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多种栅结构SOI NMOS器件ESD特性研究 被引量:1
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作者 何玉娟 罗宏伟 肖庆中 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2013年第5期501-504,共4页
研究了不同栅结构对栅接地SOI NMOS器件ESD(Electrostatic discharge,静电放电)特性的影响,结果发现环源结构的SOI NMOS器件抗ESD能力最强,而环栅结构的器件抗ESD能力最弱,其原因可能与器件有缘区面积和电流分布有关。
关键词 静电保护 绝缘上硅 传输线脉冲测试 接地n金属-氧化-半导体器件
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基于深亚微米工艺的栅接地NMOS静电放电保护器件衬底电阻模型研究 被引量:5
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作者 吴晓鹏 杨银堂 +2 位作者 高海霞 董刚 柴常春 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第4期424-430,共7页
在考虑了电导率调制效应的情况下对深亚微米静电放电(electrostatic discharge,ESD)保护器件的衬底电阻流控电压源模型进行优化,并根据轻掺杂体衬底和重掺杂外延型衬底的不同物理机制提出了可根据版图尺寸调整的精简衬底电阻宏模型,所... 在考虑了电导率调制效应的情况下对深亚微米静电放电(electrostatic discharge,ESD)保护器件的衬底电阻流控电压源模型进行优化,并根据轻掺杂体衬底和重掺杂外延型衬底的不同物理机制提出了可根据版图尺寸调整的精简衬底电阻宏模型,所建模型准确地预估了不同衬底结构上源极扩散到衬底接触扩散间距变化对触发电压Vt1的影响.栅接地n型金属氧化物半导体器件的击穿特性结果表明,所提出的衬底电阻模型与实验结果符合良好,且仿真时间仅为器件仿真软件的7%,为ESD保护器件版图优化设计提供了方法支持. 展开更多
关键词 接地n金属氧化半导体器件 静电放电 衬底电阻模
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