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电化学沉积羟基磷灰石过程晶体生长行为 被引量:18
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作者 胡仁 时海燕 +2 位作者 林理文 庄燕燕 林昌健 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2005年第2期197-201,共5页
采用恒电流电化学沉积方法从含钙与磷盐水溶液中直接在纯金属钛电极表面沉积纳米羟基磷灰石涂层,运用EDS、SEM、XRD、FTIR等方法对其进行表征.重点考察了一种典型制备条件下钙磷沉积层的形貌、结构及组分随沉积时间的变化,进而探讨相应... 采用恒电流电化学沉积方法从含钙与磷盐水溶液中直接在纯金属钛电极表面沉积纳米羟基磷灰石涂层,运用EDS、SEM、XRD、FTIR等方法对其进行表征.重点考察了一种典型制备条件下钙磷沉积层的形貌、结构及组分随沉积时间的变化,进而探讨相应条件下电化学沉积羟基磷灰石涂层晶体生长过程的基本规律.研究表明电化学沉积法可用于在医用金属表面直接涂覆含钙离子缺陷的纳米羟基磷灰石涂层,典型条件下涂层的生长规律为:(1)沉积过程中羟基磷灰石晶粒以c轴方向沿沉积面法线方向择优生长,且这一趋势延续整个沉积过程;(2)内层晶粒的生长受到外层晶粒生长的抑制,对于同层的晶粒,当晶粒分布密集时,晶粒生长可能发生相互制约;(3)随沉积时间的延长,沉积量增加,而膜层的化学组成基本不发生变化. 展开更多
关键词 羟基磷灰石涂层 电化学沉积 晶体生长 沉积时间
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黄河托克托段早中更新世湖相地层剖面的建立及其意义 被引量:20
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作者 贾铁飞 银山 +2 位作者 赵明 包桂兰 白冰冰 《内蒙古师范大学学报(自然科学汉文版)》 CAS 2001年第1期74-78,共5页
根据黄河托克托段格尔图营剖面的沉积记录,对于其湖相沉积的时代和易溶盐含量作了初步分析,认为它是存在于早、中更新世时期的微咸-半咸水湖,尤其在其消亡前期成为典型的半咸水湖,说明当时湖泊为半干旱地区的内陆湖.在中更新世中晚... 根据黄河托克托段格尔图营剖面的沉积记录,对于其湖相沉积的时代和易溶盐含量作了初步分析,认为它是存在于早、中更新世时期的微咸-半咸水湖,尤其在其消亡前期成为典型的半咸水湖,说明当时湖泊为半干旱地区的内陆湖.在中更新世中晚期时,此内陆湖切穿,沟通形成现在之黄河河道.该剖面建立的意义在于提供黄河土默特古湖性质证据,并初步建立了内蒙古高原的“泥河湾层”剖面. 展开更多
关键词 古湖沉积 黄河中上游 早更新世 中更新世 托克托段 湖相地层剖面 沉积时间 易溶盐含量
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沉积时间对纳米晶Ni-Fe合金电沉积层耐蚀性的影响 被引量:13
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作者 于洋 陈吉 +1 位作者 史艳华 梁平 《电镀与环保》 CAS CSCD 北大核心 2011年第6期23-26,共4页
采用直流电沉积法在黄铜基体上制备出纳米晶Ni-Fe合金,其成分为:Ni 76.6%±1.2%,Fe 23.4%±1.2%,晶粒尺寸约为9 nm。在质量分数为3.5%的NaCl溶液中,沉积时间为20 min时所得合金镀层的耐蚀性最好,自腐蚀电流密度约为0.453μA/cm2... 采用直流电沉积法在黄铜基体上制备出纳米晶Ni-Fe合金,其成分为:Ni 76.6%±1.2%,Fe 23.4%±1.2%,晶粒尺寸约为9 nm。在质量分数为3.5%的NaCl溶液中,沉积时间为20 min时所得合金镀层的耐蚀性最好,自腐蚀电流密度约为0.453μA/cm2,涂层电阻约为80 110Ω;当沉积时间超过20 min后,所得镀层的耐蚀性显著下降;当沉积时间达到50min时,所得镀层的自腐蚀电流密度达到0.984μA/cm2,涂层电阻降低至22 280Ω。 展开更多
关键词 NI-FE合金 纳米晶 沉积 沉积时间 耐蚀性
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沉积时间对镁合金表面化学镀镍磷合金的影响 被引量:13
