光学光刻技术的历史演变 被引量：3

1

作者 马建军 《电子工业专用设备》 2008年第4期28-32,共5页

简要回顾了光学光刻技术的发展历程,从IC技术节点微细化要求对光刻技术的挑战方面讨论了光学光刻技术的发展趋势及进入32nm技术节点的可能性。

关键词 光学光刻 缩小步进光刻 步进扫描光刻 浸没式光刻 双重图形光刻

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光刻机照明光场强度分布校正技术研究 被引量：11

2

作者 马晓喆 张方 黄惠杰 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第20期55-66,共12页

在28 nm及以下节点光刻机中,平顶高斯照明光场是减小脉冲量化误差对曝光剂量影响的关键技术之一。为降低平顶高斯照明光场产生组件的设计、加工和装调难度,提出一种光刻机照明光场强度分布校正技术。该技术通过较少次数的算法迭代可获... 在28 nm及以下节点光刻机中,平顶高斯照明光场是减小脉冲量化误差对曝光剂量影响的关键技术之一。为降低平顶高斯照明光场产生组件的设计、加工和装调难度,提出一种光刻机照明光场强度分布校正技术。该技术通过较少次数的算法迭代可获得合适的光场校正板透过率分布,并将扫描方向强度分布的尺寸公差需求作为边界条件来降低校正引起的能量损失。所得到的光场校正板可同时对照明光场的非扫描方向积分均匀性和扫描方向光场强度分布进行校正。仿真分析结果表明,该技术获得的光场校正板可将照明光场的非扫描方向积分均匀性校正至0.29%以下,也可将扫描方向强度分布校正至指标范围内,校正引入的能量损失也可平均降低4.09%。所提技术可在一定程度上提高光刻机的产率。 展开更多

关键词 成像系统 光场强度分布校正 模拟退火算法 透过率分布优化算法 步进扫描光刻机

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步进扫描光刻机硅片台连续扫描时间优化算法 被引量：5

3

作者 潘海鸿 李小清 +2 位作者 严思杰 陈琳 周云飞 《机械工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期154-161,共8页

为减少步进扫描光刻机连续曝光扫描运动的扫描过渡时间(扫描时间和步进时间),将硅片台扫描方向曝光扫描运动分解为逻辑步进运动和逻辑扫描运动,提出扫描和步进运动时间重叠的轨迹规划算法(时间重叠算法)处理连续曝光扫描运动。在不破坏... 为减少步进扫描光刻机连续曝光扫描运动的扫描过渡时间(扫描时间和步进时间),将硅片台扫描方向曝光扫描运动分解为逻辑步进运动和逻辑扫描运动,提出扫描和步进运动时间重叠的轨迹规划算法(时间重叠算法)处理连续曝光扫描运动。在不破坏运动约束条件下(恒速运动要求以及速度、加速度边界限制),根据时间重叠算法重新计算并推导不同扫描运动路径下连续扫描运动过程的步进和扫描运动转折点。经理论分析和硅片曝光场连续曝光实例计算表明:基于时间重叠算法的轨迹规划可获得时间优化的硅片台连续曝光扫描,比传统扫描方法减少曝光扫描运动过程中的无效率时间,提高步进扫描光刻机生产率,为步进扫描光刻机工程实践提供理论基础。 展开更多

关键词 步进扫描光刻机 硅片台 连续曝光扫描 时间重叠规划 多项式运动轨迹

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步进扫描光刻机加速时间段的S曲线规化 被引量：1

4

作者 武志鹏 陈兴林 郝中洋 《组合机床与自动化加工技术》 北大核心 2012年第9期49-51,55,共4页

为提高步进扫描式光刻机的生产效率,提出了一种具有时间最优和冲击最小的5阶S曲线。在最大扫描速度恒定的前提下,以最小时间和冲击为优化指标,设计了加速时间段内的5阶S曲线。在优化指标冲击力项中引入了可变参数,可以根据加速时间和执... 为提高步进扫描式光刻机的生产效率,提出了一种具有时间最优和冲击最小的5阶S曲线。在最大扫描速度恒定的前提下,以最小时间和冲击为优化指标,设计了加速时间段内的5阶S曲线。在优化指标冲击力项中引入了可变参数,可以根据加速时间和执行电机进行调整,在光刻机设备允许的范围内缩短加速时间。仿真结果表明,相对于数值方法设计的S曲线,优化S曲线加速时间明显缩短并且加速度曲线平滑。冲击力项系数对加速时间和S曲线的平滑性有很大影响。 展开更多

