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用数码相机拍夕阳美景
1
作者 高燕 李郁 《科技广场》 2003年第9期40-41,共2页
面对夕阳黄昏美景,在用数码相机拍照片时,怎样调整光圈才是正确的曝光方法?如何才能拍下满意的景色?
关键词 数码相机 夕阳 拍摄方法 曝光方法 光圈调整 黄昏景色
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Cymer公司采用新技术将激光功率提高到200W
2
《光机电信息》 2006年第3期58-59,共2页
美国Cymer公司最近公布了液浸ArF和EUV光源今后的技术开发战略。在液浸ArF方面，将以双重曝光为目标，把ArF受激准分子激光光源的功率逐步提高到200W；而在EUV光源方面，正在探讨LPP方式的4种选择。业界普遍认为，为了将液浸ArF寿命延长... 美国Cymer公司最近公布了液浸ArF和EUV光源今后的技术开发战略。在液浸ArF方面，将以双重曝光为目标，把ArF受激准分子激光光源的功率逐步提高到200W；而在EUV光源方面，正在探讨LPP方式的4种选择。业界普遍认为，为了将液浸ArF寿命延长至32nm工艺（hp32），必须采用分2次对图案进行曝光和加工的双重曝光方法，但这种方式会使产量下降。 展开更多
关键词 激光功率 技术开发 公司 曝光方法 UV光源 ARF 激光光源 寿命延长 准分子 LPP
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曲面光刻工艺探讨
3
作者 黄光勋 《工具技术》 北大核心 1993年第7期45-48,共4页
本文总结了宁波量具厂在万能角度尺的曲面光刻工艺方面的一些小经验,并详细地探讨了照相底版制作和曝光方法的光刻工艺。
关键词 光刻工艺 曝光方法 照相底版 制作
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Kirk曝光方法在光刻机杂散光测试中的应用研究
4
作者 张家锦 《集成电路应用》 2020年第4期28-31,共4页
结合Kirk的测试原理,基于实际的光刻机应用工况,通过工艺试验、计算仿真等手段建立有效的数据模型,有助于准确地把握杂散光的影响规律。经分析表明,杂散光对不同尺寸图形的影响具有特定的规律,可以通过工艺曝光方法进行准确测量和表征,... 结合Kirk的测试原理,基于实际的光刻机应用工况,通过工艺试验、计算仿真等手段建立有效的数据模型,有助于准确地把握杂散光的影响规律。经分析表明,杂散光对不同尺寸图形的影响具有特定的规律,可以通过工艺曝光方法进行准确测量和表征,所测得的图形尺寸与杂散光测试剂量之间的关系在小尺寸段符合线性规律,在大尺寸段符合指数规律,基于这一特征规律进一步指导与优化了杂散光的测试方案,从而实现更准确、更高效地监控光刻机杂散光性能的目的。 展开更多
关键词 集成电路制造 光刻机 曝光方法 Kirk 杂散光
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基于虚拟曝光方法的单幅逆光图像增强 被引量：1
5
作者 赵明华 周童童 +1 位作者 都双丽 石争浩 《计算机科学》 CSCD 北大核心 2022年第S01期384-389,共6页
逆光图像目标区域可视质量低、背景区域过度曝光,是影响图像质量的重要因素之一。针对现有的逆光图像增强方法在增强暗区细节信息时不能很好地抑制明亮区域过度增强的问题,提出了一种基于虚拟曝光的单幅逆光图像增强方法。首先,引入虚... 逆光图像目标区域可视质量低、背景区域过度曝光,是影响图像质量的重要因素之一。针对现有的逆光图像增强方法在增强暗区细节信息时不能很好地抑制明亮区域过度增强的问题,提出了一种基于虚拟曝光的单幅逆光图像增强方法。首先,引入虚拟曝光图像,并根据参数确定最佳低曝光图像和高曝光图像;然后,使用非线性亮度增强方法和基于邻域相关对比度增强方法分别处理暗区和亮区;最后,采用拉普拉斯金字塔融合方法将暗区、亮区的细节和特征融合。使用自然图像和合成图像对所提方法进行实验,结果表明所提方法具有更少的颜色和亮度失真,视觉效果更加自然。 展开更多
关键词 逆光图像 虚拟曝光方法 非线性图像增强 对比度增强 图像融合
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异同像混用重氮复制胶片的技术原理
6
作者 陈广学 唐京新 张德 《影像技术》 CAS 2001年第1期8-10,共3页
本文讨论了异同像混用重氮胶片的成像原理、反转成像机理及反转剂选择原则，提高图像密度的辅助措施、以及高密度胶片的双面曝光方法等技术问题，通过综合运用上述技术措施，研制成功了一种可满足实用要求的兼有异像和同像两种复制特性... 本文讨论了异同像混用重氮胶片的成像原理、反转成像机理及反转剂选择原则，提高图像密度的辅助措施、以及高密度胶片的双面曝光方法等技术问题，通过综合运用上述技术措施，研制成功了一种可满足实用要求的兼有异像和同像两种复制特性的重氮胶片新品种。 展开更多
