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面向数字化生产线的刀具管理系统的开发 被引量：14
1
作者 殷锐 何卫平 +1 位作者 和延立 侯伟 《机床与液压》 北大核心 2006年第9期29-32,74,共5页
刀具管理是数字化生产线生产管理系统的重要组成部分,目前已有的刀具管理系统无法跟踪刀具在整个使用过程中的实时状态和信息,本文结合数字化生产线的应用需求研究开发了刀具信息管理系统,采用激光光刻技术在每把刀具刀柄上标刻代表刀... 刀具管理是数字化生产线生产管理系统的重要组成部分,目前已有的刀具管理系统无法跟踪刀具在整个使用过程中的实时状态和信息,本文结合数字化生产线的应用需求研究开发了刀具信息管理系统,采用激光光刻技术在每把刀具刀柄上标刻代表刀具唯一身份的二维条码,通过与生产线上部署的条码识读设备、数控机床刀库、DNC系统的集成实现对刀具任意时刻位置、状态及使用信息的动态监控,为生产管理人员反馈更全面、准确的刀具信息,帮助做出正确决策。 展开更多
关键词 数字化生产线 刀具管理 激光光刻 条码
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基于SLM的三维图像激光光刻系统的研制 被引量：12
2
作者 陈林森 解剑锋 +2 位作者 沈雁 汪振华 陆志伟 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2003年第5期367-370,共4页
文中提出采用空间光调制器进行子图输入、用激光干涉成像光学头产生干涉条纹的方法来实现3D图像或光学可变图像的制作,研制了大幅面3D图像激光光刻系统,光变图像分辨率可达5080dpi,平均运行效率达8000dots/s(1270pdpi)以上。给出了实验... 文中提出采用空间光调制器进行子图输入、用激光干涉成像光学头产生干涉条纹的方法来实现3D图像或光学可变图像的制作,研制了大幅面3D图像激光光刻系统,光变图像分辨率可达5080dpi,平均运行效率达8000dots/s(1270pdpi)以上。给出了实验结果。 展开更多
关键词 3D图像 干涉 光学头 空间光调制器 SLM 三维图像 激光光刻 激光全息照相
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光刻技术的历史与现状 被引量：13
3
作者 楼祺洪 袁志军 张海波 《科学》 2017年第3期32-36,共5页
集成电路的飞速发展有赖于相关的制造工艺——光刻技水的发展，光刻技术是迄今所能达到的最高精度的加工技术。
关键词 激光光刻 大规模集成电路 短波长激光器
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波前分割无掩模激光干涉光刻的实现方法 被引量：9
4
作者 冯伯儒 张锦 郭永康 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2004年第2期8-10,共3页
激光干涉光刻不受传统光学光刻系统光源和数值孔径的限制,其极限尺寸CD达到曝光波长 的1/4,研究了波前分割双光束、三光束方法及四光束无掩模激光干涉光刻方法,提出了可用于五光束和多种多光束和多次曝光的梯形棱镜波前分割干涉光刻方... 激光干涉光刻不受传统光学光刻系统光源和数值孔径的限制,其极限尺寸CD达到曝光波长 的1/4,研究了波前分割双光束、三光束方法及四光束无掩模激光干涉光刻方法,提出了可用于五光束和多种多光束和多次曝光的梯形棱镜波前分割干涉光刻方法。用自行建立的梯形棱镜波前分割系统进行了多光束干涉曝光实验,得到孔尺寸约220nm的阵列图形。 展开更多
关键词 干涉光刻 激光光刻 无掩模 波前分割
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振幅分割无掩模激光干涉光刻的实现方法 被引量：7
5
作者 张锦 冯伯儒 郭永康 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2004年第2期11-15,共5页
无掩模激光干涉光刻中的分束方法一般有波前分割和振幅分割。研究和比较了振幅分割无 掩模激光干涉光刻方法和系统,包括振幅分割双光束干涉系统、三光束干涉系统、液浸式深紫外干涉系统及全自动干涉光刻系统。建立了双光束双曝光干涉光... 无掩模激光干涉光刻中的分束方法一般有波前分割和振幅分割。研究和比较了振幅分割无 掩模激光干涉光刻方法和系统,包括振幅分割双光束干涉系统、三光束干涉系统、液浸式深紫外干涉系统及全自动干涉光刻系统。建立了双光束双曝光干涉光刻实验系统。模拟和实验结果表明,对点阵或孔阵图形,在同样的图形尺度下,无掩模干涉光刻比传统光刻简单得多。 展开更多
