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SiO_x镀膜包装材料的开发及发展 被引量：14
1
作者 王建清 《塑料包装》 CAS 2002年第2期20-23,共4页
通过在PET等基材上蒸镀氧化硅获得的SiQx镀膜包装材料,具有阻隔性能高、保香性好、允许微波透过等优点,适合保质要求高、流通周期长的各类商品、尤其是微波食品的包装。
关键词 SiOx镀膜包装材料 氧化硅膜 塑料基材 纸基材 生产技术
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有序介孔氧化硅膜的制备及结构研究 被引量：1
2
作者 李健生 张彦 +4 位作者 王连军 赵江艳 郝艳霞 孙秀云 刘晓东 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2006年第3期443-446,共4页
本文介绍了在α-Al2O3中空纤维载体上制备担载有序氧化硅膜的方法。应用LXRD、HRTEM、TG-DTA、SEM、氮气吸附等测试手段对膜的结构、形貌进行了表征。LXRD和HRTEM结果显示所制备的非担载膜具有高度有序的二维六方结构。SEM分析发现担载... 本文介绍了在α-Al2O3中空纤维载体上制备担载有序氧化硅膜的方法。应用LXRD、HRTEM、TG-DTA、SEM、氮气吸附等测试手段对膜的结构、形貌进行了表征。LXRD和HRTEM结果显示所制备的非担载膜具有高度有序的二维六方结构。SEM分析发现担载膜表面完整、无缺陷。气体渗透实验表明中空纤维担载膜具有一定的气体选择性,在0.1MPa下对H2/N2和CH4/N2的分离因子分别为2.80和1.65,气体透过膜孔的扩散由努森机制所控制。等温氮气吸附实验显示:500℃热处理后非担载膜的比表面积为548.84m2·g-1,孔容为0.57mL·g-1。 展开更多
关键词 氧化硅膜 有序 制备 结构
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玻璃上改性TiO＿2膜的抗水性研究 被引量：1
3
作者 于洁 郑茂盛 《汽车工艺与材料》 1994年第9期29-30,共2页
玻璃上改性ＴｉＯ＿２膜的抗水性研究西安交通大学于洁，郑茂盛１前言汽车玻璃等常因表面吸水太多而产生光散射、结露和起雾等现象，影响其正常使用。因此在不降低其光学性能情况下如何消除这一缺点已成为玻璃制品使用中的一个重要问题... 玻璃上改性ＴｉＯ＿２膜的抗水性研究西安交通大学于洁，郑茂盛１前言汽车玻璃等常因表面吸水太多而产生光散射、结露和起雾等现象，影响其正常使用。因此在不降低其光学性能情况下如何消除这一缺点已成为玻璃制品使用中的一个重要问题。镀膜技术作为一种较为成熟的工艺，... 展开更多
关键词 汽车 挡风玻璃 氧化硅膜 抗水性
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中空纤维担载氧化硅膜的制备及结构研究 被引量：1
4
作者 李健生 王连军 +5 位作者 缪丽娜 郝艳霞 苗小郁 成岳 孙秀云 刘晓东 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期702-705,共4页
采用SXRD,HRTEM,FTIR,SEM和氮气吸附等测试手段对膜结构、形貌、孔径及其分布进行了表征.SXRD和HRTEM结果显示,所制备的膜具有短程有序结构.SEM分析发现膜表面完整.气体渗透实验表明,担载膜具有一定的气体选择性,在0.1MPa下对H2/N2和CH4... 采用SXRD,HRTEM,FTIR,SEM和氮气吸附等测试手段对膜结构、形貌、孔径及其分布进行了表征.SXRD和HRTEM结果显示,所制备的膜具有短程有序结构.SEM分析发现膜表面完整.气体渗透实验表明,担载膜具有一定的气体选择性,在0.1MPa下对H2/N2和CH4/N2的分离因子分别为2.25和1.56,气体透过膜孔的扩散由努森机制所控制.等温氮气吸附实验显示,经500℃热处理后氧化硅膜的最可几孔径小于3.34nm,非担载膜的比表面积为919.8m2/g,孔容为0.43mL/g. 展开更多
关键词 氧化硅膜 中空纤维 制备 结构
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军用航空涡喷发动机火焰筒离子镀Si3N4膜的研究