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作者 尚淑珍 路贵民 赵祖欣 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期73-75,共3页
沉积时间是影响化学镀镍磷合金最重要的工艺参数之一。采用不同施镀时间在AZ31镁合金表面进行化学镀镍磷合金,分析了这一主要工艺参数对镀层的硬度、沉积速率、耐腐蚀性、微结构及形貌等的影响,拟对这一主要工艺参数进行优化,为AZ31镁... 沉积时间是影响化学镀镍磷合金最重要的工艺参数之一。采用不同施镀时间在AZ31镁合金表面进行化学镀镍磷合金,分析了这一主要工艺参数对镀层的硬度、沉积速率、耐腐蚀性、微结构及形貌等的影响,拟对这一主要工艺参数进行优化,为AZ31镁合金的表面处理提供依据。结果表明:在镀液pH值为6.5,温度为85℃的条件下,选择施镀持续时间为45min时镀层质量最佳,所得镀层光亮,胞状组织均匀致密,耐腐蚀性比基体明显有所提高,并具有较高的硬度。 展开更多
关键词 AZ31镁合金 化学镀 镍磷合金 沉积时间 耐腐蚀性 形貌
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化学液相沉积法改性ZSM-5沸石上的甲苯择形歧化反应 Ⅰ沉积条件的影响 被引量:10
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作者 梁金花 任晓乾 +2 位作者 王军 周立进 曾崇余 《南京工业大学学报(自然科学版)》 CAS 2004年第6期15-20,共6页
以硅氧烷为改性剂,采用化学液相沉积法制备了系列改性HZSM-5催化剂,用X射线衍射(XRD)、低温N2物理吸附及程序升温氨脱附(NH3-TPD)表征了催化剂的物化性质,并在高压微型反应装置上考察了改性催化剂在甲苯歧化反应中的催化性能,详细考察... 以硅氧烷为改性剂,采用化学液相沉积法制备了系列改性HZSM-5催化剂,用X射线衍射(XRD)、低温N2物理吸附及程序升温氨脱附(NH3-TPD)表征了催化剂的物化性质,并在高压微型反应装置上考察了改性催化剂在甲苯歧化反应中的催化性能,详细考察了催化剂制备过程中沉积量、沉积时间和沉积次数对甲苯转化率和对二甲苯选择性的影响。结果表明,催化剂颗粒的内外层SiO2沉积不均匀,形成了蛋壳型的催化剂;SiO2主要沉积在ZSM-5晶粒的外表面,而内部结构和酸性影响不显著。改性催化剂可大幅度提高甲苯歧化的对位选择性;沉积时间对选择性影响不大,多次沉积、增加沉积剂量可提高对位选择性,且存在一个最佳沉积量。 展开更多
关键词 改性 甲苯歧化 催化剂 液相沉积 选择性 ZSM-5沸石 沉积条件 NH3-TPD 歧化反应 沉积时间
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沉积时间和温度对底泥间隙水有机污染物的影响 被引量:9
6
作者 李剑超 朱光灿 +1 位作者 刘伟生 胡仁志 《农业环境科学学报》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期723-726,共4页
通过底泥培养试验,研究了沉积时间和温度对底泥间隙水相有机污染物的影响。结果表明,环境温度对于底泥间隙水中有机污染物浓度影响很大,一是体现在污染物浓度增加的速率,二是体现在平衡浓度的大小。较高的环境温度对应更高的间隙水相污... 通过底泥培养试验,研究了沉积时间和温度对底泥间隙水相有机污染物的影响。结果表明,环境温度对于底泥间隙水中有机污染物浓度影响很大,一是体现在污染物浓度增加的速率,二是体现在平衡浓度的大小。较高的环境温度对应更高的间隙水相污染物浓度。从沉积开始,底泥系统的pH呈逐渐下降的趋势,在起始的2d中下降显著,而后逐渐达到平衡;环境温度的影响明显,较低的温度对应较高的pH值。底泥Eh也呈逐渐下降,但主要下降段集中在起始的24h以内,在大约48h后基本达到平衡状态;环境温度对底泥系统的Eh变化影响很大,但对底泥系统的氧化还原电位测量影响小。针对底泥间隙水有机污染物的特点,首次提出原始底泥的概念,这将有利于考虑污染底泥的水质模型的建立。 展开更多
关键词 底泥 间隙水 有机污染物 沉积时间 温度
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化学水浴沉积时间对CdS薄膜性质的影响 被引量:8
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作者 刘琪 冒国兵 敖建平 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期968-971,共4页
