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MgO/TiO_2复合薄膜太阳能电池的性能 被引量:6
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作者 于仙仙 胡志强 +2 位作者 王一 李国 高岩 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2007年第4期5-7,共3页
用sol-gel法和丝网印刷法制备多孔TiO2薄膜,溶液沉积法制备MgO/TiO2复合薄膜。研究了复合薄膜的表面形貌、断面结构、厚度等性能;组装电池,测定了电池的输出特性曲线。结果表明:MgO/TiO2复合薄膜表面平整,内部具有分布较为均匀的空隙,... 用sol-gel法和丝网印刷法制备多孔TiO2薄膜,溶液沉积法制备MgO/TiO2复合薄膜。研究了复合薄膜的表面形貌、断面结构、厚度等性能;组装电池,测定了电池的输出特性曲线。结果表明:MgO/TiO2复合薄膜表面平整,内部具有分布较为均匀的空隙,厚度约14μm;MgO薄膜的复合使染料敏化,敏化太阳能电池的开路电压从0.585V提高到0.659V,短路电流从2.057mA提高到2.348mA,从而使光电转换效率从2.24%提高到3.12%;并分析了MgO薄膜复合提高光电流响应的机理。 展开更多
关键词 光电子学与激光技术 溶液沉积 复合 薄膜 染料敏化太阳能电池
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磷酸钒锂/碳复合材料在锂离子电池中的电化学性能及电极反应动力学研究
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作者 刘昊 王瑜 +3 位作者 吴贤文 吴燕萍 胡孟婷 蒋剑波 《稀有金属与硬质合金》 CAS CSCD 北大核心 2024年第1期81-89,105,共10页
相比于溶胶-凝胶法制备的Li_(3)V_(2)(PO_(4))_(3)/C(LVP/C-S),采用水热超声辅助流变相法结合溶液沉积法制备的Li_(3)V_(2)(PO_(4))_(3)/C(LVP/C-R)复合正极材料具有更优异的电化学性能。通过XRD、SEM和Raman光谱仪等对合成材料进行表... 相比于溶胶-凝胶法制备的Li_(3)V_(2)(PO_(4))_(3)/C(LVP/C-S),采用水热超声辅助流变相法结合溶液沉积法制备的Li_(3)V_(2)(PO_(4))_(3)/C(LVP/C-R)复合正极材料具有更优异的电化学性能。通过XRD、SEM和Raman光谱仪等对合成材料进行表征。将合成材料作为锂离子电池正极组装半电池进行倍率和循环性能测试,同时通过循环伏安法、电化学阻抗以及恒流间歇滴定技术分析电极反应动力学。结果表明,水热超声辅助流变相法合成的Li_(3)V_(2)(PO_(4))_(3)(LVP-R)通过溶液沉积法包覆碳层后,晶面间距增大,粒径更小,导电性、振实密度增大,分散性明显提升。这有利于Li^(+)在正极材料中嵌入/脱出,以及缩短Li^(+)的扩散路径,从而促使锂离子电池的倍率性能、库仑效率和循环稳定性提高。LVP/C-R作为锂离子电池正极材料,在0.1 C电流密度下表现出较高的初始放电比容量(160.12 mA·h/g),且在1 C倍率下循环200圈后放电容量保持率为89.16%,远高于LVP/C-S。此外,相比于LVP/C-S和LVP-R,LVP/C-R在锂离子电池中具有更大的Li^(+)表观扩散系数且动力学性能更优。 展开更多
关键词 磷酸钒锂/碳 锂离子电池 正极材料 流变相 溶液沉积 电化学性能 Li^(+)表观扩散系数
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SDP法制备非晶Y_(2)O_(3)薄膜用于哈氏(Hastelloy C-276)合金基带表面精修
