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小角x射线散射确定TiNi薄膜中晶化粒子的长大激活能 被引量:10
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作者 孟繁玲 李永华 +1 位作者 徐耀 王煜明 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第9期2086-2089,共4页
用小角x射线散射技术研究以直流磁控溅射方法制备TiNi合金薄膜其退火生成的晶化粒子的长大行为 .发现在室温下溅射的TiNi合金薄膜存在小于 1nm尺寸的微空洞 ,将退火后薄膜的小角x射线散射强度扣除退火前微空洞产生的小角x射线散射强度 ... 用小角x射线散射技术研究以直流磁控溅射方法制备TiNi合金薄膜其退火生成的晶化粒子的长大行为 .发现在室温下溅射的TiNi合金薄膜存在小于 1nm尺寸的微空洞 ,将退火后薄膜的小角x射线散射强度扣除退火前微空洞产生的小角x射线散射强度 ,用这种方法得到的散射强度遵从Porod定律 ;而用通常方法扣除背底得到的散射强度结果不满足Porod定律 .TiNi合金薄膜在 733— 793K之间退火晶化粒子的长大激活能Eg=30 1kJ mol. 展开更多
关键词 小角X射线散射 TiNi薄膜 粒子 长大激活能 形状记忆合金薄膜
原文传递
衬底温度对沉积的NiTi薄膜晶化行为的影响 被引量:4
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作者 李永华 纪红 +3 位作者 孟繁玲 邱利霞 郑伟涛 王煜明 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 2003年第3期251-253,共3页
将采用直流磁控溅射方法制备的NiTi薄膜沉积在热的衬底上,应用X射线散射和小角X射线散射技术研究了NiTi合金薄膜中生成的晶化粒子的界面特征和晶粒大小.结果表明:衬底加热可降低薄膜的晶化温度,衬底温度在350℃以上,溅射的NiTi薄膜已部... 将采用直流磁控溅射方法制备的NiTi薄膜沉积在热的衬底上,应用X射线散射和小角X射线散射技术研究了NiTi合金薄膜中生成的晶化粒子的界面特征和晶粒大小.结果表明:衬底加热可降低薄膜的晶化温度,衬底温度在350℃以上,溅射的NiTi薄膜已部分晶化;衬底温度在350、370℃和420℃溅射的NiTi薄膜,对应的晶化粒子的半径分别是2 40、2 59、2 81nm;薄膜中的晶化粒子以形核长大的方式进行,结晶粒子与基底之间有清晰的界面. 展开更多
关键词 衬底 温度 沉积 NiTi合金薄膜 粒子 小角X射线散射
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