关键词 图像复制 重氮胶片 感光材料 成像原理 反转成像机理 反转剂选择 图像密度 双面曝光方法
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变形光束的优化增大了焦深
7
作者 葛劲冲 《电子工业专用设备》 1996年第4期49-56,共8页
不用离轴滤波器增大焦深的新型曝光方法已研制成功，为ＫｒＦ（２４８ｎｍ）准分子激光光刻技术生产第二代６４ＭＤＲＡＭ器件增添了活力。用这种新方法制作０．３５μｍ的Ｘ、Ｙ向及斜向的图形，可使焦深增大４５％以上。对实际的０．... 不用离轴滤波器增大焦深的新型曝光方法已研制成功，为ＫｒＦ（２４８ｎｍ）准分子激光光刻技术生产第二代６４ＭＤＲＡＭ器件增添了活力。用这种新方法制作０．３５μｍ的Ｘ、Ｙ向及斜向的图形，可使焦深增大４５％以上。对实际的０．３０μｍ规格以下的器件，用四极照明和环形照明都不可能获得线问对图形的公共焦深。对这种器件，采用新型的变形光束（ＭＢＩ）曝光方法，焦深可增大到１．１μｍ以上。 展开更多
关键词 MBI曝光方法 焦深改进 变形光束 光刻技术
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下一代集成电路器件和157nm的曝光方法
8
作者 高晓萍 《光机电信息》 2000年第6期23-23,共1页
近年来的半导体集成电路的发展十分惊人,称这种集成电路为现在的集成化电子系统是很合适的.这就是所谓的系统LSE.其系统规模从大规模集成电路(LSI)向甚大规模集成电路(VLSI)扩大,并且器件数量向超过100万个的超大规模集成电路(ULSI)方... 近年来的半导体集成电路的发展十分惊人,称这种集成电路为现在的集成化电子系统是很合适的.这就是所谓的系统LSE.其系统规模从大规模集成电路(LSI)向甚大规模集成电路(VLSI)扩大,并且器件数量向超过100万个的超大规模集成电路(ULSI)方向发展.21世纪初,ULSI系统本身就是电子仪器系统.可以说,它的发展给社会带来很大影响,以至出现了高速信息化社会.以日、美、欧等国家财团为核心积极开展了以ArF准分子激光(也可作为从远紫外至真空紫外的入口)为中心的光刻技术的研究开发,预计21世纪末将完备0.15μm以下的基础技术.更短波段的真空紫外(VUV)或极紫外(EUV) 展开更多
关键词 集成电路器件 曝光方法
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多级计分的CD-CAT曝光控制方法 被引量：1
9
作者 高椿雷 罗照盛 丁树良 《江西师范大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2019年第1期59-67,101,共10页
相对于0-1计分,多级计分考察的认知能力水平更高,能够提供更丰富的诊断信息,同教学实践更相符,而现有研究中鲜有基于多级计分的CD-CAT.该文提出了5种新的曝光控制的选题策略,分别是BSCDI_A、BSCTTID_A、BSCDI_D、BSCTTID_D和RP_PWCDI,将... 相对于0-1计分,多级计分考察的认知能力水平更高,能够提供更丰富的诊断信息,同教学实践更相符,而现有研究中鲜有基于多级计分的CD-CAT.该文提出了5种新的曝光控制的选题策略,分别是BSCDI_A、BSCTTID_A、BSCDI_D、BSCTTID_D和RP_PWCDI,将这5种方法同已有的PWKL和RP_PWKL进行比较,并尝试将这7种选题策略从0-1计分拓展到多级计分.研究结果表明:不管是0-1计分还是多级计分,采用统一量纲后的综合指标进行评价时RP_PWCDI(β=0. 5)表现最好,题库使用均匀性各项指标均是最优,区分度分层方法(BSCDI_A、BSCTTID_A、BSCDI_D、BSCTTID_D)控制曝光的效果略差于RP法.在多级计分下,β值仍然具有调节判准率和题库使用的作用. 展开更多
关键词 P-DINA模型 CD-CAT 0-1计分 多级计分 曝光控制选题方法
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提高PS版耐印力一法
10
作者 成红英 《印刷技术》 北大核心 2004年第15期120-120,共1页
一般情况下,在印刷了一定数量之后,印版上某一部分的图文会先发花,而其他部分的图文却完好,从而影响PS版的耐印力.
关键词 印刷 印版 PS版 耐印力 局部遮盖曝光方法 晒制
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