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作者 王毅 闻家成 +2 位作者 郝善鹏 李家志 索红莉 《北京工业大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第9期1029-1035,共7页
为了解决哈氏(Hastelloy C-276)合金基带表面粗糙度过大造成不平整的问题,采用溶液沉积平整化技术在哈氏合金表面制备Y_(2)O_(3)非晶薄膜来满足使用要求.通过研究前驱液的稳定性和浓度、热处理温度和涂覆次数对表面粗糙度的影响规律,同... 为了解决哈氏(Hastelloy C-276)合金基带表面粗糙度过大造成不平整的问题,采用溶液沉积平整化技术在哈氏合金表面制备Y_(2)O_(3)非晶薄膜来满足使用要求.通过研究前驱液的稳定性和浓度、热处理温度和涂覆次数对表面粗糙度的影响规律,同时采用高低浓度相结合的方法涂覆非晶薄膜来提高涂覆效率,结果表明:先使用高浓度0.40 mol/L涂覆6次,再使用低浓度0.10 mol/L涂覆6次,获得了表面平均粗糙度Ra值为0.65 nm(5μm×5μm)高表面质量的带材,涂覆效率相比使用单一溶度提高了近30%.前驱液浓度越高,溶液粒径越大,前期涂覆效果更佳,后改用低浓度粒径小的前驱液进行表面精修,可以大幅提高涂覆效率. 展开更多
关键词 哈氏合金 溶液沉积平整化 表面粗糙度 原子力显微镜 非晶Y_(2)O_(3)薄膜 溶液沉积
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化学溶液沉积法制备单分散氧化锌纳米棒阵列 被引量:17
4
作者 罗志强 张孝彬 +5 位作者 程继鹏 陶新永 李昱 刘芙 唐小明 王幼文 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2005年第18期1656-1660,共5页
在由溶胶凝胶法制备的纳米ZnO薄膜基底上,采用化学溶液沉积法制备了单分散、高度取向的ZnO纳米棒阵列膜.通过控制纳米ZnO薄膜的制备工艺,可以调节氧化锌纳米棒的直径.利用FESEM,TEM,HRTEM,SAED和XRD表征了氧化锌纳米棒阵列的形貌和晶体... 在由溶胶凝胶法制备的纳米ZnO薄膜基底上,采用化学溶液沉积法制备了单分散、高度取向的ZnO纳米棒阵列膜.通过控制纳米ZnO薄膜的制备工艺,可以调节氧化锌纳米棒的直径.利用FESEM,TEM,HRTEM,SAED和XRD表征了氧化锌纳米棒阵列的形貌和晶体结构.ZnO纳米棒的室温PL谱具有很高的紫外带边发射峰,在可见光波段无发射峰,表明该方法制备的ZnO纳米棒晶体结构完整,晶体中O空位的浓度很低. 展开更多
关键词 ZnO 纳米棒阵列 化学溶液沉积 氧化锌纳米棒 化学溶液沉积 制备工艺 单分散 阵列 纳米ZNO薄膜 HRTEM
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CdSe纳晶薄膜电极的制备及其光电性能研究 被引量:7
5
作者 张含平 林原 +2 位作者 周晓文 王正平 张宝宏 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2006年第11期17-19,共3页
利用化学溶液沉积法制备了CdSe纳晶薄膜,并用透射电子显微镜和扫描电子显微镜的EDS对其形貌和化学组成进行了表征。对CdSe纳晶薄膜电极的吸收光谱和光电性能进行了测试,结果表明,CdSe纳晶薄膜可以获得较好的光电流,这种薄膜电极改进后,... 利用化学溶液沉积法制备了CdSe纳晶薄膜,并用透射电子显微镜和扫描电子显微镜的EDS对其形貌和化学组成进行了表征。对CdSe纳晶薄膜电极的吸收光谱和光电性能进行了测试,结果表明,CdSe纳晶薄膜可以获得较好的光电流,这种薄膜电极改进后,可用于制作敏化太阳能电池的光阳极。 展开更多
关键词 化学溶液沉积 CDSE 光电性能
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Al_(2)O_(3)层厚度对PbZrO_(3)/Al_(2)O_(3)异质结薄膜储能性能的影响
