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改进硫化物沉淀法处理氨羧配位剂电镀镉废水的研究
被引量:
6
1
作者
邵红艳
余海宁
+1 位作者
熊小龙
刘定富
《电镀与环保》
CAS
CSCD
北大核心
2018年第1期61-63,共3页
采用Na_2S-Al_2(SO_4)_3-PAM体系直接处理氨羧配位剂电镀镉废水,并考察了废水初始pH值、Na_2S的投加量、Al_2(SO_4)_3·18H_2O的投加量及反应时间对处理效果的影响。结果表明:废水初始pH值为7、Na_2S的投加量为5mL/L,在常温下搅拌反...
采用Na_2S-Al_2(SO_4)_3-PAM体系直接处理氨羧配位剂电镀镉废水,并考察了废水初始pH值、Na_2S的投加量、Al_2(SO_4)_3·18H_2O的投加量及反应时间对处理效果的影响。结果表明:废水初始pH值为7、Na_2S的投加量为5mL/L,在常温下搅拌反应20min;再投加絮凝剂Al_2(SO_4)_3·18H_2O 8mL/L及PAM 3mL/L,继续搅拌反应5min后静置15min。上清液中残余Cd^(2+)的质量浓度为0.03mg/L,达到《电镀污染物排放标准》(GB 21900—2008)中规定的不大于0.05mg/L的要求,同时Cd^(2+)的去除率达到99.9%。
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关键词
重金属
氨
羧
配位剂
电镀镉废水
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职称材料
渗透剂JFC对高强度钢氨羧配位体系无氰镀镉-钛合金的影响
2
作者
徐雷
鲍其鹏
+3 位作者
王亚齐
陈沙
张骐
詹中伟
《电镀与涂饰》
CAS
北大核心
2024年第5期1-7,共7页
[目的]采用氨羧配位体系电镀Cd–Ti合金过程中会出现较多气泡,需要频繁对零件进行抖动。[方法]在氨羧配位体系Cd–Ti合金镀液中添加渗透剂JFC作为润湿剂,研究了渗透剂JFC对镀液性能、镀层性能及基体氢脆性的影响。[结果]渗透剂JFC不仅...
[目的]采用氨羧配位体系电镀Cd–Ti合金过程中会出现较多气泡,需要频繁对零件进行抖动。[方法]在氨羧配位体系Cd–Ti合金镀液中添加渗透剂JFC作为润湿剂,研究了渗透剂JFC对镀液性能、镀层性能及基体氢脆性的影响。[结果]渗透剂JFC不仅能够改善镀液的均镀能力,提高Cd–Ti合金镀层的外观、抗腐蚀等性能,而且不会给基体氢脆性带来负面影响。[结论]本文的研究结果可为氨羧配位体系无氰电镀Cd–Ti合金工艺的进一步推广应用奠定基础。
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关键词
镉-钛合金
无氰电镀
渗透
剂
氨
羧
配位剂
低氢脆
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职称材料
一种新型氨羧配位剂的合成、表征及荧光性质研究
3
作者
谢安建
袁宗伟
+2 位作者
沈玉华
杨家祥
夏兵
《化学研究与应用》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期456-458,共3页
合成了氨羧配位剂— 1,2 bis (4 aminophenoxy)ethane N ,N N′ ,N′ tetraaceticacid (4 BAPTA) ,用FT IR、1HNMR、元素分析对其结构进行表征。讨论结构对紫外和荧光光谱的影响 ,水溶液的荧光强度随pH值和Ca2 + 浓度的变化趋势。发...