5
作者 汪定江 《中国腐蚀与防护学报》 CAS CSCD 1997年第A05期499-501,共3页
研究了离子镀Ｓｉ３Ｎ４技术在军用航空涡喷发动机火焰筒防高温氧化和腐蚀上的应用。研究表明：火焰筒表面离子镀Ｓｉ３Ｎ４膜后，其防高温氧化和腐蚀的性能明显提高。
关键词 火焰筒 离子镀 涡轮喷气发动机 氧化硅膜 航空用
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半导体器件的制作方法
6
作者 邹盛琳 《永光半导体》 1994年第9期55-56,共2页
关键词 制作 半导体器件 硅树脂薄膜 氧化硅膜
全文增补中
H2／O2燃烧掺HCl氧化技术
7
作者 蔡木本 《微电子技术》 1993年第2期54-59,共6页
关键词 氧化硅膜 掺HCl 制备 水汽氧化法
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PETEOS氧化硅膜的成分与电荷特性
8
作者 许春芳 范焕章 +2 位作者 何弈骅 王刚宁 翁丽敏 《华东师范大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 1996年第3期59-62,共4页
本文分析了以正硅酸乙酯溶液为源，用等离子体增强化学汽相淀积法淀积的氧化硅膜的成分与电荷等特性，以及淀积和退火工艺条件对这些特性的影响。
关键词 介质膜 VLSI 氧化硅膜 PETEOS 化学汽相淀积
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PEG对SiO_2溶胶-凝胶中颗粒度分布和孔结构的影响 被引量：26
9
作者 汤加苗 朱从善 +3 位作者 夏海平 范文浩 吴东 孙予罕 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第1期79-82,共4页
添加少量聚乙二醇（PEG，polyethyleneglycol）于TEOS-Water-Ethanol-Catalyst溶胶体系中，以改善SiO2溶胶的颗粒度和孔结构（比表面积，孔容积，孔径），通过比较sol中随时间变化的颗粒长大情况，探讨了PEG在sol-gel中的作用过程。
关键词 孔结构 粒度分布 PEG 二氧化硅膜 溶胶凝胶法
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憎水二氧化硅膜的制备、表征及水热稳定性研究 被引量：27
10
作者 韦奇 李健林 +2 位作者 宋春林 刘卫 陈初升 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期417-423,共7页
用甲基三乙氧基硅烷(MTES)代替部分正硅酸乙酯(TEOS)作为前驱物,通过共水解缩聚反应可制得甲基修饰的二氧化硅膜.通过TGA、FTIR以及气体渗透等测试手段对甲基修饰的SiO2膜进行研究,发现随着MTES/TEOS摩尔比例的增大,二氧化硅膜的憎水性... 用甲基三乙氧基硅烷(MTES)代替部分正硅酸乙酯(TEOS)作为前驱物,通过共水解缩聚反应可制得甲基修饰的二氧化硅膜.通过TGA、FTIR以及气体渗透等测试手段对甲基修饰的SiO2膜进行研究,发现随着MTES/TEOS摩尔比例的增大,二氧化硅膜的憎水性能逐渐增强,当MTES/TEOS达到0.8时,二氧化硅膜的孔表面几乎不再吸附水气.氢气在MTES/TEOS为1的支撑体二氧化硅膜的输运受温度的控制,200℃时H2的渗透率达到6.0×10-7mol·m-2.Pa-1·s-1,H2/CO2分离系数达到6.0,于200℃以及水蒸气压力为3564Pa的环境中陈化近110h后H2渗透率基本保持不变,H2/CO2分离系数有所增大,说明经过甲基修饰的二氧化硅膜比纯二氧化硅膜具有更好的水热稳定性. 展开更多
关键词 二氧化硅膜 憎水性 制备 结构表征 水热稳定性 氢气分离材料 溶胶-凝胶法
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微孔二氧化硅膜的制备、氢气分离以及水热稳定性研究 被引量：23
11
作者 韦奇 李健林 +2 位作者 宋春林 刘卫 陈初升 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期133-139,共7页
