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半导体化学溶液的浓度控制 被引量：3
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作者 张正荣 汪辉 《电子与封装》 2008年第1期33-36,共4页
在半导体制造工艺中,湿法清洗和刻蚀技术是其中重要的组成部分。文章着重介绍了半导体湿法清洗和刻蚀技术中化学品的化学配比和相关用途,并且重点讲述了化学品浓度控制的重要性及其常用的控制方式。
关键词 半导体制造 湿式清洗 湿式蚀刻 湿式化学品
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