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六芳基双咪唑复合光引发体系的研究及其在液态光致抗蚀剂中的应用 被引量:6
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作者 胡建琪 应明友 +5 位作者 钱晓春 吴士荣 张胜文 刘仁 江金强 刘晓亚 《信息记录材料》 2008年第4期46-51,共6页
光引发剂邻氯代六芳基双咪唑(BCIM)、增感剂4,4-二(N,N’-二甲基-氨基)苯甲酮(EMK)与4种不同的供氢体N-苯基甘氨酸(NPG)、2-巯基苯并噻唑(MBO)、2-巯基苯并咪唑(MBI)、十二烷基硫醇(RSH)组成4种复合光引发体系。通过实时红外光谱研究了... 光引发剂邻氯代六芳基双咪唑(BCIM)、增感剂4,4-二(N,N’-二甲基-氨基)苯甲酮(EMK)与4种不同的供氢体N-苯基甘氨酸(NPG)、2-巯基苯并噻唑(MBO)、2-巯基苯并咪唑(MBI)、十二烷基硫醇(RSH)组成4种复合光引发体系。通过实时红外光谱研究了供氢体种类、复合引发剂用量对光致抗蚀剂感光性能的影响,并用该复合引发体系替代传统的907/ITX光引发体系制备线路板用液态光致抗蚀剂中,研究结果表明BCIM、EMK、NPG复合光引发体系效果比传统907/ITX光引发体系有提高,所得线路板成像边缘更光滑。 展开更多
关键词 邻氯代六芳基双咪唑 供氢体 增感剂 液态光致抗蚀剂 感光性能
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PCB液态感光油墨应用的故障与对策
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作者 张志祥 《印制电路信息》 2003年第9期39-44,共6页
本文结合PCB生产实际,阐述液态感光油墨在PCB表面涂覆应用过后,存在隐患因素对后工序生产问题引发的弊 端及对策.
关键词 液态感光油墨 表面涂覆 印制电路板 隐患因素 图形转移 液态光致抗蚀剂 液态感光阻焊膜 丝网印刷
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辊轮涂覆液态光致抗蚀剂的应用与实践 被引量:2
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作者 胡永栓 《印制电路信息》 1999年第5期24-26,共3页
本文简要对比了液态光致抗蚀剂几种工艺的基本特点,着重介绍了辊轮涂覆在我司的应用与实践。
关键词 液态光致抗蚀剂 辊轮涂覆
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紫外光固化涂料—液态光致抗蚀剂
4
作者 周亮 《中国生漆》 2003年第1期14-20,共7页
简单介绍了紫外光固化的原理 ,紫外光固化涂料的配方构成、固化设备及原材料的选择 ,并举例描述了液态光致抗蚀剂的组成和特性。
关键词 紫外光固化 液态光致抗蚀剂 感光树脂 印制线路板
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Fabrication of curved micro structures on photoresist layer 被引量:1
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作者 Jae Sung YOON Tae-Jin JE +2 位作者 Doo-Sun CHOI Sung Hwan CHANG Kyung-Hyun WHANG 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第A01期100-103,共4页
A novel fabrication process for micro patterns with curvature was introduced. The curved structures were made by compensating rectangular micro structures with liquid photoresist layer. Because of the surface tension ... A novel fabrication process for micro patterns with curvature was introduced. The curved structures were made by compensating rectangular micro structures with liquid photoresist layer. Because of the surface tension of the liquid in micro scale, various shapes of