期刊导航
期刊开放获取
cqvip
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
5
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
浸没式光刻机浸液系统污染控制研究现状及进展
被引量：
1
1
作者
付婧媛
苏芮
+1 位作者
阮晓东
付新
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2022年第9期244-257,共14页
浸没式光刻是实现5 nm以上线宽高性能超大规模集成电路产品制造的关键技术。相比传统干式光刻,浸没式光刻需在末端物镜和硅片之间填充浸没液体。浸没液体的高折射率可以提高光刻机的数值孔径和曝光分辨率,但也对浸没式光刻的污染控制提...
浸没式光刻是实现5 nm以上线宽高性能超大规模集成电路产品制造的关键技术。相比传统干式光刻,浸没式光刻需在末端物镜和硅片之间填充浸没液体。浸没液体的高折射率可以提高光刻机的数值孔径和曝光分辨率,但也对浸没式光刻的污染控制提出了挑战。为了减少曝光缺陷,提升曝光良率,需要对浸液系统中的各类污染物进行高精度检测与精准控制,以达到超洁净流控。从浸没式光刻技术的原理出发对比分析了干式光刻与浸没式光刻,概述了浸没式光刻机的发展历程,着重介绍了浸没式光刻浸液系统中几种污染物的产生机理、检测方法和控制手段,为进一步提高浸没式光刻芯片的曝光良品率提供了理论基础。
展开更多
关键词
浸没
式光刻机
浸没
系统
污染机理
污染检测
污染控制
原文传递
缩短批次式清洗周期的策略
被引量：
1
2
作者
Jeffery W.Butterbaugh
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2005年第8期50-53,61,共5页
在总的构成先进的90nm器件工艺步骤中,晶圆清洗工艺占了近15%。性能和处理量优势是在清洗中继续采用批次式处理方式的主要原因。但是,对周期时间的关注推动了单晶圆清洗工艺的开发。在本工作中,介绍了批次式处理周期时间的改善,提供了...
在总的构成先进的90nm器件工艺步骤中,晶圆清洗工艺占了近15%。性能和处理量优势是在清洗中继续采用批次式处理方式的主要原因。但是,对周期时间的关注推动了单晶圆清洗工艺的开发。在本工作中,介绍了批次式处理周期时间的改善,提供了一种保持性能和处理量,同时又能实现清洗工艺生产力增长的可选方法。
展开更多
关键词
半导体器件
单晶圆
系统
批次式
浸没
系统
清洗工艺
下载PDF
职称材料
光刻机浸没液体控制系统的研究现状及进展
被引量：
5
3
作者
傅新
陈晖
+1 位作者
陈文昱
陈颖
《机械工程学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第16期170-175,共6页
浸没式光刻机是目前在45nm以下IC生产线上唯一获得应用的新光刻装备。浸没控制系统是浸没式光刻机的核心子系统之一,用于在最后一片投影物镜和硅片之间,提供并维持具有高度洁净度与稳定性的缝隙流场,利用高折射率浸没液体,提高光刻分辨...
浸没式光刻机是目前在45nm以下IC生产线上唯一获得应用的新光刻装备。浸没控制系统是浸没式光刻机的核心子系统之一,用于在最后一片投影物镜和硅片之间,提供并维持具有高度洁净度与稳定性的缝隙流场,利用高折射率浸没液体,提高光刻分辨率。介绍浸没控制系统的技术背景、组成及其特点,论述国外在液体浸没方式、液体动态密封、流场检测与控制、曝光热效应和气泡控制等关键技术方面的研究成果以及国内自主研发的进展。针对浸没式光刻机向着更高光刻分辨率和更高生产率不断延伸的特点,对浸没液体控制系统的发展前景进行展望,指出其发展中面临的挑战与有待解决的关键技术,浸没液体控制系统将在浸没式光刻机的发展过程中继续扮演着重要角色。
展开更多
关键词
浸没
式光刻机
浸没
控制
系统
浸没
液体
下载PDF
职称材料
浸没式膜系统的特点及应用
被引量：
3
4
作者
周秀凤
《环保科技》
2013年第4期39-42,共4页
浸没式膜系统作为膜过滤的主要应用形式之一,在中水回用、给水处理、已建水厂升级改造等方面,发挥着日益重要的作用。对浸没式膜系统的形式和特点进行总结,重点分析对比了与加压式膜系统在结构特点、运行和投资方面等方面的不同,并列举...