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作者 王占杰 于海义 +2 位作者 邵岩 王子权 白宇 《沈阳工业大学学报》 CAS 北大核心 2024年第1期72-76,共5页
为了提高Pt/PbZrO_(3)/Pt电介质电容器的储能密度,通过热蒸镀和自然氧化方法在Pt/Ti/SiO_(2)/Si基板上沉积了厚度为0~10 nm的Al_(2)O_(3)(AO)层,采用化学溶液沉积法制备PbZrO_(3)薄膜,研究了Al_(2)O_(3)层厚度对PbZrO_(3)/Al_(2)O_(3)(P... 为了提高Pt/PbZrO_(3)/Pt电介质电容器的储能密度,通过热蒸镀和自然氧化方法在Pt/Ti/SiO_(2)/Si基板上沉积了厚度为0~10 nm的Al_(2)O_(3)(AO)层,采用化学溶液沉积法制备PbZrO_(3)薄膜,研究了Al_(2)O_(3)层厚度对PbZrO_(3)/Al_(2)O_(3)(PZO/AO)异质结薄膜储能性能的影响。结果表明:随着AO层厚度的增加,PZO/AO异质结薄膜的击穿电场强度逐渐增大,极化电场电滞回线由反铁电特征转变为铁电特征。当PZO/AO异质结薄膜的AO层厚度为5 nm时,储能密度最大值为21.2 J/cm^(3)。 展开更多
关键词 电介质电容器 PbZrO_(3)薄膜 Al_(2)O_(3)插层 铁电 反铁电 储能性能 热蒸镀 化学溶液沉积
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化学溶液沉积法制备YBCO薄膜的快速分解工艺研究 被引量:5
7
作者 黄扬 邓永昌 +2 位作者 朱晓磊 欧亚芝 蒲明华 《低温与超导》 CAS CSCD 北大核心 2012年第7期26-30,共5页
文中对化学溶液沉积法快速制备YBCO薄膜的工艺进行了探索。通过对分解工艺的优化,成功将薄膜的干燥分解时间缩短到1小时以内,而传统工艺则需要10小时以上的处理时间。以快速分解工艺成相的YBCO薄膜的X射线衍射、扫面电镜和物性测量结果... 文中对化学溶液沉积法快速制备YBCO薄膜的工艺进行了探索。通过对分解工艺的优化,成功将薄膜的干燥分解时间缩短到1小时以内,而传统工艺则需要10小时以上的处理时间。以快速分解工艺成相的YBCO薄膜的X射线衍射、扫面电镜和物性测量结果表明薄膜具有良好的c轴外延织构,表面微观形貌平整致密,临界超导转变温度(Tc)为92K。 展开更多
关键词 化学溶液沉积 YBCO薄膜 快速分解
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NiW-CeO_(2)复合电极的制备及其析氢催化性能 被引量:1
8
作者 李亚宁 李广忠 杨保军 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第3期1022-1026,共5页
以(200)择优取向的Ni-5W合金薄带为基体,采用脱合金法制备纳米多孔NiW后,再化学溶液沉积CeO_(2)制备CeO_(2)(200)晶面暴露的NiW-nano-CeO_(2)复合电极。采用AFM、XRD和XPS对电极形貌和表面结构进行表征。通过阴极极化曲线和电化学阻抗... 以(200)择优取向的Ni-5W合金薄带为基体,采用脱合金法制备纳米多孔NiW后,再化学溶液沉积CeO_(2)制备CeO_(2)(200)晶面暴露的NiW-nano-CeO_(2)复合电极。采用AFM、XRD和XPS对电极形貌和表面结构进行表征。通过阴极极化曲线和电化学阻抗技术表征各电极的电解析氢行为。结果表明,(200)晶面暴露的纳米多孔NiW-CeO_(2)电极比Ni(111)晶面暴露的Ni-CeO_(2)电极和无择优取向的NiS-CeO_(2)和NiZn-CeO_(2)电极的析氢性能好,该复合电极具有比文献中所报道的共沉积的Ni-CeO_(2)更高的交换电流密度1.7×10^(-1)A·cm^(-2)。在1.0 mol/L NaOH溶液中达到电流密度100 mA·cm^(-2)时,过电位比NiW-CeO_(2)电极和NiW电极分别降低55和81 mV。选择性暴露(200)晶面的CeO_(2)纳米粒子不仅能够促进水的分解,而且加速氢原子的吸脱附过程,因此提高了NiW-CeO_(2)复合电极的析氢速率和活性。 展开更多
