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极紫外投影光刻原理装置的集成研究
被引量：
4
1
作者
金春水
马月英
+1 位作者
裴舒
曹健林
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第7期852-857,共6页
论述了光刻技术发展的历程、趋势和极紫外投影光刻技术的特性 ,并介绍了极紫外投影光刻原理装置的研制工作。该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、施瓦茨微缩投影物镜及相应的真空系统组成。其工作波长为 13nm ,在...
论述了光刻技术发展的历程、趋势和极紫外投影光刻技术的特性 ,并介绍了极紫外投影光刻原理装置的研制工作。该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、施瓦茨微缩投影物镜及相应的真空系统组成。其工作波长为 13nm ,在直径为 0 1mm的像方视场内设计分辨率优于 0 1μm。
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关键词
极
紫外
投影
光刻
原理
装置
极
紫外
投影
光刻
多层膜反射镜
Schwarzschild物镜
集成电路
制造技术
原文传递
题名
极紫外投影光刻原理装置的集成研究
被引量：
4
1
作者
金春水
马月英
裴舒
曹健林
机构
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第7期852-857,共6页
基金
国家自然科学基金 (6 99380 2 0 1)资助课题
文摘
论述了光刻技术发展的历程、趋势和极紫外投影光刻技术的特性 ,并介绍了极紫外投影光刻原理装置的研制工作。该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、施瓦茨微缩投影物镜及相应的真空系统组成。其工作波长为 13nm ,在直径为 0 1mm的像方视场内设计分辨率优于 0 1μm。
关键词
极
紫外
投影
光刻
原理
装置
极
紫外
投影
光刻
多层膜反射镜
Schwarzschild物镜
集成电路
制造技术
Keywords
extreme ultraviolet
extreme ultraviolet projection lithography
multilayer reflector
Schwarzschild objective
分类号
TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
极紫外投影光刻原理装置的集成研究
金春水
马月英
裴舒
曹健林
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
4
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