浸没式膜系统作为膜过滤的主要应用形式之一,在中水回用、给水处理、已建水厂升级改造等方面,发挥着日益重要的作用。对浸没式膜系统的形式和特点进行总结,重点分析对比了与加压式膜系统在结构特点、运行和投资方面等方面的不同,并列举其在国内外应用情况。
展开更多
关键词
膜过滤
浸没
式
系统
中水回用
升级改造
下载PDF
职称材料
新型超滤技术在净水厂的应用
被引量：
1
5
作者
叶书荣
冯暨伟
《华电技术》
CAS
2016年第3期14-16,20,共4页
介绍了超滤技术的特点,结合漯河某净水厂项目,对比了压力式超滤系统和浸没式超滤系统的膜组件参数、建设成本及运行成本等,确定压力式超滤膜系统可以长期维持较高膜通量运行,较浸没式超滤系统更具技术、经济优势。最后指出,在净水厂采用...
介绍了超滤技术的特点,结合漯河某净水厂项目,对比了压力式超滤系统和浸没式超滤系统的膜组件参数、建设成本及运行成本等,确定压力式超滤膜系统可以长期维持较高膜通量运行,较浸没式超滤系统更具技术、经济优势。最后指出,在净水厂采用"混凝沉淀+超滤"的新型短流程工艺,应优先选择铁盐混凝剂,严格控制沉淀池出水的混凝剂和助凝剂残余量。
展开更多
关键词
净水厂
自来水
超滤膜
压力式超滤
系统
浸没
式超滤
系统
下载PDF
职称材料
题名
浸没式光刻机浸液系统污染控制研究现状及进展
被引量：
1
1
作者
付婧媛
苏芮
阮晓东
付新
机构
浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室
出处
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2022年第9期244-257,共14页
基金
国家自然科学基金(52105071)
中央高校基本科研业务费专项资金(2021QNA4002)。
文摘
浸没式光刻是实现5 nm以上线宽高性能超大规模集成电路产品制造的关键技术。相比传统干式光刻,浸没式光刻需在末端物镜和硅片之间填充浸没液体。浸没液体的高折射率可以提高光刻机的数值孔径和曝光分辨率,但也对浸没式光刻的污染控制提出了挑战。为了减少曝光缺陷,提升曝光良率,需要对浸液系统中的各类污染物进行高精度检测与精准控制,以达到超洁净流控。从浸没式光刻技术的原理出发对比分析了干式光刻与浸没式光刻,概述了浸没式光刻机的发展历程,着重介绍了浸没式光刻浸液系统中几种污染物的产生机理、检测方法和控制手段,为进一步提高浸没式光刻芯片的曝光良品率提供了理论基础。
关键词
浸没
式光刻机
浸没
系统
污染机理
污染检测
污染控制
Keywords
immersion lithography
immersion system
contamination mechanism
contamination detection
contamination control
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
缩短批次式清洗周期的策略
被引量：
1
2
作者
Jeffery W.Butterbaugh
机构
FSI International
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2005年第8期50-53,61,共5页
文摘
在总的构成先进的90nm器件工艺步骤中,晶圆清洗工艺占了近15%。性能和处理量优势是在清洗中继续采用批次式处理方式的主要原因。但是,对周期时间的关注推动了单晶圆清洗工艺的开发。在本工作中,介绍了批次式处理周期时间的改善,提供了一种保持性能和处理量,同时又能实现清洗工艺生产力增长的可选方法。
关键词
半导体器件
单晶圆
系统
批次式
浸没
系统
清洗工艺
Keywords
Batch, Single Wafer, Cleaning, Cycle Time, Throughput
分类号
TN305.2 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
光刻机浸没液体控制系统的研究现状及进展
被引量：
5
3
作者
傅新
陈晖
陈文昱
陈颖
机构
浙江大学流体传动及控制国家重点实验室
出处
