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印刷电路板显影废水处理研究 被引量:12
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作者 鲍旭平 李义久 《工业水处理》 CAS CSCD 北大核心 2005年第11期22-24,共3页
印刷电路板生产中产生的显影废水是一种高有机物含量、成分复杂、难以生化降解的废水。作者采用酸化破乳—铁炭微电解—中和沉淀—SBR组合工艺处理该废水,并通过实验确定最佳工艺参数:酸化破乳pH为3~4,破乳后出水进入铁炭微电解柱,V(铁... 印刷电路板生产中产生的显影废水是一种高有机物含量、成分复杂、难以生化降解的废水。作者采用酸化破乳—铁炭微电解—中和沉淀—SBR组合工艺处理该废水,并通过实验确定最佳工艺参数:酸化破乳pH为3~4,破乳后出水进入铁炭微电解柱,V(铁)∶V(炭)=11∶,反应时间为45 min,出水加石灰乳调节pH为7~8,中和沉淀;SBR每12h为一个周期,最佳反应时间为8h。经组合工艺处理后,原废水CODCr由原来的11 000mg/L降至400 mg/L左右,去除率达到96%左右。 展开更多
关键词 破乳 铁炭微电解 序批式间歇反应器 显影废水
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催化湿式氧化法预处理显影废水的研究 被引量:7
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作者 鲁晓阳 杨民 +3 位作者 于波 杨旭 杜鸿章 孙承林 《环境化学》 CAS CSCD 北大核心 2007年第2期144-147,共4页
考察了催化湿式氧化法对医院显影废水进行预处理的可行性.紫外扫描结果表明,对甲氨基苯酚硫酸盐、对苯二酚等特征污染物被降解为小分子物质,在催化剂Ru/TiO_2存在下,催化湿式氧化法与湿式氧化相比,有机物的降解更加彻底.通过考察催化剂... 考察了催化湿式氧化法对医院显影废水进行预处理的可行性.紫外扫描结果表明,对甲氨基苯酚硫酸盐、对苯二酚等特征污染物被降解为小分子物质,在催化剂Ru/TiO_2存在下,催化湿式氧化法与湿式氧化相比,有机物的降解更加彻底.通过考察催化剂用量、温度、压力及pH值等条件对COD_(Cr)去除率的影响,确定适宜的反应条件为:催化剂用量为2g·l-1,温度为220℃,压力为1.5MPa,pH为8.9.在上述反应条件下,CODCr去除率达62.5%,色度去除率达98%,BOD_5/COD_(Cr)值由原来的0.07提高到0.45. 展开更多
关键词 催化湿式氧化法 湿式氧化 废水处理 显影废水
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膜生物反应器处理显影废水 被引量:5
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作者 李亦硕 周兴求 +1 位作者 卓晓明 巫世文 《化工环保》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期59-62,共4页
研究了膜生物反应器对预处理后的显影废水的处理效果,考察了 MLSS 和 DO 对系统出水水质的影响。实验结果表明:在系统运行温度15~30℃、停留时间10~15 h、曝气量4~10 m^3/h 的条件下,系统稳定后出水水质良好且稳定,COD 去除率为85%~... 研究了膜生物反应器对预处理后的显影废水的处理效果,考察了 MLSS 和 DO 对系统出水水质的影响。实验结果表明:在系统运行温度15~30℃、停留时间10~15 h、曝气量4~10 m^3/h 的条件下,系统稳定后出水水质良好且稳定,COD 去除率为85%~92%,Cu^(2+)去除率为90%~98%;生物反应池中的活性污泥对 Cu^(2+)的去除起主要作用,使出水中 Cu^(2+)质量浓度维持在0.5 mg/L 以下;考虑到废水处理效果和能耗两方面的因素,MLSS 宜控制在6 000 mg/L 左右,DO 应控制在1.5~2.5 mg/L。 展开更多
关键词 膜生物反应器 显影废水 铜离子 印制电路板 废水处理
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酸化-微电解-Fenton组合工艺处理PCB显影废水中有机物的研究
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作者 程乾坤 李建如 +2 位作者 方皓 李茜 石太宏 《皮革制作与环保科技》 2024年第18期24-27,共4页
