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TiO_2薄膜的低温制备及紫外光催化降解亚甲基蓝 被引量:6
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作者 姚俊 王潮霞 《水处理技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第5期85-88,共4页
采用旋转涂膜法于60℃下制备TiO2薄膜,对亚甲基蓝溶液进行光催化降解,研究了钛酸丁酯/水的摩尔比、涂膜层数、光照强度、染液初始质量浓度和薄膜重复使用次数对染料降解的影响。结果表明,钛酸丁酯/水的摩尔比1:200,涂膜层数3层,光照强度... 采用旋转涂膜法于60℃下制备TiO2薄膜,对亚甲基蓝溶液进行光催化降解,研究了钛酸丁酯/水的摩尔比、涂膜层数、光照强度、染液初始质量浓度和薄膜重复使用次数对染料降解的影响。结果表明,钛酸丁酯/水的摩尔比1:200,涂膜层数3层,光照强度100 W,亚甲基蓝初始质量浓度为2 mg.L-1,降解率达到90.3%。薄膜重复使用5次后催化活性基本保持不变。制备的TiO2薄膜具有较高光催化活性,与基材有较好的结合性。 展开更多
关键词 TIO2 薄膜 旋转涂膜 光催化活性 染料降解
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旋转涂膜法制备ICF靶用气凝胶薄膜工艺研究 被引量:2
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作者 刘伟民 王朝阳 +1 位作者 王红艳 唐永建 《化工时刊》 CAS 2005年第7期20-22,共3页
以间苯二酚(resorcin01)、甲醛(formaldehyde)为有机反应的前驱体,以溶胶—凝胶法(sol—gel)为主要反应历程,通过旋转涂膜法镀制厚度在100μm以下的,与传统块体制备方式不同的有机气凝胶(organicaerogel)薄膜。研究了在涂膜过程中,旋转... 以间苯二酚(resorcin01)、甲醛(formaldehyde)为有机反应的前驱体,以溶胶—凝胶法(sol—gel)为主要反应历程,通过旋转涂膜法镀制厚度在100μm以下的,与传统块体制备方式不同的有机气凝胶(organicaerogel)薄膜。研究了在涂膜过程中,旋转角速度、涂液的表观粘度以及旋转时间对涂层厚度的影响。结果发现:涂液的表观粘度和旋转角速度是影响薄膜厚度的最主要因素。 展开更多
关键词 溶胶—凝胶 旋转涂膜 表观粘度 旋转角速度 气凝胶薄膜 涂膜 工艺研究 ICF靶 制备 涂层厚度
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采用旋转涂膜法制备基底生长的定向碳纳米管阵列 被引量:3
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作者 关峰 王朝阳 +1 位作者 唐永建 闫红梅 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期1909-1912,共4页
采用化学气相沉积技术,利用旋转涂膜法制备催化剂基底材料,通过对涂膜过程中的角速度、旋转时间以及基底还原过程中温度的控制改变催化剂颗粒的分布状态,获得了粒径均匀分布的催化剂基底,该基底上催化剂颗粒集中分布在47-62nm区间... 采用化学气相沉积技术,利用旋转涂膜法制备催化剂基底材料,通过对涂膜过程中的角速度、旋转时间以及基底还原过程中温度的控制改变催化剂颗粒的分布状态,获得了粒径均匀分布的催化剂基底,该基底上催化剂颗粒集中分布在47-62nm区间,再利用该基底生长出定向碳纳米管阵列。运用扫描电镜、透射电镜、拉曼光谱仪对样品进行了表征。结果表明旋转涂膜法制备的基底平整性好于普通的滴膜法,且较其它基底制备方法具有简单易控、可使催化剂均匀分散等特点。利用该基底制备的碳纳米管阵列定向性良好。 展开更多
关键词 碳纳米管阵列 基底 旋转涂膜 化学气相沉积
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高效溶液法小分子磷光电致发光器件研究 被引量:3
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作者 刘红梅 郑才俊 +1 位作者 何鉴 张晓宏 《影像科学与光化学》 EI CAS CSCD 2008年第1期8-15,共8页
