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MPCVD纳米金刚石膜的微观结构及显微力学特性分析 被引量:2
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作者 杨武保 吕反修 +2 位作者 唐伟忠 刘玉龙 朱克 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2000年第4期19-21,共3页
利用微波等离子体化学气相沉积技术在光学玻璃衬底上制备了金刚石膜,利用原子力显微镜技术及显微力学探针研究了膜层的表面形貌及显微力学特性。结果表明,金刚石膜的晶粒尺寸小于100 nm,表面粗糙度小于10 nm,具有极高的显微硬度及... 利用微波等离子体化学气相沉积技术在光学玻璃衬底上制备了金刚石膜,利用原子力显微镜技术及显微力学探针研究了膜层的表面形貌及显微力学特性。结果表明,金刚石膜的晶粒尺寸小于100 nm,表面粗糙度小于10 nm,具有极高的显微硬度及弹性模量,能够满足光学材料表面的抗冲击、耐磨等要求。 展开更多
关键词 金刚石膜 表面形貌 显微力学特性 MPCVD
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