采用CBD法在醋酸镉溶液体系中制备CdS半导体薄膜,通过XRD、XRF、SEM和光学透过率谱等测试手段研究了沉积时间对CdS薄膜沉积过程和性质的影响。结果表明,随着沉积时间的增加,薄膜增厚;S/Cd原子比增加,但都为富Cd的CdS薄膜;XRD研究表明,... 采用CBD法在醋酸镉溶液体系中制备CdS半导体薄膜,通过XRD、XRF、SEM和光学透过率谱等测试手段研究了沉积时间对CdS薄膜沉积过程和性质的影响。结果表明,随着沉积时间的增加,薄膜增厚;S/Cd原子比增加,但都为富Cd的CdS薄膜;XRD研究表明,薄膜结构由立方、六方混合相向立方相转变,(111)方向成为择优生长方向;SEM研究表明,随沉积时间增加,薄膜变致密,薄膜表面出现的白色附着颗粒增多,尺寸增大;沉积时间对薄膜的光学性质也有很大的影响,随着沉积时间的增加薄膜透过率减小,而禁带宽度值增大。 展开更多
关键词 化学水浴沉积(CBD) CDS薄膜 沉积时间 Cu(In Ga)Se2太阳电池
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沉积时间对磁控反应溅射制备TiO_2薄膜性能的影响 被引量:7
8
作者 张文杰 朱圣龙 +2 位作者 李瑛 王福会 何红波 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第11期1785-1788,共4页
应用直流磁控反应溅射法,在玻璃基体上制备了具有光催化活性的TiO2薄膜。TiO2薄膜的厚度随沉积时间的增加而均匀增长。基体温度则在溅射的最初1h裉快上升到110℃,溅射7h基体温度不超过130℃。溅射2h得到的是非晶态TiO2薄膜,而溅射3... 应用直流磁控反应溅射法,在玻璃基体上制备了具有光催化活性的TiO2薄膜。TiO2薄膜的厚度随沉积时间的增加而均匀增长。基体温度则在溅射的最初1h裉快上升到110℃,溅射7h基体温度不超过130℃。溅射2h得到的是非晶态TiO2薄膜,而溅射3~7h制备的薄膜为锐钛矿型结构。非晶态和小晶粒TiO2薄膜的紫外-可见透射光谱谱带边沿与结晶较好的TiO2薄膜相比有明显的蓝移,薄膜的透射率随沉积时间的增加而下降。钛以四价钛的形式存在于TiO2薄膜中。TiO2薄膜的光催化活性随沉积时间和薄膜厚度的增加而有较大提高。 展开更多
关键词 磁控反应溅射 TIO2薄膜 光催化 沉积时间
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汽车用MB15镁合金的表面改性与耐腐蚀性能 被引量:7
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作者 向峻伯 王从明 +2 位作者 陈凯镔 夏志东 陶沙沙 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2019年第12期186-192,共7页
采用电化学辅助沉积技术在汽车用MB15镁合金表面制备了超疏水有机硅烷膜,研究了沉积电位、沉积时间和添加剂对膜层显微形貌、膜厚、疏水性和耐腐蚀性能的影响。结果表明,MB15镁合金表面膜层的疏水角和膜厚都会随着沉积电位增加而逐渐增... 采用电化学辅助沉积技术在汽车用MB15镁合金表面制备了超疏水有机硅烷膜,研究了沉积电位、沉积时间和添加剂对膜层显微形貌、膜厚、疏水性和耐腐蚀性能的影响。结果表明,MB15镁合金表面膜层的疏水角和膜厚都会随着沉积电位增加而逐渐增大,在沉积电位为1.4 V时,MB15镁合金表面膜层的疏水角和厚度分别为152.9°和4.7μm,疏水角达到MB15镁合金基材的2.84倍。经过电沉积制备的表面硅烷膜的疏水角都明显高于MB15镁合金基材,电沉积硅烷膜的耐腐蚀性能也都优于MB15镁合金基材,且当沉积时间为200 s时,MB15镁合金表面膜层具有最佳的耐腐蚀性能。添加十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)有助于提高MB15镁合金表面有机硅烷膜的厚度和疏水角,且添加CTAB的硅烷膜在沉积时间为120 s时就已经实现了超疏水特性。添加CTAB的MB15镁合金表面膜层的耐腐蚀性明显高于MB15镁合金基材,且高于未添加CTAB的MB15镁合金表面膜层。 展开更多
关键词 MB15镁合金 沉积电位 沉积时间 添加剂 耐腐蚀性能
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基于不同沉积阶段的蜡沉积厚度预测新方法 被引量:6
10
作者 靳文博 肖荣鸽 +2 位作者 肖曾利 王磊 王力 《中国海上油气》 CAS CSCD 北大核心 2018年第5期159-164,共6页