关键词 NiW合金 CeO_(2) 复合电极 化学溶液沉积 析氢性能
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用化学溶液沉积方法制备Pr_(0.7)Ca_(0.3)MnO_3薄膜 被引量:3
9
作者 王群 董睿 陈立东 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期1087-1092,共6页
混合价态的锰氧化物Pr1-xCaxMnO3薄膜是近年来国际上超导体以及巨磁电阻领域的研究热点之一.本文采用化学溶液沉积方法在Pt/Ti/SiO2/Si基底上制备出Pr1-xCaxMnO3薄膜,降低了材料成本;前驱体中不使用鳌和剂,简化了工艺.采用XRD、FT-IR、... 混合价态的锰氧化物Pr1-xCaxMnO3薄膜是近年来国际上超导体以及巨磁电阻领域的研究热点之一.本文采用化学溶液沉积方法在Pt/Ti/SiO2/Si基底上制备出Pr1-xCaxMnO3薄膜,降低了材料成本;前驱体中不使用鳌和剂,简化了工艺.采用XRD、FT-IR、SEM、AFM、EPMA以及俄歇探针仪等方法对所制备的薄膜进行了表征.结果表明,实验中以较低的温度实现了PCMO钙钛矿结构的晶化;薄膜平整光滑致密,各组分分布均匀,C杂质含量处于很低的水平. 展开更多
关键词 混合价锰氧化物 薄膜 化学溶液沉积
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化学溶液沉积法制备铁掺杂镍酸镧薄膜的结构及电学性能研究 被引量:3
10
作者 陈如麒 翁嘉文 +2 位作者 劳媚媚 徐军 朱贵文 《中山大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2012年第3期60-62,共3页
采用化学溶液沉积法,在(100)取向单晶硅衬底上制备铁掺杂镍酸镧(LaNi1-xFexO3,LNFeO-x)薄膜,研究了其结构和室温下的导电特性。X射线衍射测试结果表明,经700℃1 h退火的薄膜呈钙钛矿结构,没有可以观察到的杂相生成。薄膜表面平整、致密... 采用化学溶液沉积法,在(100)取向单晶硅衬底上制备铁掺杂镍酸镧(LaNi1-xFexO3,LNFeO-x)薄膜,研究了其结构和室温下的导电特性。X射线衍射测试结果表明,经700℃1 h退火的薄膜呈钙钛矿结构,没有可以观察到的杂相生成。薄膜表面平整、致密,没有微裂痕出现。随着铁含量的增加,薄膜电阻率由1.7 mΩ.cm增加到3.9 mΩ.cm。 展开更多
关键词 LaNi1-xFexO3 LNFeO-x 化学溶液沉积 CSD
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CSD法在亲水性的FTO基板上制备BiFeO3薄膜及其电性能的研究 被引量:3
11
作者 程蒙 谈国强 +2 位作者 夏傲 任慧君 王艳 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第2期250-252,共3页
利用化学溶液沉积法在亲水性的FTO基板上制备BiFeO3薄膜。利用XRD、FE-SEM、XPS、Agi-lent E4980A精密LCR仪及TF-Analyzer2000等分析手段对BiFeO3薄膜进行表征。结果表明,薄膜为纯相的结晶良好的多晶BiFeO3薄膜,由100~300nm的BiFeO3晶... 利用化学溶液沉积法在亲水性的FTO基板上制备BiFeO3薄膜。利用XRD、FE-SEM、XPS、Agi-lent E4980A精密LCR仪及TF-Analyzer2000等分析手段对BiFeO3薄膜进行表征。结果表明,薄膜为纯相的结晶良好的多晶BiFeO3薄膜,由100~300nm的BiFeO3晶粒紧密的堆积而成,表面均匀平整。薄膜厚度为450nm。Fe的氧化态为Fe3+,并没有Fe2+出现。在10kHz时,介电常数和损耗分别为134和0.005。薄膜的剩余极化率为0.58μC/cm2,在0~250kV/cm的测试电场下漏导电流步伐保持在10-6 A/cm2以下。 展开更多