利用溶胶-凝胶法在Υ-Al2O3/α-Al2O3多孔支撑体上合成了微孔二氧化硅膜,并用IR、TG、FESEM、N2吸附以及气体渗透等手段对二氧化硅膜进行了研究.结果表明,200℃时H2的渗透率达到2.3×10-7mol·m-2·Pa-1·s-1,H2/CO2的... 利用溶胶-凝胶法在Υ-Al2O3/α-Al2O3多孔支撑体上合成了微孔二氧化硅膜,并用IR、TG、FESEM、N2吸附以及气体渗透等手段对二氧化硅膜进行了研究.结果表明,200℃时H2的渗透率达到2.3×10-7mol·m-2·Pa-1·s-1,H2/CO2的分离系数为8.0,然而当二氧化硅膜长期暴露于潮湿环境时,由于水气与孔表面羟基相互作用引起二氧化硅膜孔结构的崩溃,最终导致H2渗透率和H2/CO2分离系数剧烈下降. 展开更多
关键词 二氧化硅膜 氢气分离 水热稳定性
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溶胶－凝胶法制备的SiO_2膜的结构与性质 被引量：15
12
作者 周耀 陈永英 +1 位作者 迟玉兰 张华民 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1994年第4期429-436,共8页
本文用ＴＥＯＳ和硅溶胶作原料，用溶胶一凝胶法制备了无支撑体和有支撑体的ＳｉＯ２膜．用ＴＥＯＳ制得的无支撑体ＳｉＯ２膜，无１．７ｎｍ以上的微孔，由硅溶胶制得的无支撑体ＳｉＯ２膜平均孔径为７．５ｎｍ，且孔径分布集中，这种... 本文用ＴＥＯＳ和硅溶胶作原料，用溶胶一凝胶法制备了无支撑体和有支撑体的ＳｉＯ２膜．用ＴＥＯＳ制得的无支撑体ＳｉＯ２膜，无１．７ｎｍ以上的微孔，由硅溶胶制得的无支撑体ＳｉＯ２膜平均孔径为７．５ｎｍ，且孔径分布集中，这种差异主要来自于由不同原料制备的溶胶，其聚合物分子具有不同的形态和生长模式．用ＴＥＯＳ作原料，在无过渡层的α－Ａｌ２Ｏ３多孔支撑体上制得了无大孔缺陷、厚约１５μｍ的ＳｉＯ２膜，膜对ＢＳＡ的百分截留率为７５．８％．在有过渡层的α－Ａｌ２Ｏ３上制得的ＳｉＯ２膜的纯Ｎ２渗透表现为Ｋｎｕｄｓｅｎ扩散特征．起超滤和扩散作用的是ＳｉＯ２膜层内部的缺陷微孔． 展开更多
关键词 二氧化硅膜 溶胶-凝胶法 结构 制备 超滤膜
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用溶胶凝胶法在烧结多孔金属基体上附载SiO_2膜 被引量：11
13
作者 田茂东 王立秋 +1 位作者 张守臣 刘长厚 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第1期49-52,共4页
为了克服传统陶瓷膜的某些缺陷，以正硅酸乙酯（ＴＥＯＳ）为原料，采用溶胶－凝胶法在多孔钛金属基体上制备出ＳｉＯ２膜．为避免金属基体与膜材料由于热膨胀系数的不同而引起膜的破裂，采用填堵的方法成膜．整个挂膜—干燥—煅烧过程... 为了克服传统陶瓷膜的某些缺陷，以正硅酸乙酯（ＴＥＯＳ）为原料，采用溶胶－凝胶法在多孔钛金属基体上制备出ＳｉＯ２膜．为避免金属基体与膜材料由于热膨胀系数的不同而引起膜的破裂，采用填堵的方法成膜．整个挂膜—干燥—煅烧过程须重复８～１０次．常温和高温下的气体渗透实验表明所制得的金属－陶瓷复合膜具有努森扩散特征，该膜能够在较高温度下使用． 展开更多
关键词 多孔金属 溶胶-凝胶法 无机膜 二氧化硅膜
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反应溅射制备SiO_2膜的问题及进展 被引量：7
14
作者 侯晓波 查良镇 +1 位作者 范垂祯 许生 《真空》 CAS 北大核心 1999年第6期1-5,共5页
磁控溅射法制备ＳｉＯ２ 膜传统上采用射频溅射工艺，但它成本较高，效率较低，无法充分满足大面积镀膜工业生产的需要。近年来，反应磁控溅射在解决异常弧光放电和阳极消失等问题方面取得了很大的进展，已成功地应用于包括ＳｉＯ２ 在... 磁控溅射法制备ＳｉＯ２ 膜传统上采用射频溅射工艺，但它成本较高，效率较低，无法充分满足大面积镀膜工业生产的需要。近年来，反应磁控溅射在解决异常弧光放电和阳极消失等问题方面取得了很大的进展，已成功地应用于包括ＳｉＯ２ 在内的绝缘膜沉积，成为镀制介质膜的一个新方向。本文介绍和评述了反应溅射所遇到的几个关键问题，结合机理讨论了相应的解决办法，并认为反应溅射有重要实用价值和发展前景。 展开更多
