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题名Al_2O_3薄膜的发光性能及其结构研究
被引量：1
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作者
储汉奇
李合琴
聂竹华
都智
朱景超
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机构
合肥工业大学材料科学与工程学院
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出处
《真空与低温》
2010年第2期90-94,共5页
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基金
国家基础研究计划(2008CB717802)
安徽省自然科学基金(090414182)
安徽省高校自然科学基金(KJ2009A091)
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文摘
以高纯铝为靶材,在不同氧氩比例下,采用直流反应磁控溅射法制备了Al2O3薄膜。用F-4500型荧光分光光度计测量其荧光光谱,观察到416 nm和438 nm处的光致发光发射谱(PL),是由于氧空位充当的色心所致,且随着氧氩比例的增加,峰的位置基本不变,强度先上升后下降,这是由于氧氩比例的改变导致氧空位浓度变化引起的。通过对未退火及不同温度退火样品的XRD分析发现:室温沉积的Al2O3薄膜为非晶态,400℃退火开始有晶体出现,且退火温度越高,结晶性能越好。
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关键词
AL2O3薄膜
直流反应磁控溅射
氧氩比例
光致发光光谱
氧空位
XRD
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Keywords
Al2O3 thin films
reactive DC magnetron sputtering
O2/Ar ratio
Photoluminescence spectrometry
oxygen vacancy
XRD
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分类号
TB43
[一般工业技术]
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