印制电路板(PCB)行业产生的显影废水是一种成分复杂、难以生化降解的高浓度有机废水。本文首先采用单因素实验确定酸化、铁碳微电解、Fenton氧化反应的最佳反应条件,其中酸化pH值为2;铁碳微电解条件:铁碳质量比取2,百毫升废水药剂投加量... 印制电路板(PCB)行业产生的显影废水是一种成分复杂、难以生化降解的高浓度有机废水。本文首先采用单因素实验确定酸化、铁碳微电解、Fenton氧化反应的最佳反应条件,其中酸化pH值为2;铁碳微电解条件:铁碳质量比取2,百毫升废水药剂投加量为3 g,pH值为2,反应时间为30 min;Fenton氧化条件:初始pH值为3,H_(2)O_(2)与Fe^(2+)的摩尔比为6,百毫升废水需加入H_(2)O_(2)0.6 m L,反应时间为90 min。其次,通过酸化-铁碳微电解-Fenton氧化组合工艺处理该废水,经组合工艺处理后,废水中的COD_(Cr)浓度从原来的5 320 mg/L降至432 mg/L左右,去除率达91%左右,为工厂废水预处理提供了依据。 展开更多
关键词 酸化 铁碳微电解 FENTON氧化 显影废水
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水热辅助Fenton试剂氧化法深度处理显影废水的研究 被引量:4
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作者 曾小君 王和平 《工业水处理》 CAS CSCD 北大核心 2011年第11期57-60,共4页
研究了水热辅助Fenton试剂氧化法对中和沉淀-气浮工艺处理后的显影废水的深度处理效果和影响因素。结果表明,在最佳反应条件下,当进水CODcr为300—400mg/L时,处理出水COD。〈60mg/L,达到《污水综合排放标准》(GB8978--1996)~... 研究了水热辅助Fenton试剂氧化法对中和沉淀-气浮工艺处理后的显影废水的深度处理效果和影响因素。结果表明,在最佳反应条件下,当进水CODcr为300—400mg/L时,处理出水COD。〈60mg/L,达到《污水综合排放标准》(GB8978--1996)~级标准要求。在实验条件下,最佳反应参数为:初始pH为2.5,反应温度为110℃,FeS047H20投加质量浓度为3.6g/L,30%H202投加质量浓度为3.3—3.7g,L,反应时间为1-2h。水热辅助Fenton试剂氧化法的CODc1。去除率可汰Rs.2%. 展开更多
关键词 显影废水 FENTON试剂 水热辅助 氧化法 深度处理
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显定影废水处理研究现状 被引量:2
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作者 武勇 王爱英 李日强 《科技情报开发与经济》 2012年第2期123-125,共3页
介绍了膜生物反应器、酸化—Fenton—混凝工艺、水解酸化—好氧处理工艺及湿式氧化法—催化湿式氧化法等处理工艺在显定影废水处理中的应用。
关键词 显影废水 定影废水 废水处理
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印制电路板废水处理设计 被引量:1
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作者 刘晖 《科技资讯》 2007年第9期198-199,共2页
  1 废水处理的重要性   改革开放以来,我国印制板工业也有了一个突飞猛进的发展   随着印制板制造技术的发展,生产过程中产生的污染也在逐步增加,治理这些污染是搞好环境保护的必不可少的条件.……
关键词 含铜废水 Cu 废水处理 COD NH 含金属废水 污水处理 废物处理 络合剂 硫化物沉淀法 NaOH 显影废水 投加 印制板 印刷电路板(材料) 离子交换法 物理化学处理 铜离子 固液分离
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臭氧降解显影废水中显影剂及其氧化物总量的研究 被引量:1
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作者 徐吉成 储金宇 +1 位作者 徐兵 李玉蓉 《镇江高专学报》 2011年第1期83-86,共4页
利用高压等离子体产生臭氧,处理感光行业中的显影废水,建立以臭氧氧化处理显影剂及其氧化物总量的一种有效方法。实验中分别考察了反应时间、反应温度、初始浓度、pH值、臭氧通入量等因素对显影剂及其氧化物总量降解的影响,通过正交实... 利用高压等离子体产生臭氧,处理感光行业中的显影废水,建立以臭氧氧化处理显影剂及其氧化物总量的一种有效方法。实验中分别考察了反应时间、反应温度、初始浓度、pH值、臭氧通入量等因素对显影剂及其氧化物总量降解的影响,通过正交实验及经济性分析得出本方法的优化条件。该条件下,显影剂及其氧化物总量降解率为96.9%。 展开更多