meniscus can he made on the micro channels. The micro channels were made on the silicon suhstrate in advance, and then the liquid layer was coated on the micro channels. From the nature of liquid behavior, the curved patterns with smooth surface are obtained, which cannot be made easily with the conventional mechanical machining, as well as with the microfabrication processes, such as wet and dry etching. With this principle, it is expected that the smooth and curved surfaces can be made by simple processes and the results can be applied widely, such as optical patterns. 展开更多
关键词 micro pattern liquid layer MEMS micro channel silicon substrate
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液态光致抗蚀剂浅析 被引量:1
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作者 张青 阙民辉 《印制电路信息》 2002年第8期26-29,共4页
该文结合公司对多种国内、国外液态光致抗蚀剂(Liquid Photoresist)的试用和现在批量使用温膜的实际生产情况中的经验,主要讨论了液态光致抗蚀剂在印制板生产中的运用。同时,介绍了液态光致抗蚀剂的优点和生产中应用注意事项。
关键词 液态光致抗蚀剂 网印前处理 图形转移 退墨 蚀刻
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光致抗蚀剂干膜
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作者 Klaus Maurischat 蔡积庆 《印制电路信息》 1999年第5期32-35,共4页
1.干膜光致抗蚀剂干膜光致抗蚀剂发明于30多年前。最初的工业应用可以追溯到70年代早期。从那时以来,如果没有干膜,PCB的成像加工几乎是不可想象的。尽管人们在初期曾有疑虑,但是与较为便利的丝印工艺比较,干膜光致抗蚀剂迅速显现其价值... 1.干膜光致抗蚀剂干膜光致抗蚀剂发明于30多年前。最初的工业应用可以追溯到70年代早期。从那时以来,如果没有干膜,PCB的成像加工几乎是不可想象的。尽管人们在初期曾有疑虑,但是与较为便利的丝印工艺比较,干膜光致抗蚀剂迅速显现其价值,并取代了液态光致抗蚀剂。这种成功是合乎情理的。当微型化刚开始时,手工丝印有着明显的局限性。液态抗蚀剂难以提供完整的工艺体系,仅仅作为产品是缺乏持久的支持力的。干膜则是适应了技术进步的需要,干膜体系中包括了易于操作的加工设备和抗蚀剂工艺技术,因此PCB制造商可以把精力集中于制造PCB的主要任务,结果可以使用户和供应商之间进行长期的紧密合作。(见图1和图2) 展开更多
关键词 液态光致抗蚀剂 干膜 图形转移工艺 工业应用 工艺技术 微型化 主要任务 技术进步 工艺比较 加工设备
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新型辊涂设备——用于新一代液态光致抗蚀剂粉墨登场
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作者 Klaus Maurischat 丁志廉 《印制电路信息》 2001年第2期48-50,25,共4页
超过5年以上应用的液态光致抗蚀剂表明,以液态光致抗蚀剂取代干膜抗蚀剂所取得成本效益而得到了接受.在1999年用于内层制造的光致抗蚀剂估计约在220百万平方米,而液态光致抗蚀剂所占份额超过25百万平方米.在今后几年内这种发展趋势还会... 超过5年以上应用的液态光致抗蚀剂表明,以液态光致抗蚀剂取代干膜抗蚀剂所取得成本效益而得到了接受.在1999年用于内层制造的光致抗蚀剂估计约在220百万平方米,而液态光致抗蚀剂所占份额超过25百万平方米.在今后几年内这种发展趋势还会继续下去.根据这个实际预测,到2001年,液态光致抗蚀剂将达到20%(参见表1) 展开更多
关键词 涂料 辊涂设备 液态光致抗蚀剂
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液态光致抗蚀剂——在PCB制造工艺中应用