关键词 BIFEO3 多铁薄膜 化学溶液沉积 亲水性
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化学溶液沉积(CSD)法制备YBCO薄膜研究进展 被引量:3
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作者 张黄莉 赵高扬 《低温与超导》 CAS CSCD 北大核心 2010年第9期31-33,40,共4页
采用CSD法制备YBCO薄膜可精确的控制组份,不需要真空设备,成为近年来的研究热点之一。文中概述了CSD法制备YBCO薄膜的研究进展,总结了在不同的CSD工艺中,起始原料、化学添加剂对YBCO薄膜热处理时间、质量、可重复性等因素的影响。
关键词 化学溶液沉积 YBCO薄膜 前驱液
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热处理温度对化学溶液沉积GdBiO_3薄膜生长的影响 被引量:2
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作者 王祖强 蒲明华 +5 位作者 木丽云 孙瑞萍 李果 王文涛 白云强 赵勇 《低温与超导》 CAS CSCD 北大核心 2008年第4期36-39,共4页
以铋、钆的硝酸盐等制备前驱溶胶体系,用CSD法在SrTiO3(100)基底上制备出c轴织构良好的可作为涂层导体缓冲层的GdBiO3(GBO)薄膜。首先利用差热分析的结果对GBO薄膜分解过程的吸、放热情况进行了研究,确定了较为适当的有机物分解工艺。... 以铋、钆的硝酸盐等制备前驱溶胶体系,用CSD法在SrTiO3(100)基底上制备出c轴织构良好的可作为涂层导体缓冲层的GdBiO3(GBO)薄膜。首先利用差热分析的结果对GBO薄膜分解过程的吸、放热情况进行了研究,确定了较为适当的有机物分解工艺。在此基础上研究了不同外延成相热处理温度对GBO薄膜生长的影响,并对较高温度处理后样品产生裂纹的原因进行了初步分析。GBO薄膜的相组成和微结构利用XRD和SEM进行分析。研究结果表明,在Ar气氛中适宜于GBO薄膜生长的最佳温度在770℃度附近,在此条件下可以制备出表面平整致密的GBO薄膜。 展开更多
关键词 化学溶液沉积 GdBiO3 外延薄膜 REBCO涂层导体
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镍酸镧界面层对锆钛酸铅膜–钴铁氧体陶瓷复合磁电材料性能的影响 被引量:3
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作者 王婧 李峥 +2 位作者 沈洋 林元华 南策文 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第10期1313-1317,1322,共6页
以化学溶液沉积法制得的LaNiO3薄膜作为Pb(Zr0.52Ti0.48)O3膜-CoFe2O4陶瓷复合材料的导电界面层,利用其优良的导电性保证磁电信号的有效输出。LaNiO3界面层的引入,使得复合材料体系的铁电性能、压电性能得到有效表达,其层面内磁电耦合... 以化学溶液沉积法制得的LaNiO3薄膜作为Pb(Zr0.52Ti0.48)O3膜-CoFe2O4陶瓷复合材料的导电界面层,利用其优良的导电性保证磁电信号的有效输出。LaNiO3界面层的引入,使得复合材料体系的铁电性能、压电性能得到有效表达,其层面内磁电耦合系数达到58mV/(cm Oe)。继续优化制备工艺及界面层的参数,磁电耦合性能将进一步提高。 展开更多
关键词 磁电复合材料 金属氧化物 化学溶液沉积 多铁性