关键词 臭氧 显影废水 显影 氧化物总量
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印刷线路板厂有机显影废水处理方法研究 被引量:1
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作者 郭琳 查红平 +1 位作者 尹丽 柳正葳 《井冈山大学学报(自然科学版)》 2011年第1期62-66,共5页
采用酸性混凝+高级氧化+生物接触曝气系统处理红板(江西)线路板厂有机显影废水,并通过正交实验确定最佳药剂投加量。结果表明,处理500mL显影废水的最佳工艺条件是pH为4.0,10%的PAC的投加量为3.3mL,0.2%的PAM投加量为3.4mL,10%的FeSO4... 采用酸性混凝+高级氧化+生物接触曝气系统处理红板(江西)线路板厂有机显影废水,并通过正交实验确定最佳药剂投加量。结果表明,处理500mL显影废水的最佳工艺条件是pH为4.0,10%的PAC的投加量为3.3mL,0.2%的PAM投加量为3.4mL,10%的FeSO4·7H2O的投加量为2.7mL,30%的H2O2投加量为0.72mL,10%的Na2S投加量为4.4mL,10%的LIME投加量为7.7mL,0.2%PAM投加量为4.6mL。将最佳工艺条件应用于工程实践,处理后废水COD的值降为75mg/L,低于《污水综合排放标准》(GB8978-1996)一级排放标准中COD的最高允许排放浓度。 展开更多
关键词 线路板 显影废水 酸性混凝 高级氧化
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显影废水中对苯二酚与米吐尔的测定
10
作者 于永春 《南京铁道医学院学报》 1991年第2期94-95,101,共3页
对苯二酚与米吐尔是显影废水的主要成份,具有一定毒性,国内外的一些测定方法,不少是针对苯二酚而未涉及米吐尔,而报道过的联合测定方法,结果尚难令人满意。作用采用正交函数分光光度法同时测定。对苯二酚与米吐尔,用一台微机选择测定条件,
关键词 显影废水 对苯二酚 米吐尔 测定
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卡尔曼滤波伏安法同时测量显影废水中米吐尔和对苯二酚的研究
11
作者 吴咏梅 叶芝祥 蔡铎昌 《西华师范大学学报(自然科学版)》 2004年第1期89-91,共3页
用自制蒙脱石—石墨—聚氯乙烯复合电极做工作电极,溶液的pH=5.0时,米吐尔的氧化峰电位为310mV,浓度在4.0~32.0μg.mL-1范围时,峰电流与浓度有良好的线性关系(I=0.0057+0.6398c,γ=0.999);对苯二酚的氧化峰的峰电位为320mV,浓度在4.0~... 用自制蒙脱石—石墨—聚氯乙烯复合电极做工作电极,溶液的pH=5.0时,米吐尔的氧化峰电位为310mV,浓度在4.0~32.0μg.mL-1范围时,峰电流与浓度有良好的线性关系(I=0.0057+0.6398c,γ=0.999);对苯二酚的氧化峰的峰电位为320mV,浓度在4.0~32.0μg.mL-1范围时,峰电流与浓度有良好的线性关系(I=-0 0164+0.9747c,γ=0.999).用卡尔曼滤波伏安法对显影废水中米吐尔和对苯二酚进行了同时测定,米吐尔的平均回收率为99.47%,对苯二酚的平均回收率为100.06%. 展开更多
关键词 米吐尔 对苯二酚 显影废水 卡尔曼滤波伏安法 蒙脱石-石墨-聚氯乙烯复合电极 环境污染
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碳糊电极阳极溶出伏安法同时测定显影废水中的微量米吐尔和对苯二酚 被引量:4
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作者 张春煦 陈进生 赵进沛 《分析化学》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1992年第4期490-490,共1页
1978年Smith介绍了美国对制片废水的控制及其中某些有害成份加对苯二酚等的测定方法,但未谈及米吐尔的测定,官宜文等曾利用萃取-紫外光度法同时测定了显影废水中的米吐尔和对苯二酚。但是,本法尚未见报道。 1 仪器与试剂 75—4B型快速... 1978年Smith介绍了美国对制片废水的控制及其中某些有害成份加对苯二酚等的测定方法,但未谈及米吐尔的测定,官宜文等曾利用萃取-紫外光度法同时测定了显影废水中的米吐尔和对苯二酚。但是,本法尚未见报道。 1 仪器与试剂 75—4B型快速极谱仪(厦门二分厂),79—1型伏安分析仪(济南无线电四厂),甘汞电极为参比电极, 展开更多