关键词 反应溅射 阳极消失 二氧化硅膜 镀膜工业
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仿生合成石质文物二氧化硅保护膜的研究 被引量：10
15
作者 洪坤 詹予忠 沈国鹏 《文物保护与考古科学》 2007年第4期33-36,共4页
由于二氧化硅仿生材料具有优越的耐候性,与基底石材相容性好,合成条件的温和性及对环境无污染等优点,为此制备了二氧化硅防护膜。室温下利用CTAB自组装体为模板来调控Na2SiF6水解,在石材表面制备出具有优良性能的SiO2膜,并对膜进行了XRD... 由于二氧化硅仿生材料具有优越的耐候性,与基底石材相容性好,合成条件的温和性及对环境无污染等优点,为此制备了二氧化硅防护膜。室温下利用CTAB自组装体为模板来调控Na2SiF6水解,在石材表面制备出具有优良性能的SiO2膜,并对膜进行了XRD、SEM分析表征。经过保护处理的石材表面清洁、透明,具有突出的抵抗酸碱性能。生成的保护膜具有良好的透气性,而吸水性有所下降。另外,该保护膜还显示出优良的抵抗高、低温,耐磨,及与基底结合紧密等性能。上述研究表明,仿生SiO2膜将会对石质文物起到更好的保护作用。 展开更多
关键词 仿生合成 二氧化硅膜 石质文物 保护
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La/Y掺杂二氧化硅膜的制备及其对染料废水的分离性能研究 被引量：8
16
作者 张华宇 罗芳颖 +2 位作者 江婷婷 李晨晖 张小亮 《膜科学与技术》 CAS CSCD 北大核心 2018年第4期113-119,131,共8页
以1,2-双(三乙氧基硅基)乙烷(BTESE)为前驱体,采用溶胶-凝胶法制备出完整无缺陷的La/Y掺杂二氧化硅膜.采用TG、FTIR、XRD和SEM等手段表征了La/Y掺杂溶胶凝胶的性质、膜的形貌特征和热稳定性.考察了不同La/Y掺杂比和焙烧温度条件下制备... 以1,2-双(三乙氧基硅基)乙烷(BTESE)为前驱体,采用溶胶-凝胶法制备出完整无缺陷的La/Y掺杂二氧化硅膜.采用TG、FTIR、XRD和SEM等手段表征了La/Y掺杂溶胶凝胶的性质、膜的形貌特征和热稳定性.考察了不同La/Y掺杂比和焙烧温度条件下制备的二氧化硅膜对正电荷染料结晶紫、负电荷染料刚果红等染料废水的分离性能.研究结果表明,与纯BTESE-SiO_2膜相比,La/Y掺杂SiO2膜的分离性能有所提高.La/Y为50/50(摩尔比)、焙烧温度为300℃的合成条件下所制备的La50Y50-SiO2膜对染料废水分离性能最佳.在初始质量浓度为5mg/L的结晶紫溶液和20mg/L的刚果红溶液分离过程中,该膜的渗透通量都高于5.0L/(m^2·h),对染料分子的截留率为100%.该膜对负电荷染料刚果红的分离性能优于其对正电荷染料结晶紫的分离性能.在膜分离染料废水过程中,存在分子筛分和静电吸附的协同分离机制.此外,La/Y掺杂二氧化硅膜还表现出优异的耐盐性,表明该膜可用于高盐染料废水处理. 展开更多
关键词 二氧化硅膜 稀土 掺杂 染料废水
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乙烯基修饰的微孔二氧化硅膜孔结构与疏水性研究 被引量：6
17
作者 王艳丽 韦奇 +2 位作者 于春晓 李群艳 聂祚仁 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期949-953,共5页
在溶胶-凝胶反应过程中,用乙烯基三乙氧基硅烷(TEVS)代替部分正硅酸乙酯(TEOS),通过两者共水解缩合反应制备乙烯基修饰的SiO_2膜,并通过BET、TG、NMR、以及接触角测量仪对所制备的材料进行表征.结果表明:修饰后的二氧化硅膜仍保持微孔结... 在溶胶-凝胶反应过程中,用乙烯基三乙氧基硅烷(TEVS)代替部分正硅酸乙酯(TEOS),通过两者共水解缩合反应制备乙烯基修饰的SiO_2膜,并通过BET、TG、NMR、以及接触角测量仪对所制备的材料进行表征.结果表明:修饰后的二氧化硅膜仍保持微孔结构,且孔径集中分布在0.5～0.7nm之间.由于部分亲水表面羟基被疏水乙烯基团所代替,乙烯基修饰的SiO_2膜疏水性能得到明显提高,并且随着TEVS加入量的增加,疏水性能逐渐增强. 展开更多