以小分子化合物CDBP[4,4′-bis(carbazol-9-yl)-9,9-dimethyl-fluorene]为主体材料,Ir(pppy)3[tris(5-phenyl-10,10-dimethyl-4-aza-tricycloundeca-2,4,6-triene)Iridium(III)]为磷光客体材料,采用溶液法和真空蒸镀法相结合的制备工艺... 以小分子化合物CDBP[4,4′-bis(carbazol-9-yl)-9,9-dimethyl-fluorene]为主体材料,Ir(pppy)3[tris(5-phenyl-10,10-dimethyl-4-aza-tricycloundeca-2,4,6-triene)Iridium(III)]为磷光客体材料,采用溶液法和真空蒸镀法相结合的制备工艺,制作了小分子磷光电致发光器件.研究表明,通过器件结构的优化,Ir(pppy)3(重量百分比为2)掺杂的多层绿光电致发光器件效率达22.0 cd/A,最大亮度达到26600 cd/m2,这一结果可与当今基于真空蒸镀的小分子或基于溶液法的高分子磷光电致发光器件性能相媲美.本工作为降低有机电致发光器件的成本,扩展溶液法有机电致发光器件制备工艺中材料的选择范围提供了实验依据. 展开更多
关键词 有机电致发光器件 磷光电致发光 旋转涂膜 真空镀膜
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PMMA/PS共混物薄膜中Voronoi结构的形成 被引量:2
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作者 宗骐 谢续明 《高分子学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2005年第4期617-620,共4页
Thin films of poly(methyl methacrylate)/polystyrene (PMMA/PS 80/20 W/W) blend prepared on glass substrate by spin-coating from a cosolvent, chloroform were studied. The formation of regular Voronoi patterns was found ... Thin films of poly(methyl methacrylate)/polystyrene (PMMA/PS 80/20 W/W) blend prepared on glass substrate by spin-coating from a cosolvent, chloroform were studied. The formation of regular Voronoi patterns was found under phase contrast microscopy (PCM). It was observed that there were clear concave boundaries in the PCM images by atomic force microscopy (AFM). Although the sample was annealed at 220℃ more than 7 h, no changes of the Voronoi pattern occurred, implying that the phase separation structure in the Voronoi pattern was almost complete during spin-coating process. It was believed that the formation of this pattern was due to the convection during spin-coating procedure. 展开更多
关键词 高分子共混物 Voronoi结构 对流 旋转涂膜 自然结构 VORONOI 共混物薄膜 PMMA PS 17世纪
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常压干燥制备微米级厚度RF气凝胶薄膜 被引量:1
