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题名非平衡磁控溅射制备氮化铬膜及其摩擦学性能研究
被引量：3
- 1
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作者
刘兴举
王成彪
于翔
刘存龙
秦开明
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机构
中国地质大学工程技术学院
装甲兵工程学院装备再制造国防科技重点实验室
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出处
《金属热处理》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第5期1-4,共4页
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文摘
为了克服传统TiN膜系镀层的性能不足,采用新型非平衡磁控溅射技术制备了一系列氮化铬膜,采用原子力显微镜(AFM)和SEM对所制备不同厚度的薄膜形貌进行了分析,测定了薄膜的厚度、硬度和膜基结合强度,并对薄膜的摩擦学性能进行了研究。结果表明,使用铬过渡层可以提高膜基结合强度,实现薄膜性能的优化。采用新型非平衡磁控溅射方法制备的氮化铬膜显示出高硬度、低摩擦系数和良好的抗磨性。并考察了镀层厚度对镀层摩擦学性能的影响以及其它影响镀层摩擦学性能的因素。
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关键词
非平衡磁控溅射
氮化铬膜
摩擦学性能
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Keywords
unbalanced magnetron sputtering deposition
CrN film
tribological characteristics
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分类号
TG174.444
[金属学及工艺—金属表面处理]
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题名铬过渡层对氮化铬/镁合金膜基界面结合强度的影响
被引量：2
- 2
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作者
刘瑞霞
郭锋
韩海鹏
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机构
内蒙古鄂尔多斯职业学院机电工程系
内蒙古自治区涂层与薄膜重点实验室
内蒙古工业大学材料科学与工程学院
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出处
《金属热处理》
CAS
CSCD
北大核心
2021年第1期143-148,共6页
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基金
内蒙古自治区科技重大专项(2018-810)。
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文摘
为了提高磁控溅射氮化铬膜与镁合金基底的结合强度,在两者之间以不同工艺溅射沉积铬过渡层,分析并讨论了铬过渡层对膜基界面结合强度的影响及其机制。结果表明,在镁合金/氮化铬之间增加铬过渡层可提高表征膜基结合强度的膜层破裂临界载荷,且当铬过渡层的溅射工艺为溅射功率100 W、负偏压30 V、基底温度25℃、溅射时间4 min时膜层破裂临界载荷最大,此工艺下铬过渡层表面在微观上具有最大的粗糙度和最小的突起间隔;铬过渡层增强界面结合的作用主要表现为改善了氮化铬与镁合金基底之间的结合状况,与铬/氮化铬接界面积较大且能有效机械互锁、铬过渡层缓减了界面应力等机制有关。
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关键词
镁合金
磁控溅射
氮化铬膜
铬过渡层
膜基结合强度
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Keywords
magnesium alloy
magnetron sputtering
chromium nitride film
chromium transition layer
bonding strength of film and substrate
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分类号
G174.444
[文化科学]
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题名脉冲磁控溅射氮化铬薄膜及其性能研究
- 3
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作者
于翔
王成彪
傅玉娜
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机构
中国地质大学工程技术学院
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出处
《中国材料科技与设备》
2006年第3期55-56,63,共3页
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基金
国家自然科学基金项目（50475057）
中国地质大学（北京）科学钻探国家专业实验室开放研究基金项目
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文摘
采用新型脉冲磁控溅射技术制备了一系列氯化铬膜，对所制备的不同厚度薄膜进行了AFM和SEM形貌等分析．测定了薄膜的膜基结合强度和硬度，并对薄膜的摩擦学性能进行了研究。结果表明：通过使用铬过渡层可以提高膜基结合强度，镀层厚度对镀层摩擦学性能有影响，膜厚为1200nm的氯化铬膜试样显示出来高硬度、低摩擦系数和良好的抗磨性。
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关键词
非平衡磁控溅射
氮化铬膜
性能
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Keywords
Pulsed magnetron sputtering
Chromium nitride film
Properties
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分类号
TQ174.758
[化学工程—陶瓷工业]
TM911.4
[化学工程—硅酸盐工业]
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