提取蜡沉积厚度随沉积时间变化的实验曲线数据,根据不同沉积时间下蜡沉积厚度的变化趋势,将蜡沉积过程划分为快速沉积、较快沉积、缓慢沉积等3个阶段,并建立了蜡沉积厚度预测新模型。采用新模型预测了不同沉积时间下的蜡沉积厚度,将新... 提取蜡沉积厚度随沉积时间变化的实验曲线数据,根据不同沉积时间下蜡沉积厚度的变化趋势,将蜡沉积过程划分为快速沉积、较快沉积、缓慢沉积等3个阶段,并建立了蜡沉积厚度预测新模型。采用新模型预测了不同沉积时间下的蜡沉积厚度,将新模型预测结果与其他模型及实验结果进行了对比,并开展了不同预测模型的均方误差分析。结果表明:不同蜡沉积阶段可分别采用多项式模型、乘幂函数模型及线性模型进行拟合,且能够达到较高精度;本文新模型和其他模型的预测结果均能反映蜡沉积厚度随沉积时间的变化趋势,但本文模型预测结果与实验结果更为吻合,预测精度更高;本文蜡沉积厚度预测新方法简单实用,能够避免其他模型使用过程中进行复杂非线性拟合的不便,具有较强的优势和应用价值。 展开更多
关键词 沉积厚度 沉积时间 不同沉积阶段 预测模型 实验数据 均方误差
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双离子束溅射技术制备带通滤光片 被引量:5
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作者 申林 熊胜明 +2 位作者 刘洪祥 李凌辉 张云洞 《光学仪器》 2004年第2期87-90,共4页
研究了采用双离子束溅射沉积技术、以沉积时间作为膜厚控制手段制备带通滤光片的工艺。简要介绍了离子束溅射系统的基本工作原理和膜厚控制技术,描述了分别在K9玻璃和有色玻璃上制备由多层Ta2O5和SiO2薄膜组成的滤光片以及短波通和长波... 研究了采用双离子束溅射沉积技术、以沉积时间作为膜厚控制手段制备带通滤光片的工艺。简要介绍了离子束溅射系统的基本工作原理和膜厚控制技术,描述了分别在K9玻璃和有色玻璃上制备由多层Ta2O5和SiO2薄膜组成的滤光片以及短波通和长波通的工艺过程,最后测试并分析了由短波通和长波通组成带通滤光片的光学性能。实验结果表明,采用双离子束溅射技术,以沉积时间作为膜厚监控手段能够制备出具有优良光性能并满足应用设计要求的带通滤光片。 展开更多
关键词 双离子束溅射 制备 带通滤光片 沉积时间 膜厚控制
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微观结构与降解温度对掺硼金刚石薄膜电极电氧化降解活性橙X-GN染料废水的影响 被引量:7
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作者 胡靖源 马莉 +5 位作者 朱成武 梅瑞琼 李伟 周科朝 余志明 魏秋平 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第11期17-25,共9页
目的探究电极微观结构与降解温度对掺硼金刚石(BDD)薄膜电极电化学降解活性橙X-GN染料废水的影响。方法通过HFCVD技术,在铌基体上分别沉积6、12、18 h的BDD薄膜,得到6-BDD/Nb、12-BDD/Nb、18-BDD/Nb电极,将三种电极作为阳极,调控降解温... 目的探究电极微观结构与降解温度对掺硼金刚石(BDD)薄膜电极电化学降解活性橙X-GN染料废水的影响。方法通过HFCVD技术,在铌基体上分别沉积6、12、18 h的BDD薄膜,得到6-BDD/Nb、12-BDD/Nb、18-BDD/Nb电极,将三种电极作为阳极,调控降解温度,分别对活性橙X-GN染料废水进行模拟电化学氧化降解实验。采用扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、电化学工作站分析电极性能,用紫外可见光分光光度计测量废水的吸光度。结果随着沉积时间的延长,BDD薄膜电极表面微观结构改变,晶粒尺寸、表面粗糙度、掺硼量增加,sp3/sp2相比例升高。12-BDD/Nb、18-BDD/Nb电极的有效电极催化活性面积分别是6-BDD/Nb电极的2.6和2.8倍;常温下的降解效率分别提高1.3和1.5倍;能耗分别降低了10.8和22.6 kWh/m^3。温度升高,电极的降解速率加快,能耗降低且逐渐趋于一致,最终都低至5.5 kWh/m^3。结论沉积时间增加,可以改变BDD电极微观结构,提高其电化学和氧化降解性能,降解温度升高有利于提升电极的降解速率,并降低能耗。然而升高温度可以有效提升低效电极的降解效率,却对高效电极作用甚微。 展开更多
