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走向工业应用的离子辅助光学镀膜技术
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作者 尤大伟 李晓谦 +1 位作者 王怡德 林永昌 《微细加工技术》 EI 2000年第3期1-5,共5页
介绍一种新型等离子体辅助镀膜技术 ,使用该技术可使高质量的光学镀膜大量生产。该技术核心是无栅等离子体源 (GIS)。GIS可以产生大面积的均匀等离子体 ,直径大于 1 0 0 0mm。等离子体离子流强度高达 0 .5mA/cm2 ,离子流能量 2 0 - 2 0 ... 介绍一种新型等离子体辅助镀膜技术 ,使用该技术可使高质量的光学镀膜大量生产。该技术核心是无栅等离子体源 (GIS)。GIS可以产生大面积的均匀等离子体 ,直径大于 1 0 0 0mm。等离子体离子流强度高达 0 .5mA/cm2 ,离子流能量 2 0 - 2 0 0eV ,并能激活反应气体O2 及蒸发原子 ,用GIS进行的等离子体离子辅助镀膜这一技术 ,现正用于生产高质量的光学薄膜。 展开更多
关键词 等离子体离子 无栅等离子体源 光学镀膜
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