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《电子电路与贴装》 2004年第2期30-34,共5页
液态光致抗蚀剂(俗称湿膜)是一种新型的感光材料随着表面贴装技术(SMT)和芯片组装技术(CMT)的飞速成发展.对印制板导线的精度要求越来越高,仍采用传统的干膜工艺进行图形转移存在着难以克服的难题,即分辩率的问题:原因是由于下膜感... 液态光致抗蚀剂(俗称湿膜)是一种新型的感光材料随着表面贴装技术(SMT)和芯片组装技术(CMT)的飞速成发展.对印制板导线的精度要求越来越高,仍采用传统的干膜工艺进行图形转移存在着难以克服的难题,即分辩率的问题:原因是由于下膜感光层表面的聚酯薄膜(厚度25μm) 展开更多
关键词 液态光致抗蚀剂 PCB 工艺流程 涂布 预烘 曝光
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湿膜和滚涂技术
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作者 吴清波 《网印工业》 2002年第4期23-28,共6页
1大规模内层生产中,湿膜取代干膜,势不可挡 湿膜又称液态光致抗蚀剂(Liquid photoresist),简称LPR.在60年代中期,由于在线路图形制造过程中存在缺限,使湿膜第一次有机会取代丝网印刷工艺,后来,由于人们存在湿膜工序缺乏足够理想的、与... 1大规模内层生产中,湿膜取代干膜,势不可挡 湿膜又称液态光致抗蚀剂(Liquid photoresist),简称LPR.在60年代中期,由于在线路图形制造过程中存在缺限,使湿膜第一次有机会取代丝网印刷工艺,后来,由于人们存在湿膜工序缺乏足够理想的、与之相配套的设备的想法,并且由于湿膜在通孔板的制作时有一定困难,以及不能控制形成足够的抗蚀层厚度来满足图像的显影,在这场竞争中,最终干膜取胜,并赢得了广大市场. 展开更多
关键词 湿膜 滚涂 液态光致抗蚀剂 发展趋势
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液态光致抗蚀剂及图形转移工艺
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作者 任桂珍 《印制电路与贴装》 2001年第11期23-27,共5页
关键词 液态光致抗蚀剂 图形转移工艺 印刷电路板
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光致抗蚀干膜的湿法贴膜
12
作者 李海 《印制电路信息》 1997年第7期41-43,共3页
为了提高光致抗蚀干膜在热辊贴膜中的覆形性,湿法贴膜已在印制板制造业中成功应用了许多年,即在贴干膜前,在基材表面上涂一层薄薄的水膜。与干法贴膜相比,尽管湿法贴膜要求额外的操作,但许多印制板生产厂商仍采用这一技术,这是因为只需... 为了提高光致抗蚀干膜在热辊贴膜中的覆形性,湿法贴膜已在印制板制造业中成功应用了许多年,即在贴干膜前,在基材表面上涂一层薄薄的水膜。与干法贴膜相比,尽管湿法贴膜要求额外的操作,但许多印制板生产厂商仍采用这一技术,这是因为只需少量的投入及维护开支,就可以大大提高产出合格率。 展开更多
关键词 液态光致抗蚀剂 贴膜 抗蚀材料 湿法 不规则表面 络合物 离子交换树脂 亲水性 印制板 化学反应
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光致抗蚀剂湿膜网版印刷工艺
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作者 刘永庆 《丝网印刷》 2013年第9期7-11,共5页
湿膜技术又可称为液态光致抗蚀剂图像转移工艺,光化学图像转移是制造印制板过程中的一道工序,它是将照相底版上的电路图像转移到覆铜箔层压板上,形成一种抗蚀或抗电镀的掩膜图像。液态光致抗蚀剂是国外20世纪90年代初发展起来的一种... 湿膜技术又可称为液态光致抗蚀剂图像转移工艺,光化学图像转移是制造印制板过程中的一道工序,它是将照相底版上的电路图像转移到覆铜箔层压板上,形成一种抗蚀或抗电镀的掩膜图像。液态光致抗蚀剂是国外20世纪90年代初发展起来的一种感光材料。 展开更多
关键词 液态光致抗蚀剂 网版印刷工艺 图像转移 湿膜 覆铜箔层压板 一道工序 感光材料 膜技术
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应用液态光致抗蚀剂制作高密度图形的经验简谈
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《电子电路与贴装》 2002年第1期37-39,共3页
关键词 液态光致抗蚀剂 高密度图形 印刷电路板
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