关键词 掺硼金刚石 微观结构 沉积时间 电化学氧化降解 活性橙X-GN
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不同参数电沉积混凝土抗微生物腐蚀性能研究
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作者 李飞 张红亚 +1 位作者 樊玮洁 王金权 《安阳工学院学报》 2024年第4期78-83,共6页
针对污水管道混凝土结构受微生物腐蚀问题,利用电化学技术将铜复合物沉积到混凝土表面,赋予其抗腐蚀性;通过电沉积试验、微生物抑制试验,使用平板菌落计数法,分析沉积时间和电流密度对复合铜膜沉积效果和混凝土抑菌性能的影响。结果表明... 针对污水管道混凝土结构受微生物腐蚀问题,利用电化学技术将铜复合物沉积到混凝土表面,赋予其抗腐蚀性;通过电沉积试验、微生物抑制试验,使用平板菌落计数法,分析沉积时间和电流密度对复合铜膜沉积效果和混凝土抑菌性能的影响。结果表明,混凝土经过电沉积技术处理具有良好的杀菌能力,样本抑菌率均超过70%。抑菌效果随沉积时间及电流密度的增加而提升,当电流密度为5 A/m^(2)、沉积时间为5 d时试件的抑菌率可达89.5%。 展开更多
关键词 沉积技术 微生物腐蚀 污水管道 电流密度 沉积时间
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聚多巴胺修饰的Ag/AgCl参比电极的制备及其性能试验
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作者 张西良 苏小青 +1 位作者 陈成 徐云峰 《江苏大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2024年第4期490-496,共7页
为了适应栽培基质等非均相体系pH值的在线检测,并提供稳定的参考电位,采用磁控溅射沉积银膜、NaClO溶液氯化获得的AgCl层和多巴胺沉积修饰膜,研制了聚多巴胺修饰的Ag/AgCl固体薄膜参比电极,并在沉积时间分别为4、8、12、16 h时,对聚多... 为了适应栽培基质等非均相体系pH值的在线检测,并提供稳定的参考电位,采用磁控溅射沉积银膜、NaClO溶液氯化获得的AgCl层和多巴胺沉积修饰膜,研制了聚多巴胺修饰的Ag/AgCl固体薄膜参比电极,并在沉积时间分别为4、8、12、16 h时,对聚多巴胺修饰的参比电极在磷酸缓冲盐溶液(phosphate buffered saline,PBS)中的稳定性、可逆性和循环伏安特性曲线进行了对比测试.结果表明:参比电极在PBS溶液中电位标准差均约为1.00 mV,在不同pH缓冲溶液中均能够恢复到相对稳定的电位,且偏差小于5.00 mV,具有良好的可逆性;在50次循环伏安试验中电位漂移很小;根据参比电极的氯离子灵敏度为2.00~2.50 mV/pCl,聚多巴胺修饰的参比电极对氯离子浓度不敏感,证实聚多巴胺修饰的参比电极可以用作参比电极;沉积时间为12 h时的参比电极在各项试验中综合性能表现最优,应用试验表明该参比电极更适用于开展栽培基质pH检测. 展开更多
关键词 参比电极 聚合物膜 电化学行为 表面改性 沉积时间
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Latent fingerprint enhancement on conductive substrates using electrodeposition of copper 被引量:5
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作者 Meiqin Zhang Xi Yu +5 位作者 Gang Qin Yu Zhu Meiling Wang Qianhui Wei Yang Zhang Xueji Zhang 《Science China Chemistry》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第7期1200-1205,共6页