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作者 刘伟民 王朝阳 +1 位作者 王红艳 唐永建 《过程工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期223-226,共4页
以间苯二酚(Resorcinol)和甲醛(Formaldehyde)为前驱体,溶胶-凝胶法为主要方法,采用旋转涂膜,通过控制溶液配比及环境条件,用常压干燥方式取代通常的超临界干燥,成功制备出厚度在微米级的有机气凝胶薄膜.SEM照片显示,该薄膜具有与块体... 以间苯二酚(Resorcinol)和甲醛(Formaldehyde)为前驱体,溶胶-凝胶法为主要方法,采用旋转涂膜,通过控制溶液配比及环境条件,用常压干燥方式取代通常的超临界干燥,成功制备出厚度在微米级的有机气凝胶薄膜.SEM照片显示,该薄膜具有与块体气凝胶相似的网络结构.分析了旋转涂膜和常温干燥过程对最终成膜的影响.结果发现,增大凝胶孔隙结构和优化凝胶老化方式是实现常压干燥的关键因素. 展开更多
关键词 RF气凝胶薄膜 溶胶-凝胶 旋转涂膜 毛细管力 常压干燥
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旋涂法制备KDP晶体减反膜 被引量:1
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作者 杨伟 惠浩浩 +3 位作者 马红菊 李文林 雷向阳 张清华 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第12期3348-3352,共5页
对KDP晶体旋转涂膜过程中的技术问题进行了探讨,包括元件夹持安全性、膜层均匀性、膜层透射比、膜层疏水性能、膜层激光损伤阈值等。分析了晶体元件加速旋转阶段的受力情况,明确了KDP晶体元件在旋涂操作过程中受力状态的安全性。对不... 对KDP晶体旋转涂膜过程中的技术问题进行了探讨,包括元件夹持安全性、膜层均匀性、膜层透射比、膜层疏水性能、膜层激光损伤阈值等。分析了晶体元件加速旋转阶段的受力情况,明确了KDP晶体元件在旋涂操作过程中受力状态的安全性。对不同溶剂体系的膜层均匀性进行了判断,在400mm尺寸的元件上获得了透射比均匀性为0.3%的减反膜。对溶胶进行稳态剪切流变分析得知,在现有的涂膜转速(对应剪切速率100~200s^-1)范围内,其粘度随着剪切速率的增加几乎不变,近似牛顿流体。在旋涂过程中,处于基底不同位置的溶胶的粘度大致相等,这是影响膜层均匀性的重要原因之一。膜层疏水性能较好,水接触角测试结果大于152°。在SiO2基底上制备的减反膜,1053nm处透射比大于99.8%。在熔石英基片上制备的三倍频减反膜样品的激光损伤闽值约为10J/cm^2(355nm,3ns)。 展开更多
关键词 KDP晶体 旋转涂膜 膜层均匀性 溶胶-凝胶 减反膜
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碳气凝胶薄膜制备研究进展
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作者 刘伟民 王朝阳 +1 位作者 王红艳 唐永建 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第F05期68-70,共3页
简介了碳气凝胶材料的物理化学性质,阐述了碳气凝胶及其薄膜的潜在应用,综述了碳气凝胶薄膜的制备现状。联系结构特征,分析了影响碳气凝胶膜化制备的主要因素。对比无机气凝胶薄膜,提出了新的可能的制备方法。
关键词 碳气凝胶薄膜 溶胶-凝胶 电极 超临界干燥 常压干燥 旋转涂膜
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CdS复合TiO_2薄膜的制备及其太阳光光催化性能 被引量:15
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作者 尚华美 王承遇 +2 位作者 王继红 张国武 庞志红 《大连轻工业学院学报》 2001年第3期157-160,共4页
采用溶胶 凝胶法 ,通过旋转涂膜工艺在玻璃表面制备CdS复合TiO2 薄膜。利用紫外 可见光分光光度计、激光椭圆偏振光测厚仪等仪器研究了CdS复合量、涂膜层数以及热处理温度对甲基橙光催化降解的影响。CdS最适宜的复合量为 45 %、太阳... 采用溶胶 凝胶法 ,通过旋转涂膜工艺在玻璃表面制备CdS复合TiO2 薄膜。利用紫外 可见光分光光度计、激光椭圆偏振光测厚仪等仪器研究了CdS复合量、涂膜层数以及热处理温度对甲基橙光催化降解的影响。CdS最适宜的复合量为 45 %、太阳光光催化降解的最佳涂膜层数为 2 ,涂膜热处理的最适宜温度为 5 0 展开更多