关键词 显影废水 米吐尔 对苯二酚 伏安法
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非水溶性meso-四苯基卟啉与银显色反应的研究 被引量:5
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作者 林晶 张惠 张艺 《理化检验(化学分册)》 CAS CSCD 北大核心 2004年第7期373-374,377,共3页
研究了在混合表现活性剂TritonX 100与CTMAB共同存在下,非水溶性meso 四苯基卟啉与银的显色反应。利用该反应建立了高灵敏测定银的光度分析法,用于显影液废水中银的测定,其结果与ICP AES法和AAS法一致。银与TPP形成1∶1的配合物,其最大... 研究了在混合表现活性剂TritonX 100与CTMAB共同存在下,非水溶性meso 四苯基卟啉与银的显色反应。利用该反应建立了高灵敏测定银的光度分析法,用于显影液废水中银的测定,其结果与ICP AES法和AAS法一致。银与TPP形成1∶1的配合物,其最大吸收波长和表观摩尔吸光系数分别为425nm和2.15×105L·mol-1·cm-1,银含量在0.04~4.0μg/10ml范围内服从比耳定律。 展开更多
关键词 吸光光度法 卟啉 显影废水
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UASB处理液晶面板显影液废水中试研究 被引量:3
14
作者 肖凡 《工业水处理》 CAS CSCD 北大核心 2023年第2期148-153,共6页
液晶面板显影液废水的主要污染成分是四甲基氢氧化铵(TMAH),该有机物具有强碱性和神经毒性。采用升流式厌氧污泥床(UASB)对实际显影液废水进行中试处理,考察了不同处理负荷下的TOC处理效果以及有机氮的转化效率。结果表明,在进水TMAH质... 液晶面板显影液废水的主要污染成分是四甲基氢氧化铵(TMAH),该有机物具有强碱性和神经毒性。采用升流式厌氧污泥床(UASB)对实际显影液废水进行中试处理,考察了不同处理负荷下的TOC处理效果以及有机氮的转化效率。结果表明,在进水TMAH质量浓度为2070~8900 mg/L时,经UASB处理后,出水TMAH质量浓度低于0.5 mg/L,TOC去除率保持在96.4%以上;UASB不仅能有效去除显影液废水中的TMAH,还可大幅降低出水有机物浓度;UASB在高进水TMAH浓度工况下仍能长期稳定运行,得益于其高回流比对TMAH的不断稀释。稳定运行期间,UASB可将93%~97%的有机氮转化为无机氨氮,大幅降低废显影液毒性,有利于后续处理工艺进一步脱氮。研究还发现,单位TOC沼气产率为1.57~1.81 m^(3)/kg,且沼气中CH4与CO_(2)的体积比约为3.26。本中试试验直接运行费用(电耗和药剂)为13.22元/m3,后续工程实践还可通过回用沼气进一步降低废水处理系统运行费用。 展开更多
关键词 升流式厌氧污泥床 显影废水 四甲基氢氧化铵
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液晶面板显影液废水中常见物质对TMAH厌氧降解的影响
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作者 曹依晴 吕娟 +2 位作者 董佳奇 倪琪 欧昌源 《净水技术》 CAS 2023年第4期111-120,共10页
四甲基氢氧化铵(TMAH)是薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)生产过程中所产生显影液废水的主要成分,具有强碱性和生物毒性。为研究显影液废水中常见物质对TMAH厌氧生物降解的影响,文中选取实际显影液废水中常见的二甲基亚砜(DMSO)、N-甲基... 四甲基氢氧化铵(TMAH)是薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)生产过程中所产生显影液废水的主要成分,具有强碱性和生物毒性。为研究显影液废水中常见物质对TMAH厌氧生物降解的影响,文中选取实际显影液废水中常见的二甲基亚砜(DMSO)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、二甲基乙酰胺(DMAC)和硫酸盐作为研究对象,分别考察了其对TMAH厌氧去除和生成产物的影响。批次试验结果表明,质量浓度为500~3000 mg/L的DMSO和质量浓度为50~1000 mg/L的DMAC对TMAH的厌氧去除无明显影响;较高质量浓度(300~2000 mg/L)的NMP会抑制TMAH及中间产物三甲胺的降解,引起三甲胺的累积;硫酸盐(100~2000 mg/L)会抑制TMAH的降解,导致中间产物积累。且这4种物质都对产甲烷菌的活性具有抑制作用,进而导致甲烷产量降低。研究结论可为实际显影液废水厌氧处理的工艺设计提供理论参考依据。 展开更多
