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碳化硅沟槽栅MOSFET技术研究进展
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作者 罗海辉 李诚瞻 +1 位作者 姚尧 杨松霖 《机车电传动》 北大核心 2023年第5期10-25,共16页
第三代宽禁带半导体碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)具备耐高压、耐高温和低损耗等优点,迅速成为行业的研究热点。文章结合SiC功率MOSFET器件发展历史,探讨了从平面栅技术发展到沟槽栅技术的必要性,介绍了SiC沟槽栅MOS... 第三代宽禁带半导体碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)具备耐高压、耐高温和低损耗等优点,迅速成为行业的研究热点。文章结合SiC功率MOSFET器件发展历史,探讨了从平面栅技术发展到沟槽栅技术的必要性,介绍了SiC沟槽栅MOSFET结构设计、沟槽刻蚀工艺和沟槽栅氧工艺等核心问题的研究进展与技术挑战,并对未来新型SiC沟槽栅MOSFET技术进行了展望。 展开更多
关键词 碳化硅 沟槽mosfet 沟槽工艺 沟槽 沟槽结构 新型沟槽
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沟槽栅功率MOSFET导通电阻的模拟研究 被引量:2
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作者 王颖 程超 胡海帆 《北京工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期342-346,共5页
为了进一步降低沟槽栅功率MOS器件的导通电阻,提出了一种改进的trench MOSFET结构.借助成熟的器件仿真方法,详细分析了外延层杂质掺杂对器件导通电阻和击穿电压的影响,通过对常规trench MOSFET和这种改进的结构进行仿真和比较,得出了击... 为了进一步降低沟槽栅功率MOS器件的导通电阻,提出了一种改进的trench MOSFET结构.借助成熟的器件仿真方法,详细分析了外延层杂质掺杂对器件导通电阻和击穿电压的影响,通过对常规trench MOSFET和这种改进的结构进行仿真和比较,得出了击穿电压和导通电阻折中效果较好的一组器件参数.模拟结果表明,在击穿电压基本相当的情况下,新结构的导通电阻较之于常规结构降低了18.8%. 展开更多
关键词 沟槽mosfet 导通电阻 击穿电压 器件仿真
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CPU电源电路用沟槽栅MOSFET与e-JFET开关管的功耗对比
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作者 韩峰 亢宝位 +1 位作者 吴郁 田波 《中国集成电路》 2009年第5期54-58,共5页
本文主要针对低压功率开关管的功耗进行了理论分析,并在此基础上分别对两种典型结构的沟槽栅MOSFET和e-JFET在不同工作频率下的功耗分布和总功耗进行了定量的仿真计算和对比。通过研究发现,在一定工作条件下,常闭型e-JFET比目前常用的... 本文主要针对低压功率开关管的功耗进行了理论分析,并在此基础上分别对两种典型结构的沟槽栅MOSFET和e-JFET在不同工作频率下的功耗分布和总功耗进行了定量的仿真计算和对比。通过研究发现,在一定工作条件下,常闭型e-JFET比目前常用的沟槽栅型MOSFET仅开关功耗就降低约24%,总功耗则降低约30%。将其运用于CPU电源电路中的开关功率管的制造,在高频领域有着极好的应用前景。 展开更多
关键词 沟槽e-JFET 沟槽mosfet 功耗
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SPICE model of trench-gate MOSFET device
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作者 刘超 张春伟 +1 位作者 刘斯扬 孙伟锋 《Journal of Southeast University(English Edition)》 EI CAS 2016年第4期408-414,共7页
A novel simulation program with an integrated circuit emphasis(SPICE) model developed for trench-gate metal-oxide-semiconductor field-effect transistor(M OSFET)devices is proposed. The drift region resistance was ... A novel simulation program with an integrated circuit emphasis(SPICE) model developed for trench-gate metal-oxide-semiconductor field-effect transistor(M OSFET)devices is proposed. The drift region resistance was modeled according to the physical characteristics and the specific structure of the trench-gate MOSFET device. For the accurate simulation of dynamic characteristics, three important capacitances, gate-to-drain capacitance Cgd, gate-to-source capacitance Cgsand drain-to-source capacitance Cds, were modeled, respectively, in the proposed model. Furthermore,the self-heating effect, temperature effect and breakdown characteristic were taken into account; the self-heating model and breakdown model were built in the proposed model; and the temperature parameters of the model were revised. The proposed model is verified by experimental results, and the errors between measured data and simulation results of the novel model are less than 5%. Therefore, the model can give an accurate description for both the static and dynamic characteristics of the trench-gate MOSFET device. 展开更多
关键词 trench-gate metal-oxide-semiconductor field-effect transistor(mosfet simulation program with integrated circuit emphasis(SPICE) model drift region resistance model dynamic model
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短沟Trench MOSFET阈值电压解析模型
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作者 王颖 程超 +1 位作者 胡海帆 杨大伟 《电子器件》 CAS 2008年第6期1776-1779,共4页
传统MOS器件的阈值电压模型被广泛地用于分析Trench MOSFET的阈值电压,这种模型对于长沟道和均匀分布衬底的MOS器件来说很合适,但是对于Trench MOSFET器件来说却显现出越来越多的问题,这是因为Trench MOSFET的沟道方向是垂直的,其杂质... 传统MOS器件的阈值电压模型被广泛地用于分析Trench MOSFET的阈值电压,这种模型对于长沟道和均匀分布衬底的MOS器件来说很合适,但是对于Trench MOSFET器件来说却显现出越来越多的问题,这是因为Trench MOSFET的沟道方向是垂直的,其杂质分布也是非均匀的。本文基于二维电荷共享模型,给出了Trench MOSFET的一种新的阈值电压解析模型,该模型反映了器件的阈值电压随不同结构和工艺参数变化的规律,模型的结果和器件仿真软件Sivaco TCAD的仿真结果吻合较好。该模型较好地解决了以往所用的Trench MOSFET阈值电压模型计算不准确的问题。 展开更多
关键词 沟槽mosfet 阈值电压 解析模型 器件模拟
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