关键词 玻璃 催化 TIO2薄膜 CDS 甲基橙 旋转涂膜工艺 光催化性能
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反射干涉光谱法测定分子印迹敏感膜表面吸附的分子浓度 被引量:1
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作者 刘冬梅 王永向 +2 位作者 刘秋明 戎非 付德刚 《理化检验(化学分册)》 CAS CSCD 北大核心 2010年第6期601-603,共3页
采用旋转涂膜法在镀有五氧化二钽增强层的载玻片上制备氯霉素分子印迹敏感膜,将印迹敏感膜玻片置入不同浓度氯霉素溶液中进行吸附试验,采用反射干涉光谱检测印迹膜吸附前后的光学厚度变化值(Δnd),溶液浓度与Δnd之间呈线性关系,线性回... 采用旋转涂膜法在镀有五氧化二钽增强层的载玻片上制备氯霉素分子印迹敏感膜,将印迹敏感膜玻片置入不同浓度氯霉素溶液中进行吸附试验,采用反射干涉光谱检测印迹膜吸附前后的光学厚度变化值(Δnd),溶液浓度与Δnd之间呈线性关系,线性回归方程为Δnd=-0.37+0.20c,检出限(3s/k)为0.15 mmol.L-1。该法用于加标蜂蜜样品中氯霉素的测定,所得结果与高效液相色谱法测定结果相符,回收率为96.5%,相对标准偏差(n=5)为0.8%。 展开更多
关键词 分子印迹敏感膜 旋转涂膜 氯霉素 反射干涉光谱法
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聚N-异丙基丙烯酰胺共聚物纳米膜的制备与表征
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作者 杨磊 刘天庆 +3 位作者 马学虎 宋克东 武爽 樊鑫 《高校化学工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第3期494-499,共6页
报道了一种制备性能良好的温敏性纳米膜的简易方法。首先采用自由基聚合法将N-异丙基丙烯酰胺、甲基丙烯酸羟丙酯和甲基丙烯酸(3-三甲氧基硅)丙酯等原料合成为新型的PNIPAAm共聚物。通过动态光散射、傅里叶变换红外光谱、核磁共振氢谱... 报道了一种制备性能良好的温敏性纳米膜的简易方法。首先采用自由基聚合法将N-异丙基丙烯酰胺、甲基丙烯酸羟丙酯和甲基丙烯酸(3-三甲氧基硅)丙酯等原料合成为新型的PNIPAAm共聚物。通过动态光散射、傅里叶变换红外光谱、核磁共振氢谱和凝胶渗透色谱等对终产物的温敏特性、化学结构和分子量进行研究。进而采用旋转涂膜法和加热退火法在硅片或玻璃片上制备PNIPAAm共聚物纳米膜,并采用接触角测量仪、原子力显微镜和椭圆偏振仪等技术手段检测了不同制膜溶液浓度和测试温度条件下共聚物膜的表面润湿性、表面结构和总体厚度。结果表明所制备的PNIPAAm共聚物及其纳米膜均具有温敏特性,且可用于干细胞的有效收获。 展开更多
关键词 温敏性纳米膜 自由基聚合法 旋转涂膜 加热退火法 表面接枝
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凝胶基质有机染料薄膜制备工艺
12
作者 王华珍 郭亨群 《华侨大学学报(自然科学版)》 CAS 2004年第2期140-144,共5页
采用溶胶 凝胶工艺 ,通过旋转涂膜法在玻片上制备有机阳离子染料掺杂薄膜 ,对制膜过程中薄膜的缺陷问题进行了详细的分析和研究 .结果表明 ,溶胶的组分比例、涂膜参数、凝胶干燥和热处理是造成缺陷的主要原因 .通过调整前驱组份配比、... 采用溶胶 凝胶工艺 ,通过旋转涂膜法在玻片上制备有机阳离子染料掺杂薄膜 ,对制膜过程中薄膜的缺陷问题进行了详细的分析和研究 .结果表明 ,溶胶的组分比例、涂膜参数、凝胶干燥和热处理是造成缺陷的主要原因 .通过调整前驱组份配比、控制涂膜参数和干燥过程及温度 ,获得了光学质量良好的有机染料薄膜 .借助高倍电子显微镜、紫外可见吸收光谱等分析测试手段 ,对薄膜的光学性质进行表征 . 展开更多
关键词 溶胶-凝胶 有机阳离子染料 制备工艺 旋转涂膜 有机染料波导薄膜 波导光学
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