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化学溶液沉积法制备掺镧Bi_2Ti_2O_7薄膜及其特性的研究 被引量:3
15
作者 杨雪娜 王弘 +4 位作者 尚淑霞 姚伟峰 张寅 刘延辉 周静涛 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期251-254,共4页
采用化学溶液沉积法 ,在Si(10 0 )衬底上制备了 (Bi0 .92 5La0 .0 75) 2 Ti2 O7薄膜。通过对其X射线衍射图谱分析表明 :用一定量的La3+ 来代替部分Bi3+ ,提高了Bi2 Ti2 O7相薄膜的稳定性。研究发现 :经过高温 (85 0℃ )退火处理后 ,该... 采用化学溶液沉积法 ,在Si(10 0 )衬底上制备了 (Bi0 .92 5La0 .0 75) 2 Ti2 O7薄膜。通过对其X射线衍射图谱分析表明 :用一定量的La3+ 来代替部分Bi3+ ,提高了Bi2 Ti2 O7相薄膜的稳定性。研究发现 :经过高温 (85 0℃ )退火处理后 ,该薄膜的结晶性和取向性都很好 ,[111]方向取向率为 90 %。根据XRD谱图中的 (4 4 4)衍射峰 ,计算出晶格常数a≈ 2 0 .66 。薄膜的电流电压和电容电压特性的测量结果表明 ,该薄膜具有良好的绝缘性和较高的介电常数。 展开更多
关键词 掺镧钛酸铋 薄膜 化学溶液沉积 X射线衍射
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ZnS:Cu,Pb,Mn薄膜的红外上转换效率测试研究 被引量:2
16
作者 吴先权 华文深 +2 位作者 赵莉君 谢大兵 李晓明 《科学技术与工程》 2010年第31期7705-7707,7713,共4页
采用化学溶液沉积法制备了一系列不同厚度的具有上转换特性的电子俘获材料ZnS:Cu,Pb,Mn薄膜,利用短波红外激光及双通道功率计测试了它们的上转换效率。指出了ZnS:Cu,Pb,Mn薄膜的上转换效率不仅与厚度有关系,并且存在"耗尽"现... 采用化学溶液沉积法制备了一系列不同厚度的具有上转换特性的电子俘获材料ZnS:Cu,Pb,Mn薄膜,利用短波红外激光及双通道功率计测试了它们的上转换效率。指出了ZnS:Cu,Pb,Mn薄膜的上转换效率不仅与厚度有关系,并且存在"耗尽"现象。ZnS:Cu,Pb,Mn薄膜的上转换效率随着厚度的增加呈现先上升后下降的趋势,厚度在30μm左右的薄膜上转换效率最高。 展开更多
关键词 电子俘获材料 化学溶液沉积 红外上转换效率
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应用化学溶液沉积法制备薄膜 被引量:1
17
作者 文自立 《青海师范大学学报(自然科学版)》 2003年第2期45-47,共3页
本文介绍应用化学溶液沉积法制备超导薄膜的方法.原则上应用这种方法可以广泛制备诸如氧化物铁电薄膜、氧化物介质薄膜、半导体薄膜、金属化合物薄膜等各类薄膜,广泛应用于科研和生产中.其方法成本低廉、工艺简单、制备周期短、且可在... 本文介绍应用化学溶液沉积法制备超导薄膜的方法.原则上应用这种方法可以广泛制备诸如氧化物铁电薄膜、氧化物介质薄膜、半导体薄膜、金属化合物薄膜等各类薄膜,广泛应用于科研和生产中.其方法成本低廉、工艺简单、制备周期短、且可在较低温度下成相,是一种制备薄膜的好方法.这里从理论与实践的结合上给以论述. 展开更多
关键词 化学溶液沉积 薄膜制备 超导电性
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化学溶液沉积法制备自取向BiFeO_3多铁薄膜 被引量:2
18
作者 陈蕊 黄科科 +2 位作者 吴小峰 司文哲 冯守华 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第10期2270-2273,共4页