关键词 干涉光刻 激光光刻 振幅分割 无掩模
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工作波长193纳米投影光刻物镜研究设计 被引量：3
6
作者 陈旭南 罗先刚 +1 位作者 林妩媚 余国彬 《微细加工技术》 2001年第2期24-26,52,共4页
介绍工作波长为 1 93nm的投影光刻物镜研究设计 ,对波长、数值孔径和分辨力的选择 ,光学结构型式的确定 ,以及材料和试制加工工艺的考虑 ,然后给出一个数值孔径NA =0 .6 2 ,光学结构为双远心的投影光刻物镜设计结果。
关键词 激光光刻 光刻物镜设计 工作波长 投影光刻机
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激光光刻成型法在微型机械研究中的应用 被引量：7
7
作者 沈连官 王翔 邓益民 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 1995年第2期11-15,共5页
本文扼要介绍了现阶段国内外用于研制微型机械的主要方法，着重介绍了激光光刻成型法的基本原理、制作微型机械的工艺途径、技术特色及其应用前景。
关键词 微型机械 激光光刻 CAD CAM 感光树脂
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“激光光刻技术”专题前言
8
作者 陈岐岱 匡翠方 +1 位作者 曹耀宇 陈世祈 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第12期1-2,F0002,共3页
集成电路产业是现代信息社会的基石,其飞速发展与其制造工艺——光刻技术的进步密不可分。随着人工智能、光量子芯片等信息技术的发展,激光光刻凭借非接触式加工方式、高分辨率、低成本等优势,已成为制备定制化、功能化、集成化精密元... 集成电路产业是现代信息社会的基石,其飞速发展与其制造工艺——光刻技术的进步密不可分。随着人工智能、光量子芯片等信息技术的发展,激光光刻凭借非接触式加工方式、高分辨率、低成本等优势,已成为制备定制化、功能化、集成化精密元器件的关键技术。 展开更多
关键词 人工智能 信息技术 激光光刻 集成电路产业 光刻技术 定制化 精密元器件 光量子
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石墨烯微超级电容的制备和光伏组件储能性能
9
作者 胡光强 陈希 《广州化学》 CAS 2024年第1期22-27,I0002,共7页
采用滴注法制备了氧化石墨烯薄膜进行激光光刻,通过显微观察证实了还原态氧化石墨烯的生成,根据薄膜的方阻测试确定了最优的光刻参数。然后,在非晶硅组件电池的背面制备氧化石墨烯薄膜,光刻出平面叉指状电极。5个单节微超级电容的超薄... 采用滴注法制备了氧化石墨烯薄膜进行激光光刻,通过显微观察证实了还原态氧化石墨烯的生成,根据薄膜的方阻测试确定了最优的光刻参数。然后,在非晶硅组件电池的背面制备氧化石墨烯薄膜,光刻出平面叉指状电极。5个单节微超级电容的超薄电极进行串联,具有高工作电压,实现了对光伏电能的存储。结果表明该储能器件具有高循环稳定性,50次充放电循环的容量保持率为99.85%。该研究为设计制作用于光伏组件的一体化储能系统提供了新思路。 展开更多
关键词 光伏储能 激光光刻 石墨烯 微超级电容 高工作电压
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基准离焦偏差控制技术 被引量：4
10
作者 梁宜勇 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期43-45,共3页
一种新的采用基准离焦信号的针孔调焦方案,用于激光直写的自动对焦子系统。通过在离焦曲线上提取参考离焦信号,建立基准离焦判据,它能容易地区分前离焦或后离焦,有效地克服了原有针孔调焦方案难于根据离焦信号来分辨离焦方向的弱点。借... 一种新的采用基准离焦信号的针孔调焦方案,用于激光直写的自动对焦子系统。通过在离焦曲线上提取参考离焦信号,建立基准离焦判据,它能容易地区分前离焦或后离焦,有效地克服了原有针孔调焦方案难于根据离焦信号来分辨离焦方向的弱点。借助微处理器和模拟电路实现了这一方案,并因此获得了均匀的1靘线宽的线条。 展开更多
