年第2期73-76,共4页

缸内压缩温度对柴油机的着火与燃烧有着重要影响，本文介绍用双曝光全息干涉法测取柴油机压缩温度场的基本原理及实验过程，在实际发动机中测取了压缩过程中缸内的温度分布及变化历程，为柴油机压缩过程缸内温度分布的定量测量提供了一... 缸内压缩温度对柴油机的着火与燃烧有着重要影响，本文介绍用双曝光全息干涉法测取柴油机压缩温度场的基本原理及实验过程，在实际发动机中测取了压缩过程中缸内的温度分布及变化历程，为柴油机压缩过程缸内温度分布的定量测量提供了一种新的方法。 展开更多

关键词 全息干涉 温度场 激光双曝光 柴油机 测量 应用

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某圆锥等角螺旋天线的制造技术 被引量：4

9

作者 章英琴 《电子机械工程》 2010年第2期50-52,共3页

以双圆锥等角螺旋天线为例,介绍了天线CAD模型的建立方法,详细论述了圆锥等角螺旋天线的三种制造技术:曲线掩膜法、微带粘接法和激光立体扫描曝光成像法,在工程上进行了成功应用。尤其采用激光立体扫描曝光成像法,天线制造精度高、一致... 以双圆锥等角螺旋天线为例,介绍了天线CAD模型的建立方法,详细论述了圆锥等角螺旋天线的三种制造技术:曲线掩膜法、微带粘接法和激光立体扫描曝光成像法,在工程上进行了成功应用。尤其采用激光立体扫描曝光成像法,天线制造精度高、一致性好、加工周期短等优点,并为类似的天线制造提供了比较可靠的加工方法。 展开更多

关键词 双圆锥等角螺旋天线 制造技术 激光立体扫描曝光成像

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基于激光双曝光全息干涉技术对亚音速射流流场密度的研究 被引量：2

10

作者 吕鹏 陈志敏 +1 位作者 王兴 裴曦 《应用激光》 CSCD 北大核心 2009年第3期219-222,共4页

射流是一种特殊的流动,对它外部速度场和密度场的研究,将有利于风能交流引信发电机外形设计。研究采用激光双曝光全息干涉技术,得到马赫数M=0.6时射流场有模型的干涉图像,经过计算得到射流场密度分布。为定量测量射流装置外流场和风能... 射流是一种特殊的流动,对它外部速度场和密度场的研究,将有利于风能交流引信发电机外形设计。研究采用激光双曝光全息干涉技术,得到马赫数M=0.6时射流场有模型的干涉图像,经过计算得到射流场密度分布。为定量测量射流装置外流场和风能交流引信发电机周围流场密度提供了一种新的分析方法。 展开更多

关键词 激光双曝光 全息干涉 射流流场 密度分布

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利用大周期光子晶体结构增强InAs/GaAs量子点的激发态发光（英文） 被引量：2

11

作者 秦璐 徐波 许兴胜 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第5期559-565,共7页

在该研究中,通过激光全息和湿法腐蚀的方法在InAs/GaAs量子点材料上制备光子晶体,研究了由激光二极管激发制备了光子晶体的InAs / GaAs量子点材料的光致发光光谱.发现具有光子晶体的量子点材料的光谱显示出多峰结构,光子晶体对短波长部... 在该研究中,通过激光全息和湿法腐蚀的方法在InAs/GaAs量子点材料上制备光子晶体,研究了由激光二极管激发制备了光子晶体的InAs / GaAs量子点材料的光致发光光谱.发现具有光子晶体的量子点材料的光谱显示出多峰结构,光子晶体对短波长部分的发光增强和调制比对长波长部分的增强和调制更明显.InAs / GaAs量子点的光致发光光谱通过刻蚀形成的光子晶体结构得到了调控,并且量子点的激发态发光得到了明显增强. 展开更多

关键词 量子点 光子晶体 激光全息曝光 光致发光光谱

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用于PCB、HDI、IC载板的高精度多光束激光动态LDI技术 被引量：1

12

作者 杜卫冲 曲鲁杰 《印制电路信息》 2012年第4期6-9,共4页

随着智能手机和掌上电脑等超薄、超精细电子产品的大量问世,并为用户广泛接受,其电子产品的小型化、高密度化已成为必然。这些新型电子产品的出现驱动了PCB、HDI和IC载板向更高精度方向发展。据Prismark预测到2014年其线宽L/S精度将会小... 随着智能手机和掌上电脑等超薄、超精细电子产品的大量问世,并为用户广泛接受,其电子产品的小型化、高密度化已成为必然。这些新型电子产品的出现驱动了PCB、HDI和IC载板向更高精度方向发展。据Prismark预测到2014年其线宽L/S精度将会小于10μm/10μm。这使得传统的DMD直接成像式LDI设备将会面临着精度、速度等性能上难以满足高精度的实际需求。阐述了一种新型的用于线宽L/S小于10μm/10μm高精度、高速量产型多光束激光动态LDI技术。该技术是采用了像空间调制器DMD微反射镜阵列对激光束进行图形调制,在成像光系统中增加了与DMD反射镜阵列对应的微透镜阵列图形处理系统,在保证曝光面积不变的前提下缩小了曝光点。其曝光光斑可小于3μm以下。其微透镜阵列采用了多层结构,具有远心光路、空间滤波功能,使曝光焦深可达几百微米到几毫米,提高了设备的实用性和稳定性。采用DMD多光束倾斜扫描技术,实现了更加精细及高密度的曝光图形。采用了阵列式多光引擎同步曝光实现高精度量产型LDI设备。 展开更多