We presented a novel method for the development of a latent fingerprint by selective electrodeposition of a copper thin film from sulfate solution onto the conductive substrate between fingerprint ridges to generate a... We presented a novel method for the development of a latent fingerprint by selective electrodeposition of a copper thin film from sulfate solution onto the conductive substrate between fingerprint ridges to generate a negative image of the fingerprint deposit. After optimizing the parameters(deposition time, deposition potential, and copper concentration), the preferential electrodeposition of copper films allowed latent fingerprints on six kinds of conductive surfaces(indium/tin oxide-coated glass, silver sheet, platinum sheet, gold sheet, copper sheet, and a stainless steel coin) to be successfully developed with high resolution. In addition, this technique could also be exploited to visualize latent fingerprints on rough and dirty surfaces. The quality of the developed fingerprints was estimated visually and the morphology of the copper film was characterized by field emission scanning electron microscopy. 展开更多
关键词 latent fingerprint visualization ELECTRODEPOSITION copper thin film forensic science ELECTROCHEMISTRY
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沉积时间对ZrTiN涂层微观结构及性能的影响 被引量:5
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作者 颜培 邓建新 +2 位作者 连云崧 赵军 陈振 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期30-34,38,共6页
采用多弧离子镀膜法,在YT15及YG8硬质合金基体上沉积ZrTiN硬质涂层,并分析涂层微观形貌、物相组成、涂层的厚度、硬度及结合力等性能参数随沉积时间的变化。结果表明:沉积时间不会影响ZrTiN涂层的晶面指数,涂层中只有单一面心立方结构... 采用多弧离子镀膜法,在YT15及YG8硬质合金基体上沉积ZrTiN硬质涂层,并分析涂层微观形貌、物相组成、涂层的厚度、硬度及结合力等性能参数随沉积时间的变化。结果表明:沉积时间不会影响ZrTiN涂层的晶面指数,涂层中只有单一面心立方结构相形成,且晶面指数始终为(111);涂层的晶粒尺寸约为10nm且随沉积时间变化不大。沉积时间为120min时,涂层的显微硬度和结合力明显下降。 展开更多
关键词 ZrTiN涂层 多弧离子镀 沉积时间 微观结构 性能
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溅射气压和沉积时间对c-BN薄膜结构的影响
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作者 王波 王玫 +4 位作者 张德学 黄安平 宋雪梅 邹云娟 严辉 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期82-83,共2页
采用磁控反应溅射方法,在Si(100)衬底上沉积cBN薄膜,研究了溅射气压和沉积时间对薄膜结构的影响。结果表明,随溅射气压的升高或沉积时间的增加,都是削弱荷能粒子对衬底表面的轰击效果,并导致薄膜中cBN相含量的减小。
关键词 立方氮化硼 薄膜 红外光谱 结构 溅射气压 沉积时间