关键词 激光直写系统 针孔调焦法 激光光刻 基准离焦量 偏差控制
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准分子激光光刻技术及进展综述 被引量：5
11
作者 王光伟 《天津工程师范学院学报》 2008年第1期1-5,共5页
从准分子激光的概念及特点引入,概述了以248nm KrF、193nm ArF以及157nm F2准分子激光光刻技术的现状和进展,并探讨了该领域面临的诸多挑战以及解决思路。
关键词 准分子激光 激光光刻 刻蚀 集成电路工艺
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光学光刻技术的研究进展 被引量：3
12
作者 宋登元 王小平 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1998年第2期2-5,10,共5页
论述了相移光刻掩模技术和１９３ｎｍ准分子激光光刻技术的有关理论、实现方法、光学系统设计、透镜材料、光致抗蚀剂以及应用方面的研究进展。
关键词 相移光刻掩模 激光光刻 准分子 VLSI
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劳埃德式紫外激光干涉光刻实验
13
作者 钟晓岚 宋佳奇 +3 位作者 李晓苗 姚旭 严琪琪 金硕 《物理实验》 2023年第3期22-28,共7页
搭建了劳埃德式紫外激光干涉光刻系统,利用劳埃德镜产生双光束分波阵面干涉,通过精确调整、控制光束的入射角,设计了曝光图样.基础实验部分可以完成一维光栅制备,分析光栅周期与波长、入射角的关系;在拓展实验中,制备设计部分可以完成... 搭建了劳埃德式紫外激光干涉光刻系统,利用劳埃德镜产生双光束分波阵面干涉,通过精确调整、控制光束的入射角,设计了曝光图样.基础实验部分可以完成一维光栅制备,分析光栅周期与波长、入射角的关系;在拓展实验中,制备设计部分可以完成二维点阵或准晶结构制备,前沿拓展部分可以制备表面等离极化激元微腔.基于劳埃德式激光干涉光刻实验操作便捷、展示度高,同时涵盖光干涉原理的介绍和光路调整、样品制备和表征等实验内容,有助于学生掌握激光干涉光刻的实验技能. 展开更多
关键词 劳埃德镜 紫外激光干涉 激光光刻 微纳米技术
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全息镭射纸在烟包印刷中的平整度控制研究
14
作者 孔秀英 《印刷质量与标准化》 2023年第2期3-7,共5页
众多因素影响着全息镭射纸的平整度,本文通过实验从几个方面对影响因素进行分析研究。全息镭射纸是将激光光刻形成的全息图案,依照印刷图文制版,在塑料薄膜上进行涂布模压镀铝(或介质)形成转移膜,再与纸通过复合转移而生成的纸。全息镭... 众多因素影响着全息镭射纸的平整度,本文通过实验从几个方面对影响因素进行分析研究。全息镭射纸是将激光光刻形成的全息图案,依照印刷图文制版,在塑料薄膜上进行涂布模压镀铝(或介质)形成转移膜,再与纸通过复合转移而生成的纸。全息镭射纸作为一种新型的包装材料,不仅可以增添产品的外观色泽,还可以起到防伪的作用,目前主要应用于烟包、化妆品盒、酒盒、药品等高端包装纸。 展开更多
关键词 镭射纸 烟包印刷 包装纸 外观色泽 包装材料 激光光刻 平整度控制 全息
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聚硅烷用作紫外亚微米光刻胶 被引量：3
15
作者 苏志珊 马洪 +3 位作者 曾红梅 彭志坚 傅鹤鉴 陈德本 《四川大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2002年第2期299-303,共5页
讨论了用醇酸树脂或聚氨脂树脂为平坦层 ,几种不同的枝状和线状聚硅烷为抗蚀层 ,在玻璃基片上的XeCl准分子激光光刻效果 .由于聚硅烷与其它树脂相容性不好 ,作者将含氯聚硅烷作为添加剂添加到枝状聚硅烷中进行光刻实验 ,获得最小分辨率... 讨论了用醇酸树脂或聚氨脂树脂为平坦层 ,几种不同的枝状和线状聚硅烷为抗蚀层 ,在玻璃基片上的XeCl准分子激光光刻效果 .由于聚硅烷与其它树脂相容性不好 ,作者将含氯聚硅烷作为添加剂添加到枝状聚硅烷中进行光刻实验 ,获得最小分辨率为 0 .5 μm的明暗线条等宽图形 ,对以不同聚硅烷相互作为添加剂 ,将其配方性能优化进行了有益的尝试 . 展开更多