关键词 S曲线 时间最优 扫描运动 步进扫描光刻机

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步进扫描光刻机远程控制器采样同步时钟技术 被引量：2

5

作者 潘海鸿 李小清 +1 位作者 周云飞 杨亮亮 《高技术通讯》 CAS CSCD 北大核心 2007年第11期1147-1152,共6页

为实现100nm步进扫描光刻机的运动控制精度,需要硅片台掩膜台系统的远程采样控制器的采样时钟满足微秒级同步要求。为此采用由同步动作控制器（SAC）发起同步信息,经自定义同步信号总线（SSB）传输,在各分散数字运动控制器中产生采样同... 为实现100nm步进扫描光刻机的运动控制精度,需要硅片台掩膜台系统的远程采样控制器的采样时钟满足微秒级同步要求。为此采用由同步动作控制器（SAC）发起同步信息,经自定义同步信号总线（SSB）传输,在各分散数字运动控制器中产生采样同步时钟的架构。提出采用现场可编程门阵列（FPGA）硬件完成光纤通信底层协议,引入信号传输优先级管理机制,实现采样同步时钟经各分散控制子系统的光纤通道传输到远程采样控制器的一致性,减少由标准光纤通信协议引起的额外时间开销。估算和实验结果表明：采样同步时钟传输延时约为0.55μs,各分散控制子系统的远程采样控制器接收到采样同步时钟的时延不确定性小于60ns。该采样同步时钟传输技术已成功应用于高速纳米级步进扫描光刻机系统。 展开更多

关键词 步进扫描光刻机 分散控制系统 采样同步时钟 光纤通信传输

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步进扫描投影光刻机中的曝光剂量控制技术研究 被引量：1

6

作者 郭立萍 黄惠杰 王向朝 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2004年第6期17-19,共3页

讨论了步进扫描投影光刻机中的曝光剂量控制技术 ,详细阐述了步进扫描投影光刻机中的曝光剂量控制原理 ,提出了一种曝光剂量控制算法。实验表明 ,应用此剂量控制技术使系统的曝光剂量控制精度达到 1.3 7% ,剂量重复精度达到 0 .3 1% 。

关键词 光刻 步进扫描投影光刻 曝光剂量控制 CD均匀性

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步进扫描投影光刻机工件台和掩模台的进展 被引量：22

7

作者 刘丹 程兆谷 +3 位作者 高海军 黄惠杰 赵全忠 谌巍 《激光与光电子学进展》 CSCD 2003年第5期14-20,共7页

着重介绍了当前国外步进扫描投影光刻机的工件台和掩模台的发展状况,并对套刻精度和整机精度进行了分析。

关键词 步进扫描投影光刻机 工件台 掩模台 发展状况 套刻精度 整机精度 测量系统 控制系统

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步进扫描投影光刻机同步机制研究 被引量：9

8

作者 杨亮亮 周云飞 +1 位作者 潘海鸿 罗福源 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期20-23,43,共5页

分析了步进扫描投影光刻机的同步运动过程,将各个分系统分为同步主系统和同步从系统,采用串行同步总线实现了同步主系统的状态发布;分析了分系统与自身数据采集系统的同步通信,采用高速串行传输链路实现了分系统与远程数据采集系统的数... 分析了步进扫描投影光刻机的同步运动过程,将各个分系统分为同步主系统和同步从系统,采用串行同步总线实现了同步主系统的状态发布;分析了分系统与自身数据采集系统的同步通信,采用高速串行传输链路实现了分系统与远程数据采集系统的数据采集与通信;搭建了同步实验平台,对步进扫描投影光刻机的同步机制进行了验证。实验证明该平台稳定可靠,满足系统同步性能要求和工程要求。 展开更多