通过化学溶液沉积法在氧化铟锡(ITO)/导电玻璃上生长了BiFeO3多晶薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱分析仪(XPS)、磁性测量系统(MPMS)和铁电测试仪对样品的结构、形貌、元素价态、铁磁性和铁电性进行研... 通过化学溶液沉积法在氧化铟锡(ITO)/导电玻璃上生长了BiFeO3多晶薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱分析仪(XPS)、磁性测量系统(MPMS)和铁电测试仪对样品的结构、形貌、元素价态、铁磁性和铁电性进行研究.结果表明,薄膜为自取向生长,具有良好的[101]生长取向和平整的表面.室温下,样品呈铁磁性,沿样品取向方向为易磁化轴方向.铁电测试结果表明,其饱和电极化强度达到51.3μC/cm2. 展开更多
关键词 多铁材料 BIFEO3薄膜 化学溶液沉积 磁电效应
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壳聚糖/ZnO复合材料制备及表征 被引量:2
19
作者 宁光辉 林海娟 《四川师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2011年第6期864-868,共5页
通过在壳聚糖(CS)溶液中掺入乙酸锌制备了Zn2+/CS复合膜,采用化学溶液沉积法,在Zn2+/CS复合膜上生长氧化锌(ZnO),并通过改变生长液的组成成分寻找其最简单、优化的试验方案.通过UV-Vis、XRD和SEM表征,对样品进行分析研究.结果表明,在Zn(... 通过在壳聚糖(CS)溶液中掺入乙酸锌制备了Zn2+/CS复合膜,采用化学溶液沉积法,在Zn2+/CS复合膜上生长氧化锌(ZnO),并通过改变生长液的组成成分寻找其最简单、优化的试验方案.通过UV-Vis、XRD和SEM表征,对样品进行分析研究.结果表明,在Zn(NO)3.6H2 O和NaOH组成的化学溶液环境中,Zn2+/CS复合膜中的ZnO最易生长,在Zn2+/CS复合膜的表面首先形成了一层ZnO粒子膜,然后ZnO粒子长大成六角纤锌结构、没有明显的择优取向的ZnO棒.光学性能测试显示ZnO/壳聚糖复合材料具有良好的光致发光性能.电阻率的测定表明ZnO/壳聚糖复合材料是一种防静电材料. 展开更多
关键词 壳聚糖 氧化锌 复合膜 化学溶液沉积
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Bi_(3.25)La_(0.75)Ti_3O_(12)超薄铁电薄膜的光学性质研究 被引量:2
20
作者 胡志高 王根水 +3 位作者 黄志明 孟祥建 石富文 褚君浩 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期256-260,共5页
采用化学溶液沉积法在Pt/Ti/SiO2 /Si衬底上制备了厚度小于 10 0nm的Bi3 .2 5La0 .75Ti3 O12 (BLT)铁电薄膜 ,测量了光子能量为 2~ 4 .5eV的紫外可见椭圆偏振光谱 .根据经典的电介质光学色散关系和五相结构模型 ,拟合获得薄膜在透明区... 采用化学溶液沉积法在Pt/Ti/SiO2 /Si衬底上制备了厚度小于 10 0nm的Bi3 .2 5La0 .75Ti3 O12 (BLT)铁电薄膜 ,测量了光子能量为 2~ 4 .5eV的紫外可见椭圆偏振光谱 .根据经典的电介质光学色散关系和五相结构模型 ,拟合获得薄膜在透明区和吸收区的光学常数、表面粗糙度、薄膜与衬底界面层以及BLT薄膜的厚度 .薄膜在透明区的折射率色散关系可以通过单电子Sellmeier模型成功地进行解释 .最后 ,根据Tauc′s法则 ,得到Bi3 .2 5La0 .75Ti3 O12 薄膜的直接禁带宽度为 3.96eV . 展开更多
关键词 椭偏光谱 光学常数 光电材料 禁带宽度 化学溶液沉积 铁电薄膜 光子能量 光学色散关系 表面粗糙度
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