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电阻环束流探测器的标定 被引量:15
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作者 谢宇彤 代志勇 韩青 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期151-155,共5页
电阻环探测技术是一种成熟、实用的在线测试束流技术 ,它能给出束流的大小和束流质心的位置。在即将投入使用的 2 0 Me V直线感应加速器中 ,该技术将作为一种精确的束流诊断手段。为此设计了一套精密的束流模拟和电阻环标定装置 ,其束... 电阻环探测技术是一种成熟、实用的在线测试束流技术 ,它能给出束流的大小和束流质心的位置。在即将投入使用的 2 0 Me V直线感应加速器中 ,该技术将作为一种精确的束流诊断手段。为此设计了一套精密的束流模拟和电阻环标定装置 ,其束流位置的定位精度达到 0 .0 2 mm,以之对精心设计的电阻环进行标定。标定的结果表明电阻环对束流质心位置的测试精度达到 0 .5 mm,经标定后的束位置拟合值绝对误差不大于 0 .2 mm。 展开更多
关键词 直线感应加速器 电阻环探测 束流模拟 束流位置 标定
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中国工程物理研究院FEL-THz束线从头至尾模拟设计(英文) 被引量:5
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作者 李鹏 焦毅 +3 位作者 柏伟 王汉斌 崔小昊 李相坤 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第8期213-217,共5页
中国工程物理研究院正在开展自由电子激光太赫兹源(FEL-THz)的研究。介绍了中物院FEL-THz束线的设计,通过PARMELA和TRANSPORT等程序优化了束线参数,并通过IMPACT-T和ELEGANT程序核对了模拟结果。优化结果表明,电子束在摇摆器入口处能量7... 中国工程物理研究院正在开展自由电子激光太赫兹源(FEL-THz)的研究。介绍了中物院FEL-THz束线的设计,通过PARMELA和TRANSPORT等程序优化了束线参数,并通过IMPACT-T和ELEGANT程序核对了模拟结果。优化结果表明,电子束在摇摆器入口处能量7~8MeV、平均电流5mA、横向归一化发射度小于10mm·mrad,满足设计要求。 展开更多
关键词 自由电子激光太赫兹源 束线设计 束流模拟 发射度
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TESLA 行波正电子注入器和束流模拟(英文)
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作者 王书鸿 金凯 周锋 《高能物理与核物理》 EI CSCD 北大核心 2005年第5期495-500,共6页
TESLA行波正电子注入器采用L波段常温加速结构,它同时具有高分路阻抗和大孔径的优点.经系统地束流模拟计算,设计了正电子注入器的主要参数.束流模拟结果表明,在注入器出口可获得满意的束流传输效率和优质的束流性能.
关键词 正电子注入器 行波加速结构 束流模拟 传输效率
原文传递
束流模拟装置的阻抗对标定结果的影响 被引量:3
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作者 何小中 庞健 +1 位作者 李勤 代志勇 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第3期291-294,共4页
对偏心束流在束流管道中产生的电磁场和束流模拟装置的偏心同轴线中的电磁场进行了理论分析。分析表明,在束流模拟装置阻抗较小时,二者存在显著差异。该差异对束流流强探测器、束流位置探测器和束流偏角探测器的标定有一定的影响。如果... 对偏心束流在束流管道中产生的电磁场和束流模拟装置的偏心同轴线中的电磁场进行了理论分析。分析表明,在束流模拟装置阻抗较小时,二者存在显著差异。该差异对束流流强探测器、束流位置探测器和束流偏角探测器的标定有一定的影响。如果采用阻抗为50Ω的束流模拟装置标定束流位置探测器,得到的等效管道半径将比真实值偏小19%。利用理论分析结果,合理地解释了一个B-dot束流位置探测器的标定结果。 展开更多
关键词 束流诊断 束流模拟装置 标定 B-dot探测器
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HIRFL浅层肿瘤重离子治疗终端束流配送系统性能的实验验证 被引量:6
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作者 戴中颖 李强 +2 位作者 肖国青 金晓东 闫铮 《高能物理与核物理》 CSCD 北大核心 2007年第7期655-659,共5页
详细介绍了兰州重离子研究装置(HIRFL)浅层肿瘤重离子治疗终端的被动式束流配送系统,对该束流配送系统重要组成部件及其整体的性能进行了实验验证.Bragg峰展宽装置脊形过滤器及能量调节装置射程移位器测试结果显示该设备的性能指标达... 详细介绍了兰州重离子研究装置(HIRFL)浅层肿瘤重离子治疗终端的被动式束流配送系统,对该束流配送系统重要组成部件及其整体的性能进行了实验验证.Bragg峰展宽装置脊形过滤器及能量调节装置射程移位器测试结果显示该设备的性能指标达到设计要求.为验证该被动式束流配送系统的整体性能,进行了束流成形实验,模拟对肿瘤靶区的三维适形照射.结果表明:利用该束流配送系统可实施对肿瘤的三维适形放射治疗.HIRFL浅层肿瘤治疗装置束流配送系统性能的验证为下一步开展肿瘤重离子束治疗临床试验奠定了基础. 展开更多
关键词 重离子束治癌 束流配送系统 适形照射 束流成形模拟
原文传递
基于强流离子源的离子束溅射镀膜设备均匀性优化 被引量:1
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作者 李桑丫 张艾霖 +3 位作者 †徐欣 吕涛 王世康 罗箐 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期325-333,共9页
随着高端光学器件镀膜的发展,其多样性溅射镀膜需求对离子束流流强、均匀度和可调性提出了更高的要求.对于新一代离子束溅射镀膜机来说,如何在不同离子比、不同流强的束流下保持足够的均匀度,成为了溅射镀膜设备的一大难题.本文提出了... 随着高端光学器件镀膜的发展,其多样性溅射镀膜需求对离子束流流强、均匀度和可调性提出了更高的要求.对于新一代离子束溅射镀膜机来说,如何在不同离子比、不同流强的束流下保持足够的均匀度,成为了溅射镀膜设备的一大难题.本文提出了一种基于三电极引出系统的优化模拟方法,模拟和优化了离子源的引出系统,研究了等离子体电极、抑制电极、引出电极的形状、角度、距离对离子束引出性能的影响.同时,重点研究了离子比对束流引出的影响.该模型可以指导科研工作者根据离子源的状态和应用需求,对三电极引出系统的角度、距离和形状进行系统优化并找出最优解.最后,本文还给出了一种方法对混合离子束的溅射深度进行了估算. 展开更多
关键词 溅射沉积镀膜 引出系统 自动优化 束流引出模拟
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