关键词 步进扫描投影光刻机 同步控制 状态同步 高速高精运动控制

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步进扫描式光刻机隔振试验平台主动减振系统试验研究 被引量：4

9

作者 杨辅强 吴运新 邓习树 《噪声与振动控制》 CSCD 北大核心 2008年第4期3-5,共3页

根据步进扫描式光刻机的振动特点,设计隔振试验平台的减振系统,并对试验平台的主动减振系统进行测试研究。测试结果表明,步进扫描式光刻机隔振试验主动减振系统,能有效降低光刻机工作过程中运动部件对工作平台的冲击,具有良好的减振效果。

关键词 振动与波 步进扫描式光刻机 主动减振 试验研究

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光学工艺 微细加工技术与设备

10

《中国光学》 CAS 2005年第4期98-99,共2页

TN305．7 2005043148 灰度狭缝扫描制作多台阶光栅的工艺研究=Research of fabrication muti-levels grating based on gray-slot scanning [刊,中]／魏国军(苏州大学信息光学工程研究所,江苏,苏州(215006)),徐兵…／／光学技术,-2005,3... TN305．7 2005043148 灰度狭缝扫描制作多台阶光栅的工艺研究=Research of fabrication muti-levels grating based on gray-slot scanning [刊,中]／魏国军(苏州大学信息光学工程研究所,江苏,苏州(215006)),徐兵…／／光学技术,-2005,31(2),-190- 192 采用灰度狭缝进行矢量化的直写,使平台沿着垂直狭缝的方向运动,获得了具有台阶结构的光栅槽型,编写了与DXF文件一致的接口直写控制程序。该方法对成像视场要求低,可以制作大面积光栅。以色分离光栅(CSG) 展开更多

关键词 步进扫描投影光刻机 光刻系统 曝光剂量 微细加工 光学工艺 正性光刻胶 离轴照明技术 光学光刻 激光 光栅

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RET的研究与应用:实现光刻技术的新跨越

11

作者 马振宇 《中国集成电路》 2002年第10期69-71,共3页

现在,国家科技部正在组织实施"十五"863计划"100nm分辨率193nm ArF准分子激光器步进扫描投影光刻机"重大项目的研制与攻关。

关键词 研究与应用 光刻胶 步进扫描投影光刻机 分辨率增强技术 二氧化硅 光刻技术 准分子激光器 区域 微米 纳米

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高精密运动平台的重复控制 被引量：1

12

作者 杜飞 吴运新 《现代制造工程》 CSCD 2008年第11期13-16,共4页

为给步进扫描光刻机的设计研究提供理论指导,解决光刻机工作台宏动平台的控制问题,建立了步进扫描光刻机模拟减振试验平台宏动定位系统工作台伺服系统的数学模型,并根据该系统重复运动的特点,提出一种基于重复控制补偿的PID控制方式。运... 为给步进扫描光刻机的设计研究提供理论指导,解决光刻机工作台宏动平台的控制问题,建立了步进扫描光刻机模拟减振试验平台宏动定位系统工作台伺服系统的数学模型,并根据该系统重复运动的特点,提出一种基于重复控制补偿的PID控制方式。运用MATLAB软件进行仿真试验,仿真结果表明与普通PID控制相比,基于重复控制补偿的PID控制器可以有效地减小跟踪误差,因而可以使系统有更好的控制效果。 展开更多

关键词 步进式扫描光刻机 工件台 数学模型 重复控制

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基于遗传算法的步进式扫描光刻机路径规划 被引量：1

13

作者 杨辅强 吴运新 《机械科学与技术》 CSCD 北大核心 2007年第12期1545-1547,共3页

根据步进式扫描光刻机硅片曝光过程的特点,建立了光刻机路径规划问题的数学模型。采用遗传算法对光刻机路径规划模型进行了合理的规划。规划结果表明,规划后的扫描路径能有效地提高光刻机的生产效率。

关键词 步进式扫描光刻机 遗传算法 路径规划

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光学工艺 微细加工技术与设备

14

《中国光学》 EI CAS 2007年第6期71-72,共2页

关键词 承片台 不平度 步进扫描投影光刻机 条形光波导 技术与设备 微细加工 功率密度阈值 光学工艺 边界条件 新技术

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