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采用电镀铜充填盲导通孔工艺
被引量:
1
1
作者
蔡积庆
《印制电路信息》
2003年第8期43-45,50,共4页
概述了采用电镀铜充填盲导通孔的积层板制造工艺,可以在短时间内完全填充盲导通孔内部,不含残留空隙, 可以获得高导电性和高可靠性的填充盲导通孔。
关键词
电镀铜
盲导通孔
积层板
制造工艺
正电
解
负电
解
印制电路板
下载PDF
职称材料
题名
采用电镀铜充填盲导通孔工艺
被引量:
1
1
作者
蔡积庆
机构
南京无线电八厂
出处
《印制电路信息》
2003年第8期43-45,50,共4页
文摘
概述了采用电镀铜充填盲导通孔的积层板制造工艺,可以在短时间内完全填充盲导通孔内部,不含残留空隙, 可以获得高导电性和高可靠性的填充盲导通孔。
关键词
电镀铜
盲导通孔
积层板
制造工艺
正电
解
负电
解
印制电路板
Keywords
blind via copper plating positive electrolysis negative electrolysis
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
采用电镀铜充填盲导通孔工艺
蔡积庆
《印制电路信息》
2003
1
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