关键词 激光无掩曝光技术 激光直接光刻技术

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大面积激光投影成像曝光技术

13

作者 裴文彦 周金运 林清华 《装备制造技术》 2009年第5期38-40,共3页

介绍了大面积激光投影成像曝光系统的构成和工作过程,阐述了其中的关键核心技术如激光照明光学技术、折叠投影光学技术、大面积扫描技术和光学自动对准技术,分析了光学系统的参数、配置以及光路设计等存在的问题,对大面积扫描中的无接... 介绍了大面积激光投影成像曝光系统的构成和工作过程,阐述了其中的关键核心技术如激光照明光学技术、折叠投影光学技术、大面积扫描技术和光学自动对准技术,分析了光学系统的参数、配置以及光路设计等存在的问题,对大面积扫描中的无接缝误差和自动对准中的高精度检测定位等技术上的解决办法作了有益的探讨。 展开更多

关键词 激光投影成像曝光 准分子激光器 大面积激光扫描 对准 无缝误差

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射流密度场激光双曝光全息干涉图像的后处理

14

作者 刘春玲 党会博 陈志敏 《应用激光》 CSCD 北大核心 2010年第4期352-356,共5页

由于闭口式风洞不能有效模拟在大气飞行的引信电机周围的流场,自行设计并建造了超音速射流吹风装置。采用激光双曝光全息干涉技术深入研究超音速射流吹风装置的流场结构并配合引信发电机外部流场的密度定量测量。在拍摄到了比较清晰的... 由于闭口式风洞不能有效模拟在大气飞行的引信电机周围的流场,自行设计并建造了超音速射流吹风装置。采用激光双曝光全息干涉技术深入研究超音速射流吹风装置的流场结构并配合引信发电机外部流场的密度定量测量。在拍摄到了比较清晰的密度干涉条纹照片后,还要从图像的条纹中辨识出密度场等值线,才能利用干涉原理计算出当地条纹的密度。对图片条纹进行了辨识处理,并考虑到由于图像曝光程度的不同导致的图像左右部分亮度区别,设计了多重阈值的图像二值化处理算法。经检验,该图像的二值化处理结果与肉眼直接观察得到的条纹有良好的一致性和保真性。在随后处理过程中采用了一种按行的曲线像素搜索算法来细化二值化的干涉条纹,为以后从密度干涉条纹中提取射流密度场的程序化后处理工作打下了基础。若要完全实现密度场的自动提取,还有大量的后续工作有待开展。 展开更多

关键词 激光双曝光全息干涉 条纹识别 多重阈值 曲线细化 密度场提取

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LDI曝光机分辨率对制作细线路的影响

15

作者 陈华丽 谢丹伟 林辉 《印制电路信息》 2020年第11期14-16,共3页

细线路的制作是一个系统工程。本文讨论的是LDI曝光机解析度对细线路制作的影响:从LDI图形成像原理看,曝光机的解析度越小越利于细线路制作;从实验结果看,曝光机解析度越小,蚀刻后无论是线宽还是线距,差距会越小。对于线宽/线距为40μm... 细线路的制作是一个系统工程。本文讨论的是LDI曝光机解析度对细线路制作的影响:从LDI图形成像原理看,曝光机的解析度越小越利于细线路制作;从实验结果看,曝光机解析度越小,蚀刻后无论是线宽还是线距,差距会越小。对于线宽/线距为40μm/40μm线路而言,LDI曝光机解析度相差1μm时(解析度分别为2μm与1μm),蚀刻后相邻线距差4μm有10%的差别,而相邻线距差3μm的有6.52%的差别。 展开更多

关键词 细线路制作 激光直接成像曝光机 解析度 掩膜工艺

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世界首次制成8英寸BaF2单晶

16

作者 杨守春 《现代材料动态》 2003年第5期5-5,共1页

关键词 8英寸BaF2单晶 半导体 制造装置 氟激光曝光装置 氟化钡单晶 氟激光器

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日本成功拉制出大型氟化钙单晶

17

作者 杨晓蝉 《现代材料动态》 2003年第4期7-7,共1页

关键词 大型氟化钙单晶 CZ法 氟激光曝光装置 透镜材料 拉制

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