合成了氨羧配位剂— 1,2 bis (4 aminophenoxy)ethane N ,N N′ ,N′ tetraaceticacid (4 BAPTA) ,用FT IR、1HNMR、元素分析对其结构进行表征。讨论结构对紫外和荧光光谱的影响 ,水溶液的荧光强度随pH值和Ca2 + 浓度的变化趋势。发现pH值在 5~ 11的范围内荧光强度具有增强的趋势 ;Ca2 + 浓度在 0~ 5 0 μg/ 2 5mL的范围内 ,荧光强度与Ca2 + 浓度具有较好的线性关系。
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关键词
氨
羧
配位剂
合成
结构表征
荧光性质
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职称材料
题名
改进硫化物沉淀法处理氨羧配位剂电镀镉废水的研究
被引量:
6
1
作者
邵红艳
余海宁
熊小龙
刘定富
机构
贵阳学院
贵州师范大学
贵州省能源办
贵州大学
出处
《电镀与环保》
CAS
CSCD
北大核心
2018年第1期61-63,共3页
基金
黔科合J字(2008)2110
文摘
采用Na_2S-Al_2(SO_4)_3-PAM体系直接处理氨羧配位剂电镀镉废水,并考察了废水初始pH值、Na_2S的投加量、Al_2(SO_4)_3·18H_2O的投加量及反应时间对处理效果的影响。结果表明:废水初始pH值为7、Na_2S的投加量为5mL/L,在常温下搅拌反应20min;再投加絮凝剂Al_2(SO_4)_3·18H_2O 8mL/L及PAM 3mL/L,继续搅拌反应5min后静置15min。上清液中残余Cd^(2+)的质量浓度为0.03mg/L,达到《电镀污染物排放标准》(GB 21900—2008)中规定的不大于0.05mg/L的要求,同时Cd^(2+)的去除率达到99.9%。
关键词
重金属
氨
羧
配位剂
电镀镉废水
Keywords
heavy metal
ammonia complexing agent
electroplating wastewater containing cadmium
分类号
X781.1 [环境科学与工程—环境工程]
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职称材料
题名
渗透剂JFC对高强度钢氨羧配位体系无氰镀镉-钛合金的影响
2
作者
徐雷
鲍其鹏
王亚齐
陈沙
张骐
詹中伟
机构
中国航发北京航空材料研究院
上海飞机制造有限公司
出处
《电镀与涂饰》
CAS
北大核心
2024年第5期1-7,共7页
文摘
[目的]采用氨羧配位体系电镀Cd–Ti合金过程中会出现较多气泡,需要频繁对零件进行抖动。[方法]在氨羧配位体系Cd–Ti合金镀液中添加渗透剂JFC作为润湿剂,研究了渗透剂JFC对镀液性能、镀层性能及基体氢脆性的影响。[结果]渗透剂JFC不仅能够改善镀液的均镀能力,提高Cd–Ti合金镀层的外观、抗腐蚀等性能,而且不会给基体氢脆性带来负面影响。[结论]本文的研究结果可为氨羧配位体系无氰电镀Cd–Ti合金工艺的进一步推广应用奠定基础。
关键词
镉-钛合金
无氰电镀
渗透
剂
氨
羧
配位剂
低氢脆
Keywords
cadmium–titanium alloy
cyanide-free electroplating
penetrant
amino carboxylic acid complexing agent
low hydrogen embrittlement
分类号
TQ153.2 [化学工程—电化学工业]
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职称材料
题名
一种新型氨羧配位剂的合成、表征及荧光性质研究
3
作者
谢安建
袁宗伟
沈玉华
杨家祥
夏兵
机构
安徽大学化学化工学院
出处
《化学研究与应用》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期456-458,共3页
基金
国家自然科学基金资助项目 ( 2 0 0 3 10 10
2 99710 0 1)
+1 种基金
国家教育部重点项目 ( 0 0 180 )
安徽省自然科学基金资助项目 ( 0 0 45 115 )
文摘
合成了氨羧配位剂— 1,2 bis (4 aminophenoxy)ethane N ,N N′ ,N′ tetraaceticacid (4 BAPTA) ,用FT IR、1HNMR、元素分析对其结构进行表征。讨论结构对紫外和荧光光谱的影响 ,水溶液的荧光强度随pH值和Ca2 + 浓度的变化趋势。发现pH值在 5~ 11的范围内荧光强度具有增强的趋势 ;Ca2 + 浓度在 0~ 5 0 μg/ 2 5mL的范围内 ,荧光强度与Ca2 + 浓度具有较好的线性关系。
关键词
氨
羧
配位剂
合成
结构表征
荧光性质
Keywords
amino-carboxyl-chelating-agent(ACCA)
calcium fluorescent
indicator 4-BAPTA
分类号
O623.736 [理学—有机化学]
O641.4 [理学—化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
改进硫化物沉淀法处理氨羧配位剂电镀镉废水的研究
邵红艳
余海宁
熊小龙
刘定富
《电镀与环保》
CAS
CSCD
北大核心
2018
6
下载PDF
职称材料
2
渗透剂JFC对高强度钢氨羧配位体系无氰镀镉-钛合金的影响
徐雷
鲍其鹏
王亚齐
陈沙
张骐
詹中伟
《电镀与涂饰》
CAS
北大核心
2024
0
下载PDF
职称材料
3
一种新型氨羧配位剂的合成、表征及荧光性质研究
谢安建
袁宗伟
沈玉华
杨家祥
夏兵
《化学研究与应用》
CAS
CSCD
北大核心
2004
0
下载PDF
职称材料
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