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题名氧化工艺对GH2132合金抗氧化性能的影响
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作者
徐超凡
陈佳俊
王守乾
赵守忠
沈佳宝
闵亮
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机构
江苏科技大学材料科学与工程学院
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出处
《金属热处理》
CAS
CSCD
北大核心
2024年第6期49-54,共6页
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文摘
对GH2132合金进行900℃和650℃的氧化试验,利用XRD分析了氧化膜的主要产物,利用扫描电镜观察氧化膜的表面及截面形貌,结合EDS能谱数据,研究了GH2132合金的氧化机理。结果表明,在900℃下,GH2132合金氧化膜主要由Cr_(2)O_(3)+Fe_(2)O_(3)组成,抗氧化性能在100~200 h由抗氧化性转变为完全抗氧化性,随着氧化保温时间的延长,发生内氧化,生成的氧化膜会产生剥落,到500 h,内氧化深度达到110.34μm;在650℃下,GH2132合金表层氧化膜主要由Fe_(2)O_(3)、少量的Fe+2Cr2O4及Fe0.64Ni0.36组成,始终为完全抗氧化性,氧化膜紧实,没有内氧化现象,到1600 h,氧化膜厚度为15.17μm,合金在650℃下可长期使用。
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关键词
GH2132合金
氧化物
抗氧化性
氧化质量增量
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Keywords
GH2132 alloy
oxides
oxidation resistance
oxidation mass increment
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分类号
TG132.2
[一般工业技术—材料科学与工程]
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