本文结合实际研发要求,对基于USB2.0的数字音频编解码片上系统的可测试性设计(DFT)策略进行了研究。该系统采用UMC 0.13μm CMOS工艺,集成SPRAM、DPRAM、ROM、上电复位单元POR(Power On Reset)、降压转换器LDO(Low Drop Out regulator)...本文结合实际研发要求,对基于USB2.0的数字音频编解码片上系统的可测试性设计(DFT)策略进行了研究。该系统采用UMC 0.13μm CMOS工艺,集成SPRAM、DPRAM、ROM、上电复位单元POR(Power On Reset)、降压转换器LDO(Low Drop Out regulator)、锁相环PLL(Phase Locked Loop)、电熔丝盒(e-fuse box)、ADC、USB焊盘等模块。本文采用JTAG(Joint Test Action Group)和焊盘控制逻辑PCL(Pad Control Logic)进行测试控制,使得所有模块可测试。扫描链测试采用多种优化策略,故障覆盖率达到98.06%,满足系统设计要求。存储器内建自测试(MBIST),采用并行测试和串行调试策略,将所有存储器测试时间压缩为单块最大容量存储器的测试时间。电熔丝测试控制采用状态机和编程加速逻辑,简化了测试接口,并消除了冗余的编程时间(0%～100%)。本文的各种可测试性设计策略在实际产品中已经得到验证,可广泛应用于复杂的片上系统(SoC)的设计,研究结论具有一定的应用参考价值。展开更多
Y2002-63234-37 0225722选择离线、在线或现场测量对半导体制造的经济影响=The economic impact of choosing off-line,inline or in-Situ metrology deployment in semiconductor manufactur-ing[会,英]/Spanos,C.J.& Jula,P.//200...Y2002-63234-37 0225722选择离线、在线或现场测量对半导体制造的经济影响=The economic impact of choosing off-line,inline or in-Situ metrology deployment in semiconductor manufactur-ing[会,英]/Spanos,C.J.& Jula,P.//2001 IEEE In-ternational Symposium on Semiconductor Manufactur-ing.—37～40(E)Y2002-63234-141 0225723门电路工艺控制光谱关键尺寸技术=Spectroscopic CDtechnology for gate process control[会,英]/Levy,A.&展开更多
文摘本文结合实际研发要求,对基于USB2.0的数字音频编解码片上系统的可测试性设计(DFT)策略进行了研究。该系统采用UMC 0.13μm CMOS工艺,集成SPRAM、DPRAM、ROM、上电复位单元POR(Power On Reset)、降压转换器LDO(Low Drop Out regulator)、锁相环PLL(Phase Locked Loop)、电熔丝盒(e-fuse box)、ADC、USB焊盘等模块。本文采用JTAG(Joint Test Action Group)和焊盘控制逻辑PCL(Pad Control Logic)进行测试控制,使得所有模块可测试。扫描链测试采用多种优化策略,故障覆盖率达到98.06%,满足系统设计要求。存储器内建自测试(MBIST),采用并行测试和串行调试策略,将所有存储器测试时间压缩为单块最大容量存储器的测试时间。电熔丝测试控制采用状态机和编程加速逻辑,简化了测试接口,并消除了冗余的编程时间(0%～100%)。本文的各种可测试性设计策略在实际产品中已经得到验证,可广泛应用于复杂的片上系统(SoC)的设计,研究结论具有一定的应用参考价值。
文摘Y2002-63234-37 0225722选择离线、在线或现场测量对半导体制造的经济影响=The economic impact of choosing off-line,inline or in-Situ metrology deployment in semiconductor manufactur-ing[会,英]/Spanos,C.J.& Jula,P.//2001 IEEE In-ternational Symposium on Semiconductor Manufactur-ing.—37～40(E)Y2002-63234-141 0225723门电路工艺控制光谱关键尺寸技术=Spectroscopic CDtechnology for gate process control[会,英]/Levy,A.&
