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长期存放条件下TFT阵列基板栅金属线腐蚀原因分析
被引量:
3
1
作者
林鸿涛
王鹏
《现代显示》
2006年第7期50-52,16,共4页
在TFT-LCD制造和存放过程中,存在着电化学腐蚀的环境,由于腐蚀速度相对较慢,所以对此现象的认识和研究不足。本文通过实例分析,研究了栅金属电极线在大气环境下的腐蚀现象和机理,并提出了降低腐蚀的措施。
关键词
栅
金属线
腐蚀
长期存放
原因分析
下载PDF
职称材料
题名
长期存放条件下TFT阵列基板栅金属线腐蚀原因分析
被引量:
3
1
作者
林鸿涛
王鹏
机构
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
吉林北方彩晶数码电子有限公司
出处
《现代显示》
2006年第7期50-52,16,共4页
文摘
在TFT-LCD制造和存放过程中,存在着电化学腐蚀的环境,由于腐蚀速度相对较慢,所以对此现象的认识和研究不足。本文通过实例分析,研究了栅金属电极线在大气环境下的腐蚀现象和机理,并提出了降低腐蚀的措施。
关键词
栅
金属线
腐蚀
长期存放
原因分析
Keywords
gate metal line
corrosion
storage for a long time
analysis of the reason.
分类号
TN141.9 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
长期存放条件下TFT阵列基板栅金属线腐蚀原因分析
林鸿涛
王鹏
《现代显示》
2006
3
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职称材料
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