关键词 聚硅烷 紫外亚微米 光刻胶 O2-RIE处理 微细加工 激光光刻 抗蚀层 添加剂 亚微米图形
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双尺度织构的激光光刻工艺 被引量：2
16
作者 贺海东 郝敬宾 +4 位作者 赵恩兰 杨海峰 唐玮 朱华 钱济国 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第11期2900-2904,共5页
搭建了双光束激光干涉光刻系统和激光快速扫描系统。利用干涉光刻系统,实现了不同周期、不同深度、大面积的表面规则光栅织构的构筑。利用激光快速扫描器的二维扫描功能,通过控制激光功率和扫描速度,对曝光量和填充线条间距进行了优化... 搭建了双光束激光干涉光刻系统和激光快速扫描系统。利用干涉光刻系统,实现了不同周期、不同深度、大面积的表面规则光栅织构的构筑。利用激光快速扫描器的二维扫描功能,通过控制激光功率和扫描速度,对曝光量和填充线条间距进行了优化。提出了两种双尺度复合织构的制备方法:一种是在激光快速扫描系统中对抗蚀剂表面分别进行x,y方向的扫描光刻,然后在干涉光刻系统中进行双光束干涉光刻;另一种是在激光干涉光刻系统中进行两次曝光,每次曝光的入射角不同。实验结果表明:这两种方法在制备双尺度复合织构方面具有快速、廉价、操作简易等优点。 展开更多
关键词 双光束干涉 双尺度 表面织构 激光光刻
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激光光刻技术在防伪包装设计中的应用 被引量：2
17
作者 杨玉兰 吴龙奇 吴登科 《洛阳工学院学报》 1998年第1期89-91,共3页
提出了一种新的防伪包装原理，根据该原理设计了将激光光刻技术用于食品的防伪包装，分析表明，这是一种较先进的激光防伪包装技术，可有效地防止各种食品的制假活动。
关键词 激光光刻 防伪包装 食品包装 光刻防伪包装
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激光在半导体技术中的主要应用及进展 被引量：1
18
作者 王光伟 《科技导报》 CAS CSCD 2008年第6期78-83,共6页
简要概述了激光在半导体技术中的主要应用。这些应用大致涵盖激光掺杂、激光退火、激光沉积薄膜、激光引发固相反应和激光光刻等几方面。激光光刻中,选取248nmKrF,193nmArF和157nmF2准分子激光光刻着重进行了探讨。分析了这些激光工艺... 简要概述了激光在半导体技术中的主要应用。这些应用大致涵盖激光掺杂、激光退火、激光沉积薄膜、激光引发固相反应和激光光刻等几方面。激光光刻中,选取248nmKrF,193nmArF和157nmF2准分子激光光刻着重进行了探讨。分析了这些激光工艺的现状、特点和最新进展,并对存在的问题和发展趋势作了研究。 展开更多
关键词 激光掺杂 激光退火 激光沉积薄膜 激光固相反应 激光光刻
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校正激光直写邻近效应的快速方法 被引量：2
19
作者 杜惊雷 郭永康 +4 位作者 黄奇忠 粟敬钦 高福华 邱传凯 崔铮 《光电工程》 CAS CSCD 1998年第6期51-54,共4页
针对激光直写中的邻近效应的特点，提出通过直写曝光数据预补偿进行光学邻近效应校正的快速、有效方法，并获得了满意的实验结果。
关键词 激光直写 邻近效应 激光光刻
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深亚微米激光光刻研究 被引量：1
20
作者 路敦武 黄惠杰 +2 位作者 鄢雨 杜龙龙 高瑞昌 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第8期1169-1172,共4页
报道用远紫外准分子激光进行亚微米光刻的实验结果。以波长为２４８．３ｎｍ的ＫｒＦ准分子激光为光源，以光管均匀器为主构成照明系统，采用带有平行平板为像差校正板的１１折反射式投影光刻物镜，在两种光刻胶上分别获得了０．６μｍ... 报道用远紫外准分子激光进行亚微米光刻的实验结果。以波长为２４８．３ｎｍ的ＫｒＦ准分子激光为光源，以光管均匀器为主构成照明系统，采用带有平行平板为像差校正板的１１折反射式投影光刻物镜，在两种光刻胶上分别获得了０．６μｍ和０． 展开更多
关键词 准分子激光 激光光刻 亚微米 光刻物镜 半导体
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