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疏浚泥浆泥水快速分离的复合絮凝试验研究 被引量:1
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作者 王瑞彩 吴腾 +2 位作者 诸裕良 徐伟杰 汪彦 《水运工程》 北大核心 2023年第3期35-40,55,共7页
为了对港口航道建设和维护产生的大量疏浚泥浆进行减量化处理,通过添加聚丙烯酰胺(APAM)和聚合氯化铝(PAC)的方法,进行疏浚泥浆泥水快速分离的复合絮凝试验研究,探究了复合絮凝对泥浆的沉积时间、底泥含水率和渗透系数的影响。结果表明:... 为了对港口航道建设和维护产生的大量疏浚泥浆进行减量化处理,通过添加聚丙烯酰胺(APAM)和聚合氯化铝(PAC)的方法,进行疏浚泥浆泥水快速分离的复合絮凝试验研究,探究了复合絮凝对泥浆的沉积时间、底泥含水率和渗透系数的影响。结果表明:1)APAM和PAC复合絮凝泥浆的泥水分离效果优于单一APAM或PAC,其中APAM对泥浆沉积时间起控制作用,PAC对上液清澈度起控制作用;2)APAM和PAC复合絮凝能够有效降低底泥含水率,但随着APAM和PAC添加量的增大,底泥含水率呈上升趋势,较小的APAM和PAC添加量更有利于底泥含水率的降低;3)APAM与PAC复合絮凝泥浆能够提高底泥的渗透系数,并存在APAM的最佳添加量;4)在减小泥浆沉积时间、降低底泥含水率和提高底泥渗透系数方面,APAM优于PAC。当粉土与黏土比为2.4时,复合絮凝剂的适宜添量为1600 g/t的PAC与240 g/t的APAM,研究结果可为工程提供参考。 展开更多
关键词 疏浚泥浆 絮凝剂 沉积时间 底泥含水率 底泥渗透系数
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沉积时间和电流对多孔表面沸腾特性的影响
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作者 谢鸿玺 王炳忠 +2 位作者 谢宝刚 付炜 周坤 《化学工程》 CAS CSCD 北大核心 2023年第3期1-6,共6页
多孔表面是提高沸腾传热性能的有效表面改性技术。为探究多孔表面的制备参数对沸腾传热性能的影响,应用电化学沉积法在不同的沉积时间和电流下制备了多孔表面,并在常压下对去离子水进行了池沸腾实验。与普通表面相比,多孔表面显著提高... 多孔表面是提高沸腾传热性能的有效表面改性技术。为探究多孔表面的制备参数对沸腾传热性能的影响,应用电化学沉积法在不同的沉积时间和电流下制备了多孔表面,并在常压下对去离子水进行了池沸腾实验。与普通表面相比,多孔表面显著提高了沸腾传热性能。最大临界热流密度(CHF)和最高传热系数(HTC)分别达到3.00 MW/m^(2)和136 kW/(m^(2)·K),比光滑表面分别提升了145%和156%。CHF和HTC对多孔表面的增强归因于气化核心数量增加、传热面积的增加和毛细芯吸力的增强。 展开更多
关键词 相变 传热 表面 沉积时间 沉积电流
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紫铜表面化学镀锡的镀层研究
20
作者 孙子文 袁军平 +1 位作者 赵雪阳 黄先雄 《材料保护》 CAS CSCD 2023年第12期112-117,共6页
为满足装饰行业中富锡处理的需求,在紫铜表面进行化学镀锡,沉积时间从5 min增至40 min,制备出厚度为0.15~0.76μm的锡镀层。采用扫描电子显微镜(SEM)分析锡镀层的微观形貌,用X射线荧光光谱仪(XRF)分析镀层的厚度,使用能谱仪(EDS)和X射... 为满足装饰行业中富锡处理的需求,在紫铜表面进行化学镀锡,沉积时间从5 min增至40 min,制备出厚度为0.15~0.76μm的锡镀层。采用扫描电子显微镜(SEM)分析锡镀层的微观形貌,用X射线荧光光谱仪(XRF)分析镀层的厚度,使用能谱仪(EDS)和X射线光电子能谱仪(XPS)分析镀层的化学元素,通过电化学工作站测试锡镀层的交流阻抗谱和Tafel极化曲线来比较镀层的耐蚀性。结果表明:随着沉积时间的延长,锡镀层表面Sn含量不断升高,镀层增厚,锡镀层表面由大量的SnO2和少量的金属Sn构成。沉积时间对锡镀层的微观形貌和耐腐蚀性能有一定影响;随着沉积时间从5 min延长至40 min,锡镀层的微观形貌发生变化,耐腐蚀性能不断变差,20 min耐蚀性最差,40 min时耐蚀性比20 min略微升高。 展开更多
关键词 化学镀锡 沉积时间 表面性质 耐蚀性
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