关键词 二氧化硅膜 乙烯基 孔结构 疏水性能 溶胶-凝胶法
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射频磁控溅射制备SiO_2膜 被引量：2
18
作者 陈国平 张随新 《真空科学与技术》 CSCD 1995年第5期310-316,共7页
利用石英靶射频磁控溅射制备SiO2膜的工艺，采用L型阻抗匹配网络，并计算得到了等离子体的等效电容及等效电导。指出射频功率密度是最重要的沉积参数，靶面自偏压及SiO2膜沉积速率均随功率密度的增加而线性增加。溅射气压及氧分压对自... 利用石英靶射频磁控溅射制备SiO2膜的工艺，采用L型阻抗匹配网络，并计算得到了等离子体的等效电容及等效电导。指出射频功率密度是最重要的沉积参数，靶面自偏压及SiO2膜沉积速率均随功率密度的增加而线性增加。溅射气压及氧分压对自偏压的影响较小，但两者的增加将导致SiO2沉积速率的降低。制备了可见光区透光性良好，折射率为1．46，沉积速率为35nm／min的SiO2膜。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 阻抗匹配 二氧化硅膜
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溶胶凝胶-模板技术合成负载型中孔SiO_2膜 被引量：3
19
作者 李传峰 钟顺和 李青 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期352-356,共5页
将溶胶 -凝胶技术与模板技术结合起来 ,分别以TEOS和Na2 SiO3为有机和无机硅源 ,C1 2 H2 5(CH3) 3N+ Cl- (DTAC)为模板剂 ,制备了两类负载型中孔SiO2 膜 .SEM ,XRD ,IR ,TG -DTA ,氮吸附和气体渗透性能测试装置对其进行了表征 .结果表... 将溶胶 -凝胶技术与模板技术结合起来 ,分别以TEOS和Na2 SiO3为有机和无机硅源 ,C1 2 H2 5(CH3) 3N+ Cl- (DTAC)为模板剂 ,制备了两类负载型中孔SiO2 膜 .SEM ,XRD ,IR ,TG -DTA ,氮吸附和气体渗透性能测试装置对其进行了表征 .结果表明 :两类膜成膜情况良好 ,硅溶胶与模板剂形成键联型交联 ,由有机硅源制备的SiO2 膜晶相和非晶相共存 ,平均孔径 4.2nm ,最高有机分解温度 2 97℃ .而由无机硅源制得的SiO2 膜全部为晶态结构 ,平均孔径为 6.0nm ,最高有机分解温度 2 75℃ .气体在这两类膜中的渗透均由Knudsen扩散控制 . 展开更多
关键词 溶胶凝胶-模板技术 二氧化硅膜 结构表征 气体渗透性能 负载型中孔SiO2膜
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多步组装合成介孔二氧化硅担载膜 被引量：6
20
作者 马亚鲁 刘芬 +2 位作者 马媛媛 孙小兵 郑俊萍 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期227-233,共7页
采用浸渍法和表面改性多步组装合成技术在商业用多孔氧化铝管上制备介孔二氧化硅担载膜。所制备的介孔二氧化硅膜层的厚度平均为2μm,平均孔径为1.59nm。单一气体的渗透实验表明:气体通过介孔二氧化硅膜层符合Knudsen扩散模型,在298K和1... 采用浸渍法和表面改性多步组装合成技术在商业用多孔氧化铝管上制备介孔二氧化硅担载膜。所制备的介孔二氧化硅膜层的厚度平均为2μm,平均孔径为1.59nm。单一气体的渗透实验表明:气体通过介孔二氧化硅膜层符合Knudsen扩散模型,在298K和100kPa的恒定条件下,氦气和氮气的渗透量分别为15.6×10-6mol/(s·m2·Pa)和2.5×10-6mol/(s·m2·Pa)。渗透蒸发实验表明:经六甲基二硅氮烷表面改性的二氧化硅膜层在303K和313K下分别对含3%(质量分数,下同)和5%乙醇的水溶液进行乙醇组分的提浓,乙醇的分离系数和渗透通量分别为15.2～18.7和1.09～1.25kg/(m2·h)。 展开更多
关键词 介孔二氧化硅膜 表面改性 多步组装合成 渗透蒸发 乙醇-水分离
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