关键词 显影废水 四甲基氢氧化铵 厌氧 共存物质 活性污泥法
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印制电路板企业显影去膜有机废水电催化预处理研究 被引量:1
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作者 廖泽远 任大军 +4 位作者 陶敏 杨芳显 奚益翔 梁剑成 肖文胜 《化学试剂》 CAS 北大核心 2020年第5期578-583,共6页
印制电路板(PCB)企业显影去膜有机废水具有有机物浓度高、可生化性差、水质波动大等特点,一直是该行业废水处理的难点问题之一。为此,研究了显影去膜有机废水的电催化处理效果,通过正交试验探讨了废水流量、电流密度、电极材料、电极是... 印制电路板(PCB)企业显影去膜有机废水具有有机物浓度高、可生化性差、水质波动大等特点,一直是该行业废水处理的难点问题之一。为此,研究了显影去膜有机废水的电催化处理效果,通过正交试验探讨了废水流量、电流密度、电极材料、电极是否反转4个因素对COD、NH4^+-N、SS去除率的影响。结果表明:4个因素的影响大小依次为:电极材料>流量大小>电流密度>电极是否反转。电催化最优运行参数为流量0.048 m^3/h、电流密度19.11 A/m^2、电极材料(酸碱改性活性炭45%,Al2O3-TiC复合电极30%,载Mn/Sn/Sb的γ-Al2O3半导体电极25%)、电极不反转,此时显影去膜废水中COD、NH+4-N去除率分别达到67.08%、85.63%,然而电催化装置出水中SS浓度明显增加;另外,SS去除率与COD去除率之间呈显著相关,COD去除率随SS去除率先减小后增大,这表明SS浓度的增加显著强化了电絮凝效果,提高了COD去除效率。 展开更多
关键词 印制电路板企业 显影去膜废水 电催化 正交试验 电絮凝
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物化生化法处理摄影行业定显影液混和废水
17
作者 刘璐 李占臣 +1 位作者 马子娟 庞东上 《煤炭与化工》 CAS 2018年第1期23-26,共4页
采用絮凝沉淀的预处理方法和生物处理方法,对摄影行业定影液和显影液的混和废水进行处理效果的研究。在混凝法预处理实验中,在提取银后的混合液中加入钙离子、聚合氯化铝和阴离子聚丙烯酰胺,考察了絮凝剂聚合氯化铝和阴离子聚丙烯酰胺... 采用絮凝沉淀的预处理方法和生物处理方法,对摄影行业定影液和显影液的混和废水进行处理效果的研究。在混凝法预处理实验中,在提取银后的混合液中加入钙离子、聚合氯化铝和阴离子聚丙烯酰胺,考察了絮凝剂聚合氯化铝和阴离子聚丙烯酰胺是投加量及pH值对水样去除率的影响,结果表明,在氯化钙投加量为5 g/L,pH值为9(氧化钙的投加量为3g/L),5%聚合氯化铝投加量为40 m L/L,1‰阴离子聚丙烯酰胺投加量为50 m L/L的条件下,水样CODcr总去除率可达30%左右,盐分去除率达37%左右;通过厌氧+两级好氧法生物处理方法实验得出,在厌氧池停留时间为24 h,一级好氧池和二级好氧池均为6 h的条件下,水样CODcr总去除率可达70.46%左右,水样有机物浓度大大减少,危害大大降低。 展开更多
关键词 显影液混和废水 混凝 生物处理
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曝气式微电解处理PCB显影脱膜预处理废水的试验研究
18
作者 温尚龙 周旭礼 +2 位作者 张艳芳 焦元启 陈欣义 《广东化工》 CAS 2014年第13期215-216,229,共3页
文章对印制电路板显影脱膜废水进行试验研究,提出采用曝气式微电解处理显影脱膜废水酸析后预处理的工艺,通过正交试验和单因素试验相互验证工艺参数,并获得最佳工艺参数:铁炭比1∶1,pH值3.0,反应时间60 min,CODCr的去除率达到60%左右,... 文章对印制电路板显影脱膜废水进行试验研究,提出采用曝气式微电解处理显影脱膜废水酸析后预处理的工艺,通过正交试验和单因素试验相互验证工艺参数,并获得最佳工艺参数:铁炭比1∶1,pH值3.0,反应时间60 min,CODCr的去除率达到60%左右,重金属等指标低于检出限。 展开更多
关键词 曝气式微电解 正交试验 PCB显影脱膜废水预处理
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