《机械工程学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第16期170-175,共6页
基金
国际合作资助项目(2008DFR70410)
文摘
浸没式光刻机是目前在45nm以下IC生产线上唯一获得应用的新光刻装备。浸没控制系统是浸没式光刻机的核心子系统之一,用于在最后一片投影物镜和硅片之间,提供并维持具有高度洁净度与稳定性的缝隙流场,利用高折射率浸没液体,提高光刻分辨率。介绍浸没控制系统的技术背景、组成及其特点,论述国外在液体浸没方式、液体动态密封、流场检测与控制、曝光热效应和气泡控制等关键技术方面的研究成果以及国内自主研发的进展。针对浸没式光刻机向着更高光刻分辨率和更高生产率不断延伸的特点,对浸没液体控制系统的发展前景进行展望,指出其发展中面临的挑战与有待解决的关键技术,浸没液体控制系统将在浸没式光刻机的发展过程中继续扮演着重要角色。
关键词
浸没
式光刻机
浸没
控制
系统
浸没
液体
Keywords
Immersion lithography machine Immersion control system Immersion fluid
分类号
TH137 [机械工程—机械制造及自动化]
下载PDF
职称材料
题名
浸没式膜系统的特点及应用
被引量：
3
4
作者
周秀凤
机构
西门子(天津)水技术工程有限公司
出处
《环保科技》
2013年第4期39-42,共4页
文摘
浸没式膜系统作为膜过滤的主要应用形式之一,在中水回用、给水处理、已建水厂升级改造等方面,发挥着日益重要的作用。对浸没式膜系统的形式和特点进行总结,重点分析对比了与加压式膜系统在结构特点、运行和投资方面等方面的不同,并列举其在国内外应用情况。
关键词
膜过滤
浸没
式
系统
中水回用
升级改造
Keywords
membrane filtration
submerged membrane system
water reuse
retrofit
分类号
X703 [环境科学与工程—环境工程]
下载PDF
职称材料
题名
新型超滤技术在净水厂的应用
被引量：
1
5
作者
叶书荣
冯暨伟
机构
华电水务控股有限公司
出处
《华电技术》
CAS
2016年第3期14-16,20,共4页
文摘
介绍了超滤技术的特点,结合漯河某净水厂项目,对比了压力式超滤系统和浸没式超滤系统的膜组件参数、建设成本及运行成本等,确定压力式超滤膜系统可以长期维持较高膜通量运行,较浸没式超滤系统更具技术、经济优势。最后指出,在净水厂采用"混凝沉淀+超滤"的新型短流程工艺,应优先选择铁盐混凝剂,严格控制沉淀池出水的混凝剂和助凝剂残余量。
关键词
净水厂
自来水
超滤膜
压力式超滤
系统
浸没
式超滤
系统
Keywords
water purification plant
tap water
ultrafiltration membrane
pressure type ultrafiltration system
immersion ultrafiltration system
分类号
TU991.2 [建筑科学—市政工程]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
浸没式光刻机浸液系统污染控制研究现状及进展
付婧媛
苏芮
阮晓东
付新
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2022
1
原文传递
2
缩短批次式清洗周期的策略
Jeffery W.Butterbaugh
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2005
1
下载PDF
职称材料
3
光刻机浸没液体控制系统的研究现状及进展
傅新
陈晖
陈文昱
陈颖
《机械工程学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
5
下载PDF
职称材料
4
浸没式膜系统的特点及应用
周秀凤
《环保科技》
2013
3
下载PDF
职称材料
5
新型超滤技术在净水厂的应用
叶书荣
冯暨伟
《